JP6242108B2 - 粉粒体処理装置 - Google Patents

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Description

本発明は、粉体または粒体からなる材料(以下「粉粒体」と称する)の状態を管理しながら、後続の装置へ粉粒体を供給する粉粒体処理装置に関する。
従来、プラスチック製品の成形工程では、樹脂ペレット等の粉粒体を貯留槽内に貯留して乾燥させ、乾燥後の粉粒体を射出成形機へ供給する粉粒体処理装置が用いられる。この種の粉粒体処理装置では、乾燥前の粉粒体を貯留槽に投入し、当該貯留槽において、または他の貯留槽へ粉粒体を搬送して、粉粒体を乾燥させる。粉粒体の乾燥は、例えば、貯留槽内に加熱された気体を供給することにより、行われる。
従来の粉粒体処理装置については、例えば特許文献1に記載されている。
特開平7−68552号公報
粉粒体を貯留槽へ投入するときには、貯留槽の上部に設けられた蓋部を取り外して、貯留槽の内部へ粉粒体を流し込む。このため、従来の粉粒体処理装置では、粉粒体の投入とともに、開放された貯留槽の上部から貯留槽の内部へ外気が混入する場合があった。外気の湿度は、季節や天気により大きく変化する。したがって、貯留槽内に湿度の高い外気が混入し、それにより、粉粒体が水分を吸収して、粉粒体の初期水分率が高まる虞があった。
本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、貯留槽へ投入される粉粒体の吸湿を抑制できる粉粒体処理装置を提供することを目的とする。
本願の第1発明は、粉粒体処理装置であって、樹脂である粉粒体を貯留する第1貯留槽と、前記第1貯留槽内に不活性ガスを導入する第1ガス導入部と、前記第1貯留槽より搬送方向下流側に位置する第2貯留槽と、前記第1貯留槽と前記第2貯留槽とを繋ぐ搬送管と、前記搬送管内に、前記第1貯留槽から前記第2貯留槽へ向かう気流を発生させる気流発生手段と、前記第2貯留槽内の粉粒体を熱風乾燥させる乾燥手段と、前記第2貯留槽の底部から下方へ向けて延び、その下端部が成形機に接続される排出管と、を備え、前記第1貯留槽は、上部に開口を有する有底筒状の貯留槽本体と、前記貯留槽本体の前記開口を閉鎖する蓋部と、を有し、前記第1ガス導入部は、前記貯留槽本体側壁に設けられた導入口に接続されたガス導入配管を有する。
本願の第2発明は、第1発明の粉粒体処理装置であって、前記第1ガス導入部から導入される不活性ガスにより、前記第1貯留槽内の気圧が外気圧より高くなる。
本願の第発明は、第発明または第発明の粉粒体処理装置であって、前記排出管内に不活性ガスを導入する第2ガス導入部、をさらに備える。
本願の第発明は、第発明から第発明までのいずれかの粉粒体処理装置であって、前記第2貯留槽の上部に設置された搬送ホッパと、一方の端部が前記搬送ホッパに接続され、他方の端部が前記搬送管に接続された循環ラインと、をさらに有し、前記第1ガス導入部から導入された不活性ガスが、前記循環ラインにおいて循環される。
本願の第1発明〜第6発明によれば、蓋部を開放した状態でも、ガス導入配管から貯留槽本体の内部へ不活性ガスを導入することができる。したがって、蓋部を開放して貯留槽本体の内部へ粉粒体を投入するときに、貯留槽本体の内部に外気が混入することを抑制できる。したがって、粉粒体の吸湿を抑制できる。
また、本願の第1発明〜第6発明によれば、第1貯留槽において乾燥前の粉粒体の吸湿を抑制し、その後、第2貯留槽において粉粒体を乾燥させる。これにより、粉粒体の水分率を、目標となる水分率まで安定的に低下させることができる。また、粉粒体の酸化も抑制できる。
