JP6686889B2 - 液晶表示素子 - Google Patents

Description

本発明は、電圧無印加時に透過状態となり、電圧印加時に散乱状態となる透過散乱型の液晶表示素子に関するものである。

液晶材料を用いた液晶表示素子としては、ＴＮ（Twisted Nematic）モードが実用化されている。このモードでは、液晶の旋光特性を利用して、光のスイッチングを行うものであり、液晶表示素子として用いる際には、偏光板を用いる必要がある。しかし、偏光板を用いることで光の利用効率が低くなる。
偏光板を用いずに光の利用効率の高い液晶表示素子として、液晶の透過状態（透明状態ともいう）と散乱状態との間でスイッチングを行う液晶表示素子があり、一般的には、高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ（Polymer Dispersed Liquid Crystal）ともいう）や高分子ネットワーク型液晶（ＰＮＬＣ（Polymer Network Liquid Crystal）を用いたものが知られている。

これらを用いた液晶表示素子は、電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に紫外線により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、紫外線の照射により前記液晶組成物の硬化を行い、液晶層、すなわち液晶と重合性化合物の硬化物複合体（例えばポリマーネットワーク）を形成させてなる液晶表示素子である。この液晶表示素子は、電圧の印加により、液晶の透過状態と散乱状態とを制御する。

従来のＰＤＬＣやＰＮＬＣを用いた液晶表示素子は、電圧無印加時に液晶分子がランダムな方向を向いているため、白濁（散乱）状態となり、電圧印加時には液晶が電界方向に配列し、光を透過して透過状態となる液晶表示素子（ノーマル型素子ともいう）である。しかし、ノーマル型素子においては、透過状態を得るために常時電圧を印加しておく必要があるため、透明状態で使用される場合が多い用途、例えば窓ガラスなどで使用する場合には、消費電力が大きくなってしまう。

一方、電圧無印加時に透過状態となり、電圧印加時には散乱状態になるＰＤＬＣを用いた液晶表示素子（リバース型素子ともいう）が提案されている（例えば、特許文献１又は特許文献２参照）。

日本特許２８８５１１６号公報 日本特許４１３２４２４号公報

リバース型素子における液晶組成物中の重合性化合物は、ポリマーネットワークを形成させ、目的とする光学特性を得る役割と、液晶層と液晶配向膜（垂直液晶配向膜ともいう）との密着性を高める硬化剤としての役割がある。液晶配向膜との密着性を高めるためには、よりポリマーネットワークを密にする必要があるが、ポリマーネットワークを密にすると、液晶の垂直配向性を阻害し、リバース型素子の光学特性、すなわち、電圧無印加時の透明性と電圧印加時の散乱特性を悪化させてしまう問題がある。そのため、リバース型素子に用いる液晶組成物は、液晶層の形成時における液晶の垂直配向性が、高くなるものが必要となる。

加えて、リバース型素子に用いる液晶配向膜は、液晶を垂直に配向させるために疎水性が高い膜であることから、液晶層と液晶配向膜との密着性が低くなる問題がある。そのため、リバース型素子に用いる液晶組成物には、硬化剤の役割がある重合性化合物を多く導入しなければならない。しかし、重合性化合物を多く導入すると、液晶の垂直配向性が阻害され、電圧無印加時の透明性と電圧印加時の散乱特性が大きく低下する問題がある。そのため、リバース型素子に用いる液晶配向膜は、液晶の垂直配向性が高いものが必要となる。

本発明は、液晶の垂直配向性が高く、良好な光学特性、すなわち、電圧無印加時の透明性と電圧印加時の散乱特性が良好であり、かつ、液晶層と液晶配向膜との密着性が高い液晶表示素子を提供することを目的とする。

本発明者は、上記の目的を達成するため鋭意研究を進めた結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、電極を備えた一対の基板の間に、液晶及び重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、紫外線を照射して硬化させた液晶層を有し、かつ基板の少なくとも一方が液晶を垂直に配向させる液晶配向膜を備える液晶表示素子であって、前記液晶組成物が、下記の式［１］で示される化合物を含有する液晶組成物であり、かつ前記液晶配向膜が、下記の式［２−１］又は式［２−２］で示される側鎖構造を有する重合体を含む液晶配向処理剤から得られる液晶配向膜であることを特徴とする液晶表示素子である。

（Ｘ^１は、下記の式［１−ａ］〜式［１−ｇ］からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。Ｘ^２は単結合、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｘ^３は単結合又は−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）を示す。Ｘ^４は単結合、−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｘ^５はベンゼン環、シクロヘキサン環、又はステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の２価の有機基を示し、前記ベンゼン環又はシクロヘキサン環基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシ基又はフッ素原子で置換されていてもよい。Ｘ^６は単結合、−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｘ^７はベンゼン環又はシクロヘキサン環を示し、これらの環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシ基又はフッ素原子で置換されていてもよい。ｐは０〜４の整数を示す。Ｘ^８は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシ基及び炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。）

（Ｘ^Ａは、水素原子又はベンゼン環を示す。Ｘ^Ｂはベンゼン環、シクロへキサン環及び複素環からなる群から選ばれる少なくとも１種の環状基を示す。Ｘ^Ｃは炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシ基及び炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。）

（Ｙ^１及びＹ^３は、それぞれ独立して、単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｙ^２は単結合又は−（ＣＨ_２）_ｂ−（ｂは１〜１５の整数である）を示す。Ｙ^４はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の環状基、又はステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の２価の有機基を示し、前記環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシ基又はフッ素原子で置換されていてもよい。Ｙ^５はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環からなる群から選ばれる少なくとも１種の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシ基又はフッ素原子で置換されていてもよい。ｎは０〜４の整数を示す。Ｙ^６は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシ基及び炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。）

（Ｙ^７は単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｙ^８は炭素数８〜２２のアルキル基又は炭素数６〜１８のフッ素含有アルキル基を示す。）

本発明によれば、良好な光学特性、すなわち、電圧無印加時の透明性と電圧印加時の散乱特性が良好であり、かつ、液晶層と液晶配向膜との密着性が高いリバース型素子を提供することができる。本発明により何故に上記の優れた特性を有する液晶表示素子が得られるメカニズムは、必ずしも明らかではないが、ほぼ次のように推定される。
本発明に使用される液晶組成物は、液晶、重合性化合物及び前記式［１］で示される化合物を含有する。式［１］で示される特定化合物は、ベンゼン環やシクロヘキサン環といった剛直構造の部位と、式［１］中のＸ^１で示される紫外線により重合反応する部位とを有する。そのため、かかる特定化合物を液晶組成物中に含めると、特定化合物の剛直構造の部位が、液晶の垂直配向性を高め、更に、重合反応する部位と重合性化合物とが反応することで、液晶の垂直配向性の安定性を高めることができる。これにより、液晶配向膜との密着性を高めるためにポリマーネットワークが密になった場合でも、液晶の垂直配向性を阻害せず、良好な光学特性を発現するリバース型素子が得られる。

また、本発明で使用される液晶配向膜は、前記式［２−１］又は式［２−２］で示される側鎖構造を有する重合体を含有する液晶配向処理剤から得られる。特に式［２−１］で示される特定側鎖構造は、剛直な構造を示すことから、この側鎖構造を有する液晶配向膜を用いた液晶表示素子は、高くて安定な液晶の垂直配向性を得ることができる。そのため、特に、式［２−１］で示される特定側鎖構造を用いた場合は、良好な光学特性を発現するリバース型素子が得られる。
かくして、本発明における液晶組成物、及び特定側鎖構造を有する特定重合体を含有する液晶配向処理剤から得られる液晶配向膜を備える液晶表示素子は、良好な光学特性、すなわち、電圧無印加時の透明性と電圧印加時の散乱特性が良好で、更には、液晶層と液晶配向膜との密着性が高いリバース型素子となる。

＜液晶表示素子＞
本発明の液晶表示素子は、電極を備えた一対の基板の間に、液晶及び重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、該液晶組成物に対して、紫外線照射装置により紫外線を照射して硬化させた液晶層を有し、かつ基板の少なくとも一方が液晶を垂直に配向させるような液晶配向膜を備える液晶表示素子であり、電圧無印加時に透過状態となり、電圧印加時には散乱状態になるリバース型素子として、好適に用いることができる。