また、本願の第1発明〜第6発明によれば、第1貯留槽内に不活性ガスを導入することで、第1貯留槽内の圧力低下を抑制する。このため、第1貯留槽と第2貯留槽とを繋ぐ搬送管において粉粒体を気力搬送し、かつ、第1貯留槽内への外気の侵入を抑制できる。したがって、粉粒体の吸湿をより抑制できる。
特に、本願の第2発明によれば、第1貯留槽内への外気の侵入を、より抑制できる。
特に、本願の第発明によれば、排出管内に不活性ガスを導入することにより、乾燥処理後の粉粒体の吸湿および酸化を防止できる。
特に、本願の第発明によれば、気体を循環させることにより、搬送管内の気体の湿度および酸素濃度を、低い状態に保つことができる。したがって、搬送管内における粉粒体の吸湿を、より抑制できる。
粉粒体処理装置の構成を示した図である。 粉粒体処理装置の制御系の構成を示すブロック図である。 粉粒体処理装置における処理の一例を示したフローチャートである。 乾燥処理時の樹脂ペレットの水分率の変化の例を示したグラフである。 変形例に係る粉粒体処理装置の構成を示した図である。
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
<1.粉粒体処理装置の構成>
図1は、本発明の一実施形態に係る粉粒体処理装置1の構成を示した図である。この粉粒体処理装置1は、粉粒体である樹脂ペレット9を乾燥させて、乾燥後の樹脂ペレット9を後続の射出成形機2へ供給する装置である。図1に示すように、本実施形態の粉粒体処理装置1は、第1貯留槽10、第2貯留槽20、搬送管30、搬送用循環ライン40、乾燥用循環ライン50、第1ガス導入部60、第2ガス導入部70、および制御部80を有する。
第1貯留槽10は、乾燥前の樹脂ペレット9を内部に貯留する容器である。第1貯留槽10は、上部に開口110を有する有底円筒状の貯留槽本体11と、貯留槽本体11の上部に載置された蓋部12とを有する。貯留槽本体11は、略円筒状の側壁111と、側壁111の下端部から下方へ向かうにつれて徐々に収束する漏斗状の底部112とを有する。貯留槽本体11の内部には、樹脂ペレット9を貯留するための空間が、設けられている。蓋部12は、貯留槽本体11の上部の開口110を閉鎖する。また、蓋部12を取り外すと、貯留槽本体11の上部が開放され、開口110を介して貯留槽本体11の内部に、樹脂ペレット9を投入することができる。
第2貯留槽20は、第1貯留槽10より搬送方向下流側において、樹脂ペレット9を内部に貯留する容器である。第2貯留槽20は、略円筒状の側壁21と、側壁21の下端部から下方へ向かうにつれて徐々に収束する漏斗状の底部22と、第2貯留槽20の上部を覆う天板部23とを有する。第2貯留槽20の内部には、樹脂ペレット9を貯留して乾燥させるための空間が、設けられている。
第2貯留槽20の上部には、搬送ホッパ24が設置されている。搬送ホッパ24は、第2貯留槽20への樹脂ペレット9の供給時に、樹脂ペレット9を一時的に収容する容器である。搬送ホッパ24は、第2貯留槽20の天板部23に設けられた開閉可能な投入口231を介して、第2貯留槽20と接続されている。また、搬送ホッパ24の側部には、搬送管30の下流側の端部が接続されている。
一方、第2貯留槽20の下部には、第2貯留槽20から樹脂ペレット9を排出するための排出管25が、接続されている。排出管25は、第2貯留槽20の底部22に設けられた排出口221から、下方へ向けて延びている。排出管25の下流側の端部は、射出成形機2に接続される。また、排出管25には、弁体261の移動により排出口221の開閉を切り替える排出弁26が設けられている。弁体261は、排出口221を閉鎖する状態と、排出管25の側部に設けられた退避空間262へ退避して排出口221を開放する状態と、の間で進退移動可能となっている。
搬送管30は、第1貯留槽10と第2貯留槽20との間において、樹脂ペレット9を搬送するための配管である。搬送管30の搬送方向上流側の端部は、第1貯留槽10の底部112に設けられた排出口113に、接続されている。一方、搬送管30の搬送方向下流側の端部は、搬送ホッパ24の側部に接続されている。すなわち、第1貯留槽10と第2貯留槽20とは、搬送管30および搬送ホッパ24によって、繋がれている。第1貯留槽10から排出された樹脂ペレット9は、搬送管30内に生じる気流によって、搬送ホッパ24へ搬送される。
搬送用循環ライン40は、搬送管30内に搬送ホッパ24側へ向かう気流を発生させるために、気体を循環させる配管系である。搬送用循環ライン40の一方の端部は、搬送ホッパ24の上部に接続されている。また、搬送用循環ライン40の他方の端部は、搬送管30に接続されている。搬送用循環ライン40と搬送ホッパ24との接続部には、パンチングメタルプレート241が設けられている。パンチングメタルプレート241は、樹脂ペレット9の通過を規制するとともに、空気の通過を許容する複数の貫通孔を有する。また、搬送用循環ライン40の経路途中には、フィルタ41および搬送ブロワ42が設けられている。
搬送ブロワ42を動作させると、図1中に矢印A1で示したように、搬送用循環ライン40に、搬送ホッパ24から搬送管30へ向かう気流が発生する。そうすると、図1中に矢印A2で示したように、搬送管30の内部に、第1貯留槽10から搬送ホッパ24へ向かう気流が発生する。第1貯留槽10から排出された樹脂ペレット9は、当該気流によって、搬送ホッパ24へ気力搬送される。
なお、搬送ホッパ24から搬送用循環ライン40へ吸い込まれた微細な粉塵は、フィルタ41に捕集される。また、搬送ホッパ24から搬送用循環ライン40への樹脂ペレット9の移動は、パンチングメタルプレート241により遮られる。このため、樹脂ペレット9は、搬送用循環ライン40側へ流れ込むことなく、搬送ホッパ24内に貯留される。
搬送ホッパ24内に樹脂ペレット9が貯留された後、気力搬送を停止し、投入口231を自動的に開放すると、搬送ホッパ24から投入口231を介して第2貯留槽20内へ、樹脂ペレット9が投入される。このように、第1貯留槽10から第2貯留槽20への樹脂ペレット9の気力搬送と、投入口231の開放とを繰り返すことにより、第2貯留槽20内に樹脂ペレット9が貯留される。
乾燥用循環ライン50は、第2貯留槽20内に乾燥用の熱風を供給するために、気体を循環させる配管系である。乾燥用循環ライン50の一方の端部は、第2貯留槽20の天板部23に設けられた吸引口232に、接続されている。乾燥用循環ライン50の他方の端部は、第2貯留槽20の側壁21を貫通して、第2貯留槽20の内部に配置された吹出口54に接続されている。また、乾燥用循環ライン50の経路途中には、フィルタ51、乾燥ブロワ52、およびヒータ53が、設けられている。
乾燥ブロワ52を動作させると、図1中に矢印A3で示したように、乾燥用循環ライン50に、吸引口232から吹出口54へ向かう気流が発生する。第2貯留槽20から乾燥用循環ライン50へ吸い込まれた微細な粉塵は、フィルタ51に捕集される。また、フィルタ51を通過した気体は、ヒータ53で加熱されることにより熱風となる。そして、当該熱風が、吹出口54から第2貯留槽20の内部へ吹き出される。なお、フィルタ51とヒータ53との間に、気体中に含まれる水分を吸着する吸着器が設けられていてもよい。