本発明における液晶組成物は、液晶と紫外線により重合する重合性化合物を含有し、この重合性化合物が、ポリマーネットワーク（硬化性樹脂）を形成する役割を担う。また、前記の液晶層は、液晶と重合性化合物の硬化物複合体であり、ここでの硬化物複合体とは、上述した通り、例えば、重合性化合物により形成されたポリマーネットワーク中に液晶が存在しているような状態を意味する。

＜特定化合物・液晶組成物＞
本発明における液晶組成物は、液晶、重合性化合物及び下記式［１］で示される特定化合物を含有する液晶組成物である。
特定化合物は、下記の式［１］で示される化合物である。

式［１］中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５、Ｘ^６、Ｘ^７、Ｘ^８及びｐは、上記に定義した通りであるが、なかでも、それぞれ、下記のものが好ましい。

Ｘ^１は、液晶表示素子の光学特性の点から、前記式［１−ａ］、式［１−ｂ］、式［１−ｃ］又は式［１−ｅ］が好ましい。より好ましいのは、式［１−ａ］、式［１−ｂ］又は式［１−ｃ］である。
Ｘ^２は、原料の入手性や合成の容易さの点から、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−が好ましい。より好ましいのは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−である。Ｘ^３は、単結合又は−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１０の整数である）が好ましい。より好ましいのは、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１０の整数である）である。Ｘ^４は、原料の入手性や合成の容易さの点から、単結合、−Ｏ−又は−ＣＯＯ−が好ましい。より好ましいのは、−Ｏ−である。

Ｘ^５は、液晶表示素子の光学特性の点から、ベンゼン環又はシクロヘキサン環、又はステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の２価の有機基が好ましい。より好ましいのは、ベンゼン環又はステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の２価の有機基である。Ｘ^６は、合成の容易さの点から、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−が好ましい。より好ましいのは、単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−である。
Ｘ^７は、液晶表示素子の光学特性の点から、ベンゼン環又はシクロヘキサン環が好ましい。Ｘ^８は、液晶表示素子の光学特性の点から、炭素数１〜１８のアルキル基又は炭素数１〜１８のアルコキシ基が好ましい。より好ましいのは、炭素数１〜１２のアルキル基である。ｐは、原料の入手性や合成の容易さの点から、０〜２の整数が好ましい。
式［１］における好ましいＸ^１〜Ｘ^８及びｐの組み合わせは、下記の表１〜表９に示される。

なかでも、液晶表示素子の光学特性の点から、（１−１ａ）〜（１−１２ａ）、（１−１３ａ）、（１−１４ａ）、（１−１７ａ）、（１−１８ａ）、（１−２１ａ）、（１−２２ａ）、（１−２５ａ）〜（１−３８ａ）、（１−４１ａ）、（１−４２ａ）、（１−４５ａ）、（１−４６ａ）、（１−４９ａ）〜（１−９６ａ）又は（１−１２１ａ）〜（１−１３０ａ）の組み合わせが好ましい。

より好ましいのは、（１−１ａ）〜（１−４ａ）、（１−９ａ）、（１−１２ａ）、（１−２５ａ）〜（１−２８ａ）、（１−３３ａ）、（１−３６ａ）、（１−４９ａ）〜（１−５２ａ）、（１−６１ａ）〜（１−６４ａ）、（１−８５ａ）〜（１−８８ａ）、（１−１２１ａ）、（１−１２２ａ）、（１−１２５ａ）又は（１−１２６ａ）の組み合わせである。

特に好ましいのは、（１−３ａ）、（１−４ａ）、（１−９ａ）、（１−１０ａ）、（１−２７ａ）、（１−２８ａ）、（１−３３ａ）、（１−３４ａ）、（１−４９ａ）〜（１−５２ａ）、（１−６１ａ）〜（１−６４ａ）、（１−８５ａ）〜（１−８８ａ）、（１−１２１ａ）、（１−１２２ａ）、（１−１２５ａ）又は（１−１２６ａ）の組み合わせである。

より具体的な特定化合物としては、下記の式［１ａ−１］〜式［１ａ−６］で示される化合物が挙げられ、これらを用いることが好ましい。

式［１ａ−１］〜式［１ａ−６］中、Ｘ^ａ〜Ｘ^ｋ、及びｐ１〜ｐ９は、上記に定義した通りであるが、なかでも、それぞれ、下記のものが好ましい。
Ｘ^ａ、Ｘ^ｂ、Ｘ^ｄ、Ｘ^ｆ、Ｘ^ｈ及びＸ^ｋは、それぞれ独立に、液晶表示素子の光学特性の点から、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数１〜１２のアルコキシ基が好ましい。より好ましいのは、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数１〜８のアルコキシ基である。Ｘ^ｃ及びＸ^ｉは、それぞれ独立に、原料の入手性や合成の容易さの点から、−Ｏ−又は−ＣＯＯ−が好ましい。Ｘ^ｅ、Ｘ^ｇ及びＸ^ｊは、それぞれ独立に、原料の入手性や合成の容易さの点から、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−が好ましい。ｐ１、ｐ３、ｐ５、ｐ７、ｐ８及びｐ９は、それぞれ独立に、１〜１０の整数が好ましい。より好ましいのは、液晶表示素子の光学特性の点から、１〜８の整数である。ｐ２、ｐ４及びｐ６は、それぞれ独立に、１又は２の整数が好ましい。

液晶組成物中の特定化合物の使用割合は、液晶表示素子の光学特性の点から、液晶及び重合性化合物の合計１００質量部に対して、０．１〜２０質量部であることが好ましい。より好ましいのは、０．５〜１５質量部であり、特に好ましいのは、１〜１０質量部である。
また、これら特定化合物は、液晶表示素子の光学特性や液晶層と液晶配向膜との密着性の特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合しても使用できる。
液晶組成物中の液晶には、ネマチック液晶、スメクチック液晶又はコレステリック液晶を用いることができる。なかでも、負の誘電異方性を有するものが好ましい。また、低電圧駆動及び散乱特性の点からは、誘電率の異方性が大きく、屈折率の異方性が大きいものが好ましい。また、前記の相転移温度、誘電率異方性及び屈折率異方性の各物性値に応じて、２種類以上の液晶を混合して用いることができる。

液晶表示素子をＴＦＴ（Thin Film Transistor）などの能動素子として駆動させるためには、液晶の電気抵抗が高くて電圧保持率（ＶＨＲともいう）が高いことが求められる。そのため、液晶には、電気抵抗が高くて紫外線などの活性エネルギー線によりＶＨＲが低下しないフッ素系や塩素系の液晶を用いることが好ましい。
更に、液晶表示素子には、液晶組成物中に二色性染料を溶解させてゲストホスト型の素子とすることもできる。この場合には、電圧無印加時は透明で、電圧印加時に吸収（散乱）となる素子が得られる。また、この液晶表示素子では、液晶のダイレクターの方向（配向の方向）は、電圧印加の有無により９０度変化する。そのため、この液晶表示素子は、二色性染料の吸光特性の違いを利用することで、ランダム配向と垂直配向でスイッチングを行う従来のゲストホスト型の素子に比べて、高いコントラストが得られる。また、二色性染料を溶解させたゲストホスト型の素子では、液晶が水平方向に配向した場合に有色になり、散乱状態においてのみ不透明となる。そのため、電圧を印加するにつれ、電圧無印加時の無色透明から有色不透明、有色透明の状態に切り替わる素子を得ることもできる。

液晶組成物中の重合性化合物としては、紫外線により重合反応して液晶組成物の硬化物複合体（例えばポリマーネットワークのようなもの）、すなわち、液晶層を形成することができるものであれば良い。その際、重合性化合物のモノマーを液晶組成物中に導入しても良く、あるいは、予めこのモノマーを重合反応させたポリマーを液晶組成物中に導入しても良い。ただし、ポリマーとした場合でも、紫外線により重合反応する部位を有する必要がある。より好ましくは、液晶組成物の取り扱い、すなわち液晶組成物の高粘度化の抑制や液晶への溶解性の点から、液晶組成物中にモノマーを導入して、液晶表示素子作製時の紫外線の照射により、重合反応をさせて硬化物を形成する方法が好ましい。