吹出口54から吹き出された熱風は、第2貯留槽20の内部に貯留された樹脂ペレット9の隙間を通って、第2貯留槽20内に拡散される。これにより、樹脂ペレット9が加熱され、樹脂ペレット9から水分が蒸発して、樹脂ペレット9が乾燥する。すなわち、第2貯留槽20内に拡散した気体が、樹脂ペレット9から水分を吸収する。また、吹出口54から吹き出される熱風と同量の吸湿した気体が、第2貯留槽20から吸引口232を通って、再び乾燥用循環ライン50へ吸引される。このように、本実施形態では、乾燥用循環ライン50が、第2貯留槽20内の樹脂ペレット9を乾燥させる乾燥手段として機能している。
第1ガス導入部60は、第1貯留槽10内に不活性ガスである窒素ガスを導入するための機構である。第1ガス導入部60は、窒素ガス発生器61およびガス導入配管62を有する。ガス導入配管62の上流側の端部は、窒素ガス発生器61に接続されている。ガス導入配管62の下流側の端部は、貯留槽本体11の側壁111に設けられた導入口114に接続されている。また、ガス導入配管62の経路途中には、開閉弁63が設けられている。なお、開閉弁63が省略され、それに代えて、流量調節弁が設けられていてもよい。
窒素ガス発生器61は、外気圧および第1貯留槽10内の気圧より陽圧の、乾燥した窒素ガスを発生させる。このため、開閉弁63を開放すると、窒素ガス発生器61からガス導入配管62を通って第1貯留槽10の内部に、陽圧の窒素ガスが供給される。すなわち、第1貯留槽10の内部に、窒素ガスが強制的に導入される。そうすると、当該窒素ガスにより、第1貯留槽10内の気圧が、外気圧より高くなる。したがって、第1貯留槽10の内部に、外気が侵入することを抑制できる。その結果、第1貯留槽10内に貯留された樹脂ペレット9の吸湿を抑制できる。
特に、この粉粒体処理装置1では、ガス導入配管62の下流側の端部が、蓋部12ではなく、貯留槽本体11に接続されている。このため、第1貯留槽10の蓋部12を取り外した状態でも、ガス導入配管62から貯留槽本体11の内部に、窒素ガスを導入することができる。例えば、貯留槽本体11に樹脂ペレット9を投入するときに、ガス導入配管62から貯留槽本体11の内部へ、窒素ガスを導入し続けることができる。これにより、樹脂ペレット9の投入時に、開口110を介して貯留槽本体11の内部へ外気が侵入することを抑制できる。したがって、材料投入時における樹脂ペレット9の吸湿を抑制できる。
また、搬送管30において樹脂ペレット9を気力搬送すると、第1貯留槽10内の気体の一部が、搬送管30へ吸い出される。このため、第1貯留槽10内の圧力が低下しやすい。しかしながら、この粉粒体処理装置1では、第1貯留槽10内に窒素ガスを導入することによって、第1貯留槽10内の圧力低下を抑制することができる。したがって、樹脂ペレット9を気力搬送しつつ、第1貯留槽10内に外気が侵入することを、抑制できる。その結果、第1貯留槽10内に貯留された樹脂ペレット9の吸湿を、より抑制できる。
第2ガス導入部70は、排出管25内に不活性ガスである窒素ガスを導入するための機構である。第2ガス導入部70は、窒素ガス発生器71およびガス導入配管72を有する。ガス導入配管72の上流側の端部は、窒素ガス発生器71に接続されている。ガス導入配管72の下流側の端部は、排出管25の側部に設けられた退避空間262に接続されている。また、ガス導入配管72の経路途中には、開閉弁73が設けられている。なお、開閉弁73が省略され、それに代えて、流量調節弁が設けられていてもよい。
窒素ガス発生器71は、外気圧および排出管25内の気圧より陽圧の、乾燥した窒素ガスを発生させる。このため、開閉弁73を開放すると、窒素ガス発生器71からガス導入配管72を通って排出管25の内部に、陽圧の窒素ガスが供給される。すなわち、排出管25の内部に、窒素ガスが強制的に導入される。そうすると、当該窒素ガスにより、排出管25内の気圧が、外気圧および射出成形機2内の圧力より高くなる。したがって、射出成形機2内の気体が排出管25へ逆流することを抑制できる。また、第2貯留槽20内において乾燥された樹脂ペレット9が、排出管25の内部において吸湿および酸化することを、抑制できる。
特に、排出管25内の温度は、熱風が供給される第2貯留槽20内の温度よりも低い。このため、第2貯留槽20から排出管25へ排出された樹脂ペレット9は、温度の低下とともに水分および他の気体成分を吸収しやすい。しかしながら、この粉粒体処理装置1では、第2ガス導入部70から排出管25に乾燥された窒素ガスを導入することで、排出管25内の湿度および酸素濃度を低下させる。これにより、乾燥処理後の樹脂ペレット9の吸湿および酸化を抑制する。
本実施形態の粉粒体処理装置1では、第1貯留槽10から搬送管30、搬送ホッパ24、および第2貯留槽20を経て排出管25へ至る樹脂ペレット9の搬送経路が、略密閉系となっている。第1ガス導入部60から窒素ガスを導入し続けると、当該窒素ガスは、第1貯留槽10の内部に充填されるとともに、搬送管30へ流れ込み、搬送管30および搬送用循環ライン40において循環される。また、第2ガス導入部60から窒素ガスを導入し続けると、当該窒素ガスは、排出管25の内部に充填されるとともに、第2貯留槽20へ流れ込み、第2貯留槽20および乾燥用循環ライン50において循環される。その結果、第1貯留槽10から搬送管30、搬送ホッパ24、および第2貯留槽20を経て排出管25へ至る樹脂ペレット9の搬送経路全体が、陽圧の窒素ガスで満たされる。これにより、外気の湿度や温度の影響を抑えて、樹脂ペレット9の水分率および酸化量を、装置全体として抑制することができる。
図2は、粉粒体処理装置1の制御系の構成を示すブロック図である。制御部80は、粉粒体処理装置1の各部を動作制御するための手段である。図2に示すように、制御部80は、上述した排出弁26、搬送ブロワ42、乾燥ブロワ52、ヒータ53、開閉弁63、および開閉弁73と、それぞれ電気的に接続されている。制御部80は、CPU等の演算処理部やメモリを有するコンピュータにより構成されていてもよく、あるいは、電子回路により構成されていてもよい。制御部80は、予め設定されたプログラムや外部からの入力信号に基づき、上記の各部を動作制御する。これにより、粉粒体処理装置1における樹脂ペレット9の処理が進行する。
なお、排出弁26、開閉弁63、および開閉弁73については、制御部80から切り離して、ユーザが手動で開閉操作を行うようにしてもよい。
<2.粉粒体処理装置の動作>
続いて、上述した粉粒体処理装置1における樹脂ペレット9の処理について、説明する。図3は、粉粒体処理装置1における処理の一例を示したフローチャートである。
この粉粒体処理装置1において、樹脂ペレット9を処理するときには、まず、第1貯留槽10から搬送管30、搬送ホッパ24、および第2貯留槽20を経て排出管25へ至る樹脂ペレット9の搬送経路全体に、窒素ガスを充填する(ステップS1)。具体的には、開閉弁63を開放して、第1ガス導入部60から第1貯留槽10内へ窒素ガスを導入するとともに、開閉弁73を開放して、第2ガス導入部70から排出管25内へ窒素ガスを導入する。これにより、第1貯留槽10、搬送管30、搬送ホッパ24、第2貯留槽20、および排出管25内の空気が、窒素ガスで置換される。
次に、第1貯留槽10内に樹脂ペレット9を投入する(ステップS2)。すなわち、第1貯留槽10の蓋部12を取り外し、貯留槽本体11の開口110を介して貯留槽本体11内へ、樹脂ペレット9を投入する。このとき、第1ガス導入部60からの窒素ガスの供給は継続されている。このため、貯留槽本体11内への外気の混入は抑制される。また、貯留槽10内に投入された樹脂ペレット9は、すぐに乾燥した窒素ガスの雰囲気下に置かれる。これにより、樹脂ペレット9の吸湿が抑制される。