重合性化合物は、液晶に溶解する化合物が好ましい。ただし、重合性化合物を液晶に溶解した際に、液晶組成物の一部又は全体が液晶相を示す温度が存在することが好ましい。液晶組成物の一部が液晶相を示す場合であっても、肉眼で確認して、液晶素子内全体が、ほぼ一様な透明性と散乱特性が得られるのが好ましい。
重合性化合物は、紫外線により重合反応が起こる化合物であれば良く、その際、どのような反応形式で重合が進み、液晶組成物の硬化物を形成させても良い。具体的な反応形式としては、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合又は重付加反応が挙げられる。なかでも、ラジカル重合が好ましい。その際、重合性化合物としては、下記のラジカル型の重合性化合物（モノマー）及びそのオリゴマーを用いることができる。また、前記の通り、これらのモノマーを重合反応させたポリマーを用いることもできる。

単官能重合性化合物（単官能モノマーともいう）としては、例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、ブチルエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、グリシジルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソデシルアクリレート、ラウリルアクリレート、モルホリンアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ブチルエチルメタクリレート、ブトキシエチルメタクリレート、２−シアノエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、モルホリンメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルメタクリレート又は２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルメタクリレート、及びこれらのオリゴマーなどが挙げられる。

二官能重合性化合物（二官能モノマーともいう）としては、例えば、４，４’−ビフェニルジアクリレート、ジエチルスチルべストロールジアクリレート、１，４−ビスアクリロイルオキシベンゼン、４，４’−ビスアクリロイルオキシジフェニルエーテル、４，４’−ビスアクリロイルオキシジフェニルメタン、３，９−［１，１−ジメチル−２−アクリロイルオキシエチル］−２，４，８，１０−テトラスピロ［５，５］ウンデカン、α，α’−ビス［４−アクリロイルオキシフェニル］−１，４−ジイソプロピルベンゼン、１，４−ビスアクリロイルオキシテトラフルオロベンゼン、４，４’−ビスアクリロイルオキシオクタフルオロビフェニル、ジエチレングリコールアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレート、グリセロールジアクリレート、１，６−へキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート又はポリプロピレングリコールジメタクリレート、及びこれらのオリゴマーなどが挙げられる。

多官能重合性化合物（多官能モノマーともいう）としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、４，４’−ジアクリロイルオキシスチルベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジメチルスチルベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジエチルスチルベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジプロピルスチルベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジブチルスチルベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジペンチルスチルベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジヘキシルスチルベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジフルオロスチルベン、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロペンタンジオール−１，５−ジアクリレート、１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロプロピル−１，３−ジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジメタクリレート、１，６−へキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタメタクリレート又は２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロペンタンジオール−１，５−ジメタクリレート、及びこれらのオリゴマーなどが挙げられる。

これらラジカル型の重合性化合物は、液晶表示素子の光学特性や液晶層と液晶配向膜との密着性の特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することもできる。液晶組成物の硬化物複合体の形成を促進させるため、液晶組成物中には重合性化合物のラジカル重合を促進させる目的で、紫外線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（重合開始剤ともいう）を導入することが好ましい。

例えば、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−ｉｓｏ−ブタレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルジオキシ）へキサン、１，４−ビス［α−（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−ｉｓｏ−プロポキシ］ベンゼン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）へキセンヒドロペルオキシド、α−（ｉｓｏ−プロピルフェニル）−ｉｓｏ−プロピルヒドロペルオキシド、２，５−ジメチルへキサン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロへキサン、ブチル−４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）バレレート、シクロへキサノンペルオキシド、２，２’，５，５’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）−４，４’−ジカルボキシベンゾフェノン、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジペルオキシイソフタレートなどの有機過酸化物や、９，１０−アントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノンなどのキノン類、ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾインなどのベンゾイン誘導体などが挙げられる。

これらラジカル開始剤は、液晶表示素子の光学特性や液晶層と液晶配向膜との密着性の特性に応じて、１種又は２種以上を混合して使用することもできる。
重合性化合物としては、下記のイオン型の重合性化合物を用いることもできる。具体的には、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基及び低級アルコキシアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の架橋形成基を有する化合物である。

より具体的には、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基及び低級アルコキシアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を有する架橋性化合物としては、具体的には、ＷＯ（国際公開公報、以下同じ。）２０１３／１２５５９５（２０１３．８．２９公開）の３９頁〜４０頁に記載されるメラミン誘導体又はベンゾグアナミン誘導体、ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の６２頁〜６６頁に掲載される、式［６−１］〜式［６−４８］で示される架橋性化合物が挙げられる。

また、イオン型の重合性化合物としては、エポキシ基やイソシアネート基を含み架橋形成基を有する化合物を用いることもできる。具体的には、ＷＯ２０１３／１２５５９５（２０１３．８．２９公開）の３７頁〜３８頁に記載されるエポキシ基又はイソシアネート基を有する架橋性化合物が挙げられる。

イオン型の重合性化合物を用いた場合、その重合反応を促進させることを目的に、紫外線により酸又は塩基を発生するイオン開始剤を導入することもできる。
具体的には、例えば、トリアジン系化合物、アセトフェノン誘導体化合物、ジスルホン系化合物、ジアゾメタン系化合物、スルホン酸誘導体化合物、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、トリアリールホスホニウム塩、鉄アレーン錯体などを用いることができるが、これらに限定されるものではない。より具体的には、例えば、ジフェニルヨードニウムクロライド、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムメシレート、ジフェニルヨードニウムトシレート、ジフェニルヨードニウムブロミド、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムメシレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトシレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムクロリド、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウムクロライド、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムクロリド、トリフェニルスルホニウムブロミド、トリ（ｐ−メトキシフェニル）スルホニウムテトラフルオロボレート、トリ（ｐ−メトキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリ（ｐ−エトキシフェニル）スルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルホスホニウムクロリド、トリフェニルホスホニウムブロミド、トリ（ｐ−メトキシフェニル）ホスホニウムテトラフルオロボレート、トリ（ｐ−メトキシフェニル）ホスホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリ（ｐ−エトキシフェニル）ホスホニウムテトラフルオロボレート、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニルへキサン−１，６−ジアミン］、ニトロベンジルシクロへキシルカルバメート、ジ（メトキシベンジル）ヘキサメチレンジカルバメート、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニルへキサン−１，６−ジアミン］、ニトロベンジルシクロへキシルカルバメート又はジ（メトキシベンジル）ヘキサメチレンジカルバメートなどが挙げられる。

＜特定側鎖構造＞
本発明の特定側鎖構造は、下記式［２−１］又は式［２−２］で示される。

式［２−１］中、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、Ｙ^４、Ｙ^５、Ｙ^６及びｎは、上記に定義した通りであるが、なかでも、それぞれ、下記のものが好ましい。
Ｙ^１は、原料の入手性や合成の容易さの点から、単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−又は−ＣＯＯ−が好ましい。より好ましいのは、単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１０の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−又は−ＣＯＯ−である。Ｙ^２は、単結合又は−（ＣＨ_２）_ｂ−（ｂは１〜１０の整数である）が好ましい。Ｙ^３は、合成の容易さの点から、単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−又は−ＣＯＯ−が好ましい。より好ましいのは、単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１０の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−又は−ＣＯＯ−である。Ｙ^４は、合成の容易さの点から、ベンゼン環、シクロへキサン環又はステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の有機基が好ましい。

Ｙ^５は、ベンゼン環又はシクロへキサン環が好ましい。Ｙ^６は、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１０のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシ基又は炭素数１〜１０のフッ素含有アルコキシ基が好ましい。より好ましくは、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数１〜１２のアルコキシ基である。特に好ましくは、炭素数１〜９のアルキル基又は炭素数１〜９のアルコキシ基である。ｎは、原料の入手性や合成の容易さの点から、０〜３が好ましく、０〜２がより好ましい。

Ｙ^１〜Ｙ^６及びｎの好ましい組み合わせは、ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の１３頁〜３４頁の表６〜表４７に掲載される（２−１）〜（２−６２９）と同じ組み合わせが挙げられる。なお、国際公開公報の各表では、本発明におけるＹ^１〜Ｙ^６が、Ｙ１〜Ｙ６として示されているが、Ｙ１〜Ｙ６は、Ｙ^１〜Ｙ^６と読み替えるものとする。また、国際公開公報の各表に掲載される（２−６０５）〜（２−６２９）では、本発明におけるステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の有機基が、ステロイド骨格を有する炭素数１２〜２５の有機基と示されているが、ステロイド骨格を有する炭素数１２〜２５の有機基は、ステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の有機基と読み替えるものとする。