樹脂ペレット9の投入が完了すると、再び蓋部12を載置して、貯留槽本体11の開口110を閉鎖する。そして、搬送ブロワ42を動作させて、搬送用循環ライン40および搬送管30に、窒素ガスの気流を発生させる。そうすると、第1貯留槽10の下部から排出された樹脂ペレット9が、搬送管30を通って、搬送ホッパ24へ気力搬送される(ステップS3)。このとき、搬送管30の内部は、陽圧の窒素ガスで満たされている。このため、気力搬送中における樹脂ペレット9の吸湿が抑制される。
搬送ホッパ24に貯留された樹脂ペレット9は、第2貯留槽20の投入口231が開放されることによって、第2貯留槽20内へ投入される。そして、第2貯留槽20の内部において、樹脂ペレット9の乾燥処理が行われる(ステップS4)。具体的には、乾燥ブロワ52およびヒータ53を動作させることにより、吹出口54から第2貯留槽20の内部に、窒素ガスの熱風が供給される。これにより、樹脂ペレット9から水分が蒸発し、樹脂ペレット9の水分率が目標値まで低下する。
所定時間の乾燥処理が終了すると、排出弁26が開放される。これにより、第2貯留槽20から排出管25を通って射出成形機2へ、樹脂ペレット9が排出される(ステップS5)。このとき、排出管25内の樹脂ペレット9の温度は、ステップS4の乾燥時より低下する。しかしながら、第2ガス導入部70から排出管25への窒素ガスの導入により、排出管25の内部が窒素ガスで満たされている。このため、乾燥後の樹脂ペレット9に再び水分および他の気体成分が吸着することは、抑制される。
以上のように、この粉粒体処理装置1では、第1貯留槽10に窒素ガスを供給することにより、樹脂ペレット9の吸湿を抑制する。すなわち、乾燥前の樹脂ペレット9の初期水分率を、予備的に管理する。その後、第2貯留槽20内で樹脂ペレット9を乾燥させることにより、樹脂ペレット9の水分率を目標値まで低下させる。これにより、外気の湿度や温度の影響を抑えて、樹脂ペレット9の水分率を精度よく管理する。また、樹脂ペレット9の酸化も抑制できる。
図4は、第2貯留槽20において乾燥処理を行う際の、樹脂ペレット9の水分率の変化の例を示したグラフである。図4に示すように、第2貯留槽20内で乾燥処理が進むと、乾燥時間の経過とともに樹脂ペレット9の水分率が低下する。したがって、図4中の曲線C1,C2のように、初期水分率の抑えられた樹脂ペレット9については、目標となる水分率Pまで低下させることができる。しかしながら、図4中の曲線C3のように、初期水分率が高すぎると、目標となる水分率Pまで到達させることができない、または、極端に長い乾燥時間が必要となる場合がある。
この点、本実施形態の粉粒体処理装置1では、上述の通り、第1貯留槽10において、乾燥前の樹脂ペレット9の吸湿を抑制することができる。これにより、樹脂ペレット9の初期水分率を抑えることができる。したがって、図4中の曲線C1,C2のように、樹脂ペレット9の水分率を、目標となる水分率Pまで安定的に低下させることができる。すなわち、常に安定した初期水分率で樹脂ペレット9の乾燥を行うことができるため、乾燥後に到達する水分率を安定化させることができる。
<3.変形例>
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。
図5は、一変形例に係る粉粒体処理装置1の構成を示した図である。図5の例では、第2貯留槽20、搬送管30、および搬送用循環ライン40が省略され、第1貯留槽10に乾燥用循環ライン50、排出管25、および第1ガス導入部60が接続されている。この粉粒体処理装置1では、第1貯留槽10に投入された樹脂ペレット9を、第2貯留槽20へ搬送することなく、第1貯留槽10内において乾燥させる。そして、乾燥後の樹脂ペレット9を、第1貯留槽10から排出管25を介して射出成形機2へ排出する。
このような構造であっても、貯留槽本体11に接続された第1ガス導入部60から窒素ガスを導入すれば、蓋部12を開放して貯留槽本体11の内部へ樹脂ペレット9を投入しつつ、貯留槽本体11内への外気の混入を抑制できる。したがって、粉粒体9の吸湿を抑制できる。
また、上記の実施形態では、第1ガス導入部60および第2ガス導入部70から、窒素ガスを導入していたが、窒素ガスに代えて、アルゴンガス等の他の不活性ガスを導入してもよい。また、第1ガス導入部および第2ガス導入部は、粉粒体処理装置の外部に設置された不活性ガス発生器から、不活性ガスを導入するものであってもよい。
また、上記実施形態の粉粒体処理装置1は、樹脂ペレット9に対して乾燥処理を行う装置であったが、本発明の粉粒体処理装置は、樹脂ペレットに対して乾燥以外の処理(例えば、撹拌や保温等)を行うものであってもよい。また、本発明の粉粒体処理装置は、単に樹脂ペレット9を貯留して後続の装置へ排出するものであってもよい。
また、本発明の粉粒体処理装置は、樹脂ペレット以外の粉粒体を処理対象とするものであってもよい。
また、粉粒体処理装置の細部の構成については、本願の図1または図5に示された構成と、相違していてもよい。
また、上記の実施形態や変形例に登場した各要素を、矛盾が生じない範囲で、適宜に組み合わせてもよい。
1 粉粒体処理装置
2 射出成形機
9 樹脂ペレット
10 第1貯留槽
11 貯留槽本体
12 蓋部
20 第2貯留槽
24 搬送ホッパ
25 排出管
26 排出弁
30 搬送管
40 搬送用循環ライン
41 フィルタ
42 搬送ブロワ
50 乾燥用循環ライン
51 フィルタ
52 乾燥ブロワ
53 ヒータ
54 吹出口
60 第1ガス導入部
61 窒素ガス発生器
62 ガス導入配管
63 開閉弁
70 第2ガス導入部
71 窒素ガス発生器
72 ガス導入配管
73 開閉弁
80 制御部

Claims (4)

  1. 樹脂である粉粒体を貯留する第1貯留槽と、
    前記第1貯留槽内に不活性ガスを導入する第1ガス導入部と、
    前記第1貯留槽より搬送方向下流側に位置する第2貯留槽と、
    前記第1貯留槽と前記第2貯留槽とを繋ぐ搬送管と、
    前記搬送管内に、前記第1貯留槽から前記第2貯留槽へ向かう気流を発生させる気流発生手段と、
    前記第2貯留槽内の粉粒体を熱風乾燥させる乾燥手段と、
    前記第2貯留槽の底部から下方へ向けて延び、その下端部が成形機に接続される排出管と、
    を備え、
    前記第1貯留槽は、
    上部に開口を有する有底筒状の貯留槽本体と、
    前記貯留槽本体の前記開口を閉鎖する蓋部と、
    を有し、
    前記第1ガス導入部は、前記貯留槽本体の側壁に設けられた導入口に接続されたガス導入配管を有する粉粒体処理装置。
  2. 請求項1に記載の粉粒体処理装置であって、
    前記第1ガス導入部から導入される不活性ガスにより、前記第1貯留槽内の気圧が外気圧より高くなる粉粒体処理装置。
  3. 請求項1または請求項2に記載の粉粒体処理装置であって、
    前記排出管内に不活性ガスを導入する第2ガス導入部、
    をさらに備えた粉粒体処理装置。
  4. 請求項1から請求項3までのいずれかに記載の粉粒体処理装置であって、
    前記第2貯留槽の上部に設置された搬送ホッパと、
    一方の端部が前記搬送ホッパに接続され、他方の端部が前記搬送管に接続された循環ラインと、
    をさらに有し、
    前記第1ガス導入部から導入された不活性ガスが、前記循環ラインにおいて循環される粉粒体処理装置。
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