なかでも、（２−２５）〜（２−９６）、（２−１４５）〜（２−１６８）、（２−２１７）〜（２−２４０）、（２−２６８）〜（２−３１５）、（２−３６４）〜（２−３８７）、（２−４３６）〜（２−４８３）、（２−６０３）〜(２−６１５)又は（２−６２４）の組み合わせが好ましい。特に好ましい組み合わせは、（２−４９）〜（２−９６）、（２−１４５）〜（２−１６８）、（２−２１７）〜（２−２４０）、（２−６０３）〜（２−６０６）、（２−６０７）〜（２−６０９）、（２−６１１）、（２−６１２）又は（２−６２４）である。

式［２−２］中、Ｙ^７及びＹ^８は、上記に定義した通りであるが、なかでも、それぞれ、下記のものが好ましい。
Ｙ^７は、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−又は−ＣＯＯ−が好ましい。より好ましくは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＮＨ−又は−ＣＯＯ−である。Ｙ^８は、炭素数８〜１８のアルキル基が好ましい。
本発明における特定側鎖構造は、上述の通り、高くて安定な液晶の垂直配向性を得ることができる点から、式［２−１］で示される特定側鎖構造を用いることが好ましい。

＜特定重合体＞
特定側鎖構造を有する特定重合体としては、特に限定されないが、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、セルロース及びポリシロキサンからなる群から選ばれる少なくとも１つの重合体であることが好ましい。より好ましいのは、ポリイミド前駆体、ポリイミド又はポリシロキサンである。
特定重合体にポリイミド前駆体又はポリイミド（総称してポリイミド系重合体ともいう。）を用いる場合、それらは、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを反応させて得られるポリイミド前駆体又はポリイミドであることが好ましい。

ポリイミド前駆体とは、下記の式［Ａ］で示される構造を有する。

（Ｒ^１は４価の有機基を示す。Ｒ^２は２価の有機基を示す。Ａ^１及びＡ^２はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を示す。Ａ^３及びＡ^４はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又はアセチル基を示す。ｎは正の整数を示す。）

前記ジアミン成分としては、分子内に１級又は２級のアミノ基を２個有するジアミンであり、テトラカルボン酸成分としては、テトラカルボン酸化合物、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸ジハライド化合物、テトラカルボン酸ジアルキルエステル化合物又はテトラカルボン酸ジアルキルエステルジハライド化合物が挙げられる。
ポリイミド系重合体は、下記の式［Ｂ］で示されるテトラカルボン酸二無水物と下記の式［Ｃ］で示されるジアミンとを原料とすることで、比較的簡便に得られるという理由から、下記の式［Ｄ］で示される繰り返し単位の構造式から成るポリアミド酸又は該ポリアミド酸をイミド化させたポリイミドが好ましい。

（Ｒ^１及びＲ^２は、式［Ａ］で定義したものと同意義である。）

（Ｒ^１及びＲ^２は、式［Ａ］で定義したものと同意義である。）

また、通常の合成手法で、上記で得られた式［Ｄ］の重合体に、式［Ａ］で示されるＡ^１及びＡ^２の炭素数１〜８のアルキル基、及び式［Ａ］で示されるＡ^３及びＡ^４の炭素数１〜５のアルキル基又はアセチル基を導入することもできる。
前記の特定側鎖構造をポリイミド系重合体に導入する方法としては、特定側鎖構造を有するジアミンを原料の一部に用いることが好ましい。特に下記の式［２ａ］で示されるジアミン（特定側鎖型ジアミンともいう）を用いることが好ましい。

式［２ａ］中、Ｙは前記式［２−１］又は式［２−２］で示される構造を示す。
また、式［２−１］におけるＹ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、Ｙ^４、Ｙ^５、Ｙ^６及びｎの詳細及び好ましい組み合わせは、前記した通りであり、式［２−２］におけるＹ^７及びＹ^８の詳細及び好ましい組み合わせは、前記した通りである。
ｍは、１〜４の整数を示す。なかでも、１の整数が好ましい。

式［２−１］で示される特定側鎖構造を有する特定側鎖型ジアミンとして、具体的には、ＷＯ２０１３／１２５５９５（２０１３．８．２９公開）の１５頁〜１９頁に記載される式［２−１］〜式［２−６］、式［２−９］〜式［２−３６］のジアミン化合物が挙げられる。なお、ＷＯ２０１３／１２５５９５の記載において、式［２−１］〜式［２−３］中のＲ_２及び式［２−４］〜式［２−６］中のＲ_４は、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシ基及び炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。また、式［２−１３］中のＡ_４は、炭素数３〜１８の直鎖状又は分岐状アルキル基を示す。加えて、式［２−４］〜式［２−６］中のＲ_３は、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。
なかでも、好ましいジアミンは、ＷＯ２０１３／１２５５９５に記載される式［２−１］〜式［２−６］、式［２−９］〜式［２−１３］又は式［２−２２］〜式［２−３１］のジアミン化合物である。

また、下記の式［２ａ−３２］〜式［２ａ−３６］で示されるジアミンが、液晶配向膜にした際の液晶の垂直配向性及び液晶表示素子における光学特性の点から、最も好ましい。

（Ｒ^１は、−ＣＨ_２Ｏ−を示す。Ｒ^２は、炭素数３〜１２のアルキル基を示す。）

（Ｒ^３は、炭素数３〜１２のアルキル基を示し、１,４-シクロヘキシレンのシス−トランス異性は、トランス異性体である。）

前記式［２−２］で示される特定側鎖構造を有する特定側鎖型ジアミンとして、具体的には、ＷＯ２０１３／１２５５９５（２０１３．８．２９公開）の２３頁に記載される式［ＤＡ１］〜式［ＤＡ１１］のジアミン化合物が挙げられる。なお、ＷＯ２０１３／１２５５９５の記載において、式［ＤＡ１］〜式［ＤＡ５］中のＡ_１は、炭素数８〜２２のアルキル基又は炭素数６〜１８のフッ素含有アルキル基を示す。

特定側鎖型ジアミンの使用割合は、液晶配向膜にした際の液晶の垂直配向性、及び液晶表示素子における液晶層と液晶配向膜との密着性の点から、ジアミン成分全体に対し１０〜８０モル％が好ましく、２０〜７０モル％がより好ましい。
また、特定側鎖型ジアミンは、ポリイミド系重合体の溶媒への溶解性、液晶配向膜にした際の液晶の垂直配向性、更には、液晶表示素子における光学特性などの特性に応じて、１種又は２種以上を混合して使用することができる。

前記のポリイミド系重合体を作製するためのジアミン成分としては、下記の式［２ｂ］で示されるジアミン（第２のジアミンともいう）を用いることが好ましい。

Ｔは、下記の式［２−１ｂ］〜式［２−４ｂ］で示される構造からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基を示す。ｒは、１〜４の整数を示す。なかでも、１の整数が好ましい。

式［２−１ｂ］中、ａは、０〜４の整数を示す。なかでも、原料の入手性や合成の容易さの点から、０又は１の整数が好ましい。式［２−２ｂ］中、ｂは、０〜４の整数を示す。なかでも、原料の入手性や合成の容易さの点から、０又は１の整数が好ましい。式［２−３ｂ］中、Ｔ^１及びＴ^２は、独立して、炭素数１〜１２の炭化水素基を示す。式［２−４ｂ］中、Ｔ^３は、炭素数１〜５のアルキル基を示す。

下記に第２のジアミンの具体的な構造を挙げるが、これらの例に限定されるものではない。例えば、２，４−ジメチル−ｍ−フェニレンジアミン、２，６−ジアミノトルエン、２，４−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノベンジルアルコール、２，４−ジアミノベンジルアルコール、４，６−ジアミノレゾルシノール、２，４−ジアミノ安息香酸、２，５−ジアミノ安息香酸又は３，５−ジアミノ安息香酸の他に、下記の式［２ｂ−１］〜［２ｂ−６］で示される構造のジアミンを挙げることができる。

なかでも、２，４−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノベンジルアルコール、２，４−ジアミノベンジルアルコール、４，６−ジアミノレゾルシノール、２，４−ジアミノ安息香酸、２，５−ジアミノ安息香酸、３，５−ジアミノ安息香酸、式［２ｂ−１］、式［２ｂ−２］又は式［２ｂ−３］で示されるジアミンが好ましい。特に好ましいのは、ポリイミド系重合体の溶媒への溶解性や液晶表示素子における光学特性の点から、２，４−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノベンジルアルコール、３，５−ジアミノ安息香酸、式［２ｂ−１］又は式［２ｂ−２］で示されるジアミンである。

第２のジアミンの使用割合は、液晶表示素子における液晶層と液晶配向膜との密着性の点から、ジアミン成分全体に対して１〜５０モル％が好ましく、１〜４０モル％がより好ましく、５〜４０モル％が特に好ましい。
また、第２のジアミンは、ポリイミド系重合体の溶媒への溶解性、液晶配向膜にした際の液晶の垂直配向性、更には、液晶表示素子における光学特性などの特性に応じて、１種又は２種以上を混合して使用することができる。

ポリイミド系重合体を作製するためジアミン成分としては、本発明の効果を損なわない限りにおいて、特定側鎖型ジアミン及び第２のジアミン以外のジアミン（その他ジアミンともいう。）を用いることもできる。
具体的には、ＷＯ２０１３／１２５５９５（２０１３．８．２９公開）の１９頁〜２３頁に記載されるその他のジアミン化合物、同公報の２４頁に記載される式［ＤＡ１２］及び式［ＤＡ１５］〜式［ＤＡ２０］、及び同公報の２５頁〜２６頁に記載される式［ＤＡ２６］〜式［ＤＡ２８］のジアミン化合物が挙げられる。また、その他ジアミンは、各特性に応じて、１種又は２種以上を混合して使用することができる。

ポリイミド系重合体を作製するためのテトラカルボン酸成分としては、下記の式［３］で示されるテトラカルボン酸二無水物やそのテトラカルボン酸誘導体であり、なかでも、テトラカルボン酸、テトラカルボン酸ジハライド、テトラカルボン酸ジアルキルエステル又はテトラカルボン酸ジアルキルエステルジハライド（全てを総称して特定テトラカルボン酸成分ともいう）が好ましい。

Ｚは、下記式［３ａ］〜式［３ｋ］からなる群から選ばれる少なくとも１種の構造を示す。

前記式［３］中のＺは、合成の容易さやポリマーを製造する際の重合反応性のし易さから、前記式［３ａ］、式［３ｃ］、式［３ｄ］、式［３ｅ］、式［３ｆ］、式［３ｇ］又は式［３ｋ］が好ましい。より好ましいのは、式［３ａ］、式［３ｅ］、式［３ｆ］、式［３ｇ］又は式［３ｋ］であり、特に好ましいのは、液晶表示素子の光学特性の点から、式［３ａ］、式［３ｅ］、式［３ｆ］又は式［３ｇ］である。
特定テトラカルボン酸成分の使用割合は、全テトラカルボン酸成分に対して１モル％以上が好ましく、より好ましいのは、５モル％以上であり、更に好ましいのは、１０モル％以上である。なかでも、液晶表示素子の光学特性の点から、１０〜９０モル％が特に好ましい。

また、前記式［３ｅ］、式［３ｆ］、式［３ｇ］又は式［３ｋ］の特定テトラカルボン酸成分を用いる場合、その使用量を、テトラカルボン酸成分全体の２０モル％以上とすることで、所望の効果が得られる。より好ましいのは、３０モル％以上である。更に、テトラカルボン酸成分の全てが、式［３ｅ］、式［３ｆ］、式［３ｇ］又は式［３ｋ］のテトラカルボン酸成分であってもよい。

ポリイミド系重合体には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、特定テトラカルボン酸成分以外のその他のテトラカルボン酸成分を用いることができる。その他のテトラカルボン酸成分としては、以下に示すテトラカルボン酸、テトラカルボン酸二無水物、ジカルボン酸ジハライド、ジカルボン酸ジアルキルエステル又はジアルキルエステルジハライドが挙げられる。
具体的には、ＷＯ２０１３／１２５５９５（２０１３．８．２９公開）の２７頁〜２８頁に記載されるその他のテトラカルボン酸成分が挙げられる。また、特定テトラカルボン酸成分及びその他のテトラカルボン酸成分は、各特性に応じて、１種又は２種以上を混合して使用することができる。

ポリイミド系重合体を合成する方法は特に限定されない。通常、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを反応させて得られる。具体的には、ＷＯ２０１３／１２５５９５（２０１３．８．２９公開）の２９頁〜３０頁に記載される方法が挙げられる。
ジアミン成分とテトラカルボン酸成分との反応は、通常、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを含む溶媒中で行う。その際に用いる溶媒としては、生成したポリイミド前駆体が溶解するものであれば特に限定されない。

例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン又はγ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド又は１，３−ジメチル−イミダゾリジノン等が挙げられる。また、ポリイミド前駆体の溶媒溶解性が高い場合は、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン又は下記の式［Ｄ−１］〜式［Ｄ−３］で示される溶媒を用いることができる。

（Ｄ^１は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｄ^２は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｄ^３は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）
これらは単独で使用しても、混合して使用してもよい。更に、ポリイミド前駆体を溶解させない溶媒であっても、生成したポリイミド前駆体が析出しない範囲で、前記の溶媒に混合して使用してもよい。また、有機溶媒中の水分は重合反応を阻害し、更には生成したポリイミド前駆体を加水分解させる原因となるので、有機溶媒は脱水乾燥させたものを用いることが好ましい。

ポリイミド系重合体の分子量は、そこから得られる液晶配向膜の強度、液晶配向膜形成時の作業性及び塗膜性を考慮した場合、ＧＰＣ（Gel Permeation Chromatography）法で測定したＭｗ（重量平均分子量）で５，０００〜１，０００，０００とするのが好ましく、より好ましくは１０，０００〜１５０，０００である。

前記の特定重合体にポリシロキサンを用いる場合、下記の式［Ａ１］で示されるアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、又は、該式［Ａ１］で示されるアルコキシシランと、下記の式［Ａ２］で示されるアルコキシシラン及び／又は式［Ａ３］で示されるアルコキシシランとを重縮合させて得られるポリシロキサンである（総称してポリシロキサン系重合体ともいう。）ことが好ましい。

式［Ａ１］で示されるアルコキシラン：

式［Ａ１］中、Ａ^１は、前記式［２−１］又は式［２−２］で示される構造を示す。また、式［２−１］におけるＹ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、Ｙ^４、Ｙ^５、Ｙ^６及びｎの詳細及び好ましい組み合わせは、前記の通りであり、式［２−２］におけるＹ^７及びＹ^８の詳細及び好ましい組み合わせは、前記の通りである。

本発明では、液晶配向膜にした際の液晶の垂直配向性及び液晶表示素子における光学特性の点から、Ａ^１は式［２−１］で示される特定側鎖構造が好ましい。
式［Ａ１］中、Ａ^２、Ａ^３、ｍ、ｎ及びｐは、上記に定義した通りである。なかでも、それぞれ、以下のものが好ましい。Ａ^２は、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。Ａ^３は、重縮合の反応性の点から、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。ｍは、合成の点からは、１の整数が好ましい。ｎは、０〜２の整数を示す。ｐは、重縮合の反応性の点から、１〜３の整数が好ましく、より好ましいのは、２又は３の整数である。ｍ＋ｎ＋ｐは、４の整数である。

式［２−１］で示される特定側鎖構造を有するアルコキシシランの具体例としては、ＷＯ２０１４／０６１７７９（２０１４．４．２４公開）の４１頁〜４４頁に記載される式［Ａ１−１］〜式［Ａ１−２２］及び式［Ａ１−２５］〜式［Ａ１−３２］のアルコキシシランが挙げられる。なお、ＷＯ２０１４／０６１７７９の記載において、式［Ａ１−１９］〜式［Ａ１−２２］及び式［Ａ１−２５］〜式［Ａ１−３１］中のＲ^２は、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。

なかでも、好ましいアルコキシシランは、液晶配向膜にした際の液晶の垂直配向性及び液晶表示素子における光学特性の点から、ＷＯ２０１４／０６１７７９に記載される式［Ａ１−９］〜式［Ａ１−２１］、式［Ａ１−２５］〜式［Ａ１−２８］又は式［Ａ１−３２］である。
式［Ａ１］で示されるアルコキシシランは、ポリシロキサン系重合体の溶媒への溶解性、液晶配向膜にした際の液晶の垂直配向性、更には、液晶表示素子における光学特性などの特性に応じて、１種又は２種以上を混合して使用できる。

式［Ａ２］で示されるアルコキシラン：

式［Ａ２］中、Ｂ^１、Ｂ^２、Ｂ^３、ｍ、ｎ及びｐは、上記に定義した通りである。なかでも、それぞれ、以下のものが好ましい。Ｂ^１は、入手の容易さから、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、アクリル基又はウレイド基を有する有機基が好ましい。より好ましいのは、メタクリル基、アクリル基又はウレイド基を有する有機基である。Ｂ^２は、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。
Ｂ^３は、重縮合の反応性の点から、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。ｍは、合成の点からは、１の整数が好ましい。ｎは、０〜２の整数を示す。ｐは、重縮合の反応性の点から、１〜３の整数が好ましく、２又は３の整数がより好ましい。ｍ＋ｎ＋ｐは、４である。

式［Ａ２］で示されるアルコキシシランの具体例としては、ＷＯ２０１４／０６１７７９（２０１４．４．２４公開）の４５頁〜４６頁に記載される式［Ａ２］で表わされるアルコキシシランが挙げられる。

なかでも、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピルアクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピルメタクリレート、３−グリシジルオキシプロピル（ジメトキシ）メチルシラン、３−グリシジルオキシプロピル（ジエトキシ）メチルシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン又は２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランが好ましい。

特に好ましいのは、液晶表示素子における液晶層と液晶配向膜との密着性の点から、３−（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピルアクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピルメタクリレート、３−グリシジルオキシプロピル（ジメトキシ）メチルシラン、３−グリシジルオキシプロピル（ジエトキシ）メチルシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン又は２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランである。式［Ａ２］で示されるアルコキシシランは、１種又は２種以上を混合して使用できる。

式［Ａ３］で示されるアルコキシラン：

式［Ａ３］中、Ｄ^１、Ｄ^２及びｎは、上記に定義した通りであるが、なかでも、それぞれ、以下のものが好ましい。Ｄ^１は、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。Ｄ^２は重縮合の反応性の点から、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。ｎは、０〜３の整数を示す。

式［Ａ３］で示されるアルコキシシランの具体例としては、ＷＯ２０１４／０６１７７９（２０１４．４．２４公開）の４７頁に記載される式［Ａ３］で表わされるアルコキシシランが挙げられる。

式［Ａ３］中、ｎが０であるアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン又はテトラブトキシシランが挙げられる。式［Ａ３］のアルコキシシランとしては、これらのアルコキシシランを用いることが好ましい。式［Ａ３］で示されるアルコキシシランは、１種又は２種以上を混合して使用することができる。

ポリシロキサン系重合体は、前記式［Ａ１］で示されるアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、又は該式［Ａ１］で示されるアルコキシシランと、前記式［Ａ２］で示されるアルコキシシラン及び／又は式［Ａ３］で示されるアルコキシシランとを重縮合させて得られるポリシロキサンである。即ち、ポリシロキサン系重合体は、式［Ａ１］で示されるアルコキシシランのみを重縮合させて得られるポリシロキサン、式［Ａ１］と式［Ａ２］で示される２種のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、式［Ａ１］と式［Ａ３］で示される２種のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、並びに式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示される３種のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサンのうちのいずれか１種である。

なかでも、重縮合の反応性やポリシロキサン系重合体の溶媒への溶解性の点から、複数種のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサンが好ましい。即ち、式［Ａ１］と式［Ａ２］で示される２種のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、式［Ａ１］と式［Ａ３］で示される２種のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、並びに式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示される３種のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサンのうちのいずれか１種を用いることが好ましい。

ポリシロキサン系重合体を作製する際に複数種のアルコキシランを用いる場合、式［Ａ１］で示されるアルコキシシランの使用は、全てのアルコキシシラン中、１〜４０モル％が好ましく、１〜３０モル％がより好ましい。また、式［Ａ２］で示されるアルコキシシランの使用は、全てのアルコキシシラン中、１〜７０モル％が好ましく、１〜６０モル％がより好ましい。更に、式［Ａ３］で示されるアルコキシシランの使用は、全てのアルコキシシラン中、１〜９９モル％が好ましく、１〜８０モル％がより好ましい。

ポリシロキサン系重合体を作製する重縮合反応の方法は特に限定されない。具体的には、ＷＯ２０１４／０６１７７９（２０１４．４．２４公開）の４９頁〜５２頁に記載される方法が挙げられる。

ポリシロキサン系重合体を作製する重縮合反応において、式［Ａ１］、式［Ａ２］又は式［Ａ３］で示されるアルコキシシランを複数種用いる場合は、複数種のアルコキシシランを予め混合した混合物を用いて反応しても、複数種のアルコキシシランを順次添加しながら反応してもよい。

本発明においては、前記の方法で得られたポリシロキサン系重合体の溶液を、そのまま特定重合体として用いても良いし、必要に応じて、上記の方法で得られたポリシロキサン系重合体の溶液を濃縮したり、溶媒を加えて希釈したり、他の溶媒に置換して、特定重合体として用いても良い。
希釈する際に用いる溶媒（添加溶媒ともいう。）は、重縮合反応に用いる溶媒やその他の溶媒であってもよい。この添加溶媒は、ポリシロキサン系重合体が均一に溶解している限りにおいては特に限定されず、１種又は２種以上を選択して使用できる。添加溶媒としては、前記重縮合反応に用いる溶媒に加え、例えば、アセトン、メチルエチルケトン又はメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル又は乳酸エチルなどのエステル系溶媒などが挙げられる。更に、特定重合体にポリシロキサン系重合体とそれ以外の重合体を用いる場合、ポリシロキサン系重合体にそれ以外の重合体を混合する前に、ポリシロキサン系重合体の重縮合反応の際に発生するアルコールを常圧又は減圧で留去しておくことが好ましい。

＜液晶配向処理剤＞
液晶配向処理剤は、液晶配向膜を形成するための溶液であり、前記式［２−１］又は式［２−２］の特定側鎖構造を有する特定重合体及び溶媒を含有する。
特定重合体としては、上述の通り、特に限定は無いが、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、セルロース及びポリシロキサンからなる群から選ばれる少なくとも１種の重合体であることが好ましい。より好ましいのは、ポリイミド前駆体、ポリイミド又はポリシロキサンである。また、特定重合体には、これら重合体のなかの１種、あるいは２種以上を用いることができる。

液晶配向処理剤における全ての重合体成分は、全てが特定重合体であっても良く、それ以外の重合体が混合されていても良い。その際、それ以外の重合体の含有量は、特定重合体１００質量部に対して、０．５〜１５質量部、好ましいのは、１〜１０質量部である。それ以外の重合体としては、前記式［２−１］又は式［２−２］で示される特定側鎖構造を持たない前記の重合体が挙げられる。
液晶配向処理剤中の溶媒の含有量は、液晶配向処理剤の塗布方法や目的とする膜厚を得るという点から、適宜選択できる。なかでも、塗布により均一な液晶配向膜を形成する点から、液晶配向処理剤中の溶媒の含有量は５０〜９９．９質量％であることが好ましく、より好ましいのは、６０〜９９質量％である。特に好ましいのは、６５〜９９質量％である。

液晶配向処理剤に用いる溶媒は、特定重合体を溶解させれば特に限定されない。なかでも、特定重合体がポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド又はポリエステルの場合、あるいは、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、セルロース又はポリシロキサンの溶媒への溶解性が低い場合は、下記に示すような溶媒（溶媒Ａ類ともいう。）を用いることが好ましい。
例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、１，３−ジメチル−イミダゾリジノン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン又は４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどである。なかでも、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン又はγ−ブチロラクトンを用いることが好ましい。また、これらは単独で使用しても、混合して使用してもよい。

特定重合体が、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、セルロース又はポリシロキサンである場合、更には、特定重合体がポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド又はポリエステルであり、これら特定重合体の溶媒への溶解性が高い場合は、下記に示すような溶媒（溶媒Ｂ類ともいう。）を用いることができる。
溶媒Ｂ類の具体例としては、ＷＯ２０１３／１２５５９５（２０１３．８．２９公開）の３５頁〜３７頁に記載される貧溶媒が挙げられる。
なかでも、１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１，２−エタンジオール、１，２−プロパンジオール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、シクロヘキサノン、シクロペンタノン又は前記式［Ｄ１］〜式［Ｄ３］で示される溶媒を用いることが好ましい。

また、これら溶媒Ｂ類を用いる際、液晶配向処理剤の塗布性を改善する目的に、前記溶媒Ａ類のＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン又はγ−ブチロラクトンを併用して用いることが好ましい。より好ましいのは、γ−ブチロラクトンを併用することである。

これら溶媒Ｂ類は、液晶配向処理剤を塗布する際の液晶配向膜の塗膜性や表面平滑性を高めることができるため、特定重合体にポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド又はポリエステルを用いた場合、前記溶媒Ａ類と併用して用いることが好ましい。その際、溶媒Ｂ類は、液晶配向処理剤に含まれる溶媒全体の１〜９９質量％であることが好ましい。なかでも、１０〜９９質量％が好ましい。より好ましいのは、２０〜９５質量％である。

本発明における液晶配向処理剤には、光ラジカル発生剤、光酸発生剤及び光塩基発生剤からなる群から選ばれる少なくとも１種の発生剤（特定発生剤ともいう。）を導入することが好ましい。なかでも、特定発生剤には、液晶層と液晶配向膜との密着性の点から、光ラジカル発生剤を用いることが好ましい。
光ラジカル発生剤としては、紫外線によりラジカルを発生するものであれば特に制限は無く、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−ｉｓｏ−ブタレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルジオキシ）へキサン、１，４−ビス［α−（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−ｉｓｏ−プロポキシ］ベンゼン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）へキセンヒドロペルオキシド、α−（ｉｓｏ−プロピルフェニル）−ｉｓｏ−プロピルヒドロペルオキシド、２，５−ジメチルへキサン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロへキサン、ブチル−４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）バレレート、シクロへキサノンペルオキシド、２，２’，５，５’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）−４，４’−ジカルボキシベンゾフェノン、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート又はジ−ｔｅｒｔ−ブチルジペルオキシイソフタレートなどの有機過酸化物や、９，１０−アントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノンなどのキノン類、ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベンゾイン又はα−フェニルベンゾインなどのベンゾイン誘導体などが挙げられる。

また、光酸発生剤及び光塩基発生剤としては、紫外線により酸又は塩基を発生するものであれば特に制限は無く、例えば、トリアジン系化合物、アセトフェノン誘導体化合物、ジスルホン系化合物、ジアゾメタン系化合物、スルホン酸誘導体化合物、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、トリアリールホスホニウム塩又は鉄アレーン錯体などが挙げられる。より具体的には、例えば、ジフェニルヨードニウムクロライド、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムメシレート、ジフェニルヨードニウムトシレート、ジフェニルヨードニウムブロミド、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムメシレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトシレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムクロリド、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウムクロライド、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムクロリド、トリフェニルスルホニウムブロミド、トリ（ｐ−メトキシフェニル）スルホニウムテトラフルオロボレート、トリ（ｐ−メトキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリ（ｐ−エトキシフェニル）スルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルホスホニウムクロリド、トリフェニルホスホニウムブロミド、トリ（ｐ−メトキシフェニル）ホスホニウムテトラフルオロボレート、トリ（ｐ−メトキシフェニル）ホスホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリ（ｐ−エトキシフェニル）ホスホニウムテトラフルオロボレート、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニルへキサン−１，６−ジアミン］、ニトロベンジルシクロへキシルカルバメート、ジ（メトキシベンジル）ヘキサメチレンジカルバメート、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニルへキサン−１，６−ジアミン］、ニトロベンジルシクロへキシルカルバメート又はジ（メトキシベンジル）ヘキサメチレンジカルバメートなどが挙げられる。

本発明における液晶配向処理剤には、液晶層と液晶配向膜との密着性を高める目的で、下記の式［ｂ−１］〜式［ｂ−８］からなる群から選ばれる少なくとも１種類の構造を有する化合物（特定密着性化合物ともいう。）を含有することが好ましい。

式［ｂ−４］中、Ｂ^ａは、水素原子又はベンゼン環を示す。なかでも、水素原子が好ましい。式［ｂ−８］中、Ｂ^ｂは、ベンゼン環、シクロへキサン環及び複素環からなる群から選ばれる少なくとも１種の環状基を示す。Ｂ^ｃは、炭素数１〜１８を有する、アルキル基、含フッ素含有アルキル基、アルコキシ基、及びフッ素含有アルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。なかでも、炭素数１〜１２を有する、アルキル基又はアルコキシ基が好ましい。

より具体的な特定密着性化合物は、下記の式［７Ａ］で示される化合物が好ましい。

式［７Ａ］中、Ｍ^１は、下記の式［ａ−１］〜［ａ−７］からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。なかでも、製造の容易さから、式［ａ−１］、式［ａ−２］、式［ａ−３］、式［ａ−５］又は式［ａ−６］が好ましい。より好ましいのは、式［ａ−１］、式［ａ−３］、式［ａ−５］又は式［ａ−６］である。

Ａ^１は、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。なかでも、製造の容易さから、水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基が好ましい。より好ましいのは、水素原子又はメチル基である。
Ａ^２は、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示す。なかでも、製造の容易さから、水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基が好ましい。より好ましいのは、水素原子又はメチル基である。
Ａ^３、Ａ^５、Ａ^６及びＡ^９は独立して、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示す。なかでも、製造の容易さから、水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基が好ましい。より好ましいのは、水素原子又はメチル基である。
Ａ^４、Ａ^７及びＡ^８は独立して、炭素数１〜３のアルキレン基を示す。なかでも、製造の容易さから、炭素数１〜２のアルキレン基が好ましい。

式［７Ａ］中、Ｍ^２は、単結合、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−及び−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。なかでも、製造の容易さから、単結合、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−又は−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−が好ましい。より好ましいのは、単結合、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−である。特に好ましいのは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−である。

式［７Ａ］中、Ｍ^３は、炭素数１〜２０のアルキレン基、−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ）_ｐ−（ｐは１〜１０の整数を示す）、−（ＣＨ_２−Ｏ−）_ｑ−（ｑは１〜１０の整数を示す）、及び炭素数６〜２０のベンゼン環又はシクロヘキサン環を有する有機基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。その際、前記アルキレン基の任意の−ＣＨ_２−基は、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、ＮＨＣＯ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−ＣＦ_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−、−ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２−又は−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ−で置き換えられていても良く、任意の炭素原子に結合している水素原子は、水酸基（ＯＨ基）、カルボキシル基（ＣＯＯＨ基）又はハロゲン原子で置き換えられていても良い。なかでも、製造の容易さから、炭素数１〜２０のアルキレン基、−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ）_ｐ−、−（ＣＨ_２−Ｏ−）_ｑ−又は下記の式［ｃ−１］〜式［ｃ−５］が好ましい。より好ましいのは、炭素数１〜１５のアルキレン基、−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ）_ｐ−、−（ＣＨ_２−Ｏ−）_ｑ−、下記の式［ｃ−１］、式［ｃ−３］、式［ｃ−４］又は式［ｃ−５］である。特に好ましいのは、炭素数１〜１５のアルキレン基、−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ）_ｐ−、式［ｃ−１］、式［ｃ−４］又は式［ｃ−５］である。

式［７Ａ］中、Ｍ^４は、単結合、−ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２−及びＯ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。なかでも、製造の容易さから、単結合、−ＣＨ_２−又は−ＯＣＨ_２−で示される構造が好ましい。Ｍ^５は、前記式［ｂ−１］〜［ｂ−８］からなる群から選ばれる少なくとも１種の構造を示す。なかでも、製造の容易さから、式［ｂ−１］、式［ｂ−２］又は式［ｂ−６］が好ましい。より好ましいのは、式［ｂ−１］又は式［ｂ−２］である。ｎは、１〜３の整数を示す。なかでも、製造の容易さから、１又は２の整数が好ましく、特に、１の整数である。ｍは、１〜３の整数を示し、特に、製造の容易さから、１又は２の整数が好ましい。

特定密着性化合物は、下記の式［７ａ−１］及び式［７ａ−５］からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましい。

（ｎ２は１〜１０の整数を示す。ｍ２は１〜１０の整数を示す。）

更に、特定密着性化合物としては、下記のものを用いることができる。
例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリロイルオキシエトキシトリメチロールプロパン又はグリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレートなどの重合性不飽和基を分子内に３個有する化合物、更に、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイドビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイドビスフェノール型ジ（メタ）アクリレート、１，６−へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート又はヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどの重合性不飽和基を分子内に２個有する化合物、加えて、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルリン酸エステル又はＮ−メチロール（メタ）アクリルアミドなどの重合性不飽和基を分子内に１個有する化合物が挙げられる。

液晶配向処理剤における特定密着性化合物の含有量は、全ての重合体成分１００質量部に対して、０．１〜１５０質量部が好ましい。架橋反応が進行し目的の効果を発現させるためには、全ての重合体成分１００質量部に対して０．１〜１００質量部がより好ましく、特に、１〜５０質量部が最も好ましい。特定密着性化合物は、１種又は２種以上を混合して使用することができる。
本発明における液晶配向処理剤は、エポキシ基、イソシアネート基、オキセタン基、若しくはシクロカーボネート基を有する化合物、又は、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基及び低級アルコキシアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を有する化合物（総称して特定架橋性化合物ともいう。）を含有することが好ましい。その際、これらの基は、化合物中に２個以上有することが好ましい。

エポキシ基又はイソシアネート基を有する架橋性化合物の例としては、具体的には、ＷＯ２０１３／１２５５９５（２０１３．８．２９公開）の３７頁〜３８頁に記載されるエポキシ基又はイソシアネート基を有する架橋性化合物が挙げられる。

オキセタン基を有する架橋性化合物としては、具体的には、ＷＯ２０１１／１３２７５１の５８頁〜５９頁に掲載される式［４ａ］〜式［４ｋ］で示される架橋性化合物が挙げられる。

シクロカーボネート基を有する架橋性化合物としては、具体的には、ＷＯ２０１２／０１４８９８の７６頁〜８２頁に掲載される式［５−１］〜式［５−４２］で示される架橋性化合物が挙げられる。

ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基及び低級アルコキシアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を有する架橋性化合物としては、具体的には、ＷＯ２０１３／１２５５９５（２０１３．８．２９公開）の３９頁〜４０頁に記載されるメラミン誘導体又はベンゾグアナミン誘導体、及び、ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の６２頁〜６６頁に掲載される、式［６−１］〜式［６−４８］で示される架橋性化合物が挙げられる。

液晶配向処理剤における特定架橋性化合物の含有量は、全ての重合体成分１００質量部に対して、０．１〜１００質量部であることが好ましい。架橋反応が進行し目的の効果を発現させるためには、全ての重合体成分１００質量部に対して０．１〜５０質量部がより好ましく、特に、１〜３０質量部が最も好ましい。

液晶配向処理剤には、液晶配向膜中の電荷移動を促進し、素子の電荷抜けを促進させるため、ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の６９頁〜７３頁に掲載される、式［Ｍ１］〜式［Ｍ１５６］で示される窒素含有複素環アミン化合物を添加することもできる。このアミン化合物は、液晶配向処理剤に直接添加しても構わないが、適当な溶媒で濃度０．１〜１０質量％、好ましくは１〜７質量％の溶液にしてから添加することが好ましい。この溶媒としては、特定重合体を溶解させる有機溶媒であれば特に限定されない。

また、液晶配向処理剤には、本発明の効果を損なわない限り、液晶配向処理剤を塗布した際の液晶配向膜の膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物を用いることができる。更に、液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物などを用いることもできる。

液晶配向膜の膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノ二オン系界面活性剤などが挙げられる。具体的には、ＷＯ２０１３／１２５５９５（２０１３．８．２９公開）の４２頁〜４３頁に記載される界面活性剤が挙げられる。
界面活性剤の使用量は、液晶配向処理剤に含有される全ての重合体成分１００質量部に対して、０．０１〜２質量部が好ましく、より好ましいのは、０．０１〜１質量部である。

液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物の具体例としては、官能性シラン含有化合物やエポキシ基含有化合物が挙げられる。具体的には、ＷＯ２０１３／１２５５９５（２０１３．８．２９公開）の４３頁〜４４頁に記載される化合物が挙げられる。

これらの基板との密着性を向上させる化合物の使用割合は、液晶配向処理剤に含有される全ての重合体成分１００質量部に対して、０．１〜３０質量部が好ましく、より好ましいのは、１〜２０質量部である。０．１質量部未満であると密着性向上の効果は期待できず、３０質量部よりも多くなると液晶配向処理剤の保存安定性が悪くなる場合がある。
液晶配向処理剤には、上記以外の化合物として、液晶配向膜の誘電率や導電性などの電気特性を変化させる目的の誘電体や導電物質を添加してもよい。

＜液晶配向膜及び液晶表示素子の作製方法＞
本発明の液晶表示素子に用いる基板としては、透明性の高い基板であれば特に限定されず、ガラス基板の他、アクリル基板、ポリカーボネート基板、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）基板などのプラスチック基板、更にはそれらのフィルムを用いることができる。液晶表示素子をリバース型素子として、調光窓などに用いる場合には、プラスチック基板やフィルムであることが好ましい。また、プロセスの簡素化の点からは、液晶駆動のためのＩＴＯ（Indium Tin Oxide）電極、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）電極、ＩＧＺＯ（Indium Gallium Zinc Oxide）電極、有機導電膜などが形成された基板が好ましい。また、反射型のリバース型素子とする場合には、片側の基板のみにならば、シリコンウエハやアルミニウムなどの金属や誘電体多層膜が形成された基板を使用できる。

本発明の液晶表示素子は、基板の少なくとも一方が、液晶分子を垂直に配向させるような液晶配向膜を有する。この液晶配向膜は、液晶配向処理剤を基板上に塗布、焼成した後、ラビング処理や光照射などで配向処理をして得ることができる。ただし、本発明における液晶配向膜の場合は、これら配向処理無しでも液晶配向膜として用いることができる。
液晶配向処理剤の塗布方法は、特に限定されないが、工業的には、スクリーン印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、インクジェット法、ディップ法、ロールコータ法、スリットコータ法、スピンナー法、スプレー法などがあり、基板の種類や目的とする液晶配向膜の膜厚に応じて、適宜選択できる。

液晶配向処理剤を基板上に塗布した後は、ホットプレート、熱循環型オーブン、ＩＲ（赤外線）型オーブンなどの加熱手段により、基板の種類や液晶配向処理剤に用いる溶媒に応じて、３０〜３００℃、好ましくは３０〜２５０℃の温度で溶媒を蒸発させて液晶配向膜とすることができる。特に、基板にプラスチック基板を用いる場合には、３０〜１５０℃の温度で処理することが好ましい。
焼成後の液晶配向膜の厚みは、厚すぎると表示素子の消費電力の面で不利となり、薄すぎると素子の信頼性が低下する場合があるので、好ましくは５〜５００ｎｍ、より好ましくは１０〜３００ｎｍ、特に好ましくは、１０〜２５０ｎｍである。

本発明に用いる液晶組成物は、前記の通りの液晶組成物であるが、そのなかに、液晶表示素子の電極間隙（ギャップともいう）を制御するためのスペーサーを導入することもできる。
液晶組成物の注入方法は、特に限定されないが、例えば、次の方法が挙げられる。すなわち、基板にガラス基板を用いる場合、液晶配向膜が形成された一対の基板を用意し、片側の基板の４辺を、一部分を除いてシール剤を塗布し、その後、液晶配向膜の面が内側になるようにして、もう片側の基板を貼り合わせた空セルを作製する。そして、シール剤が塗布されていない場所から、液晶組成物を減圧注入して、液晶組成物注入セルを得る方法が挙げられる。
更に、基板にプラスチック基板やフィルムを用いる場合には、液晶配向膜が形成された一対の基板を用意し、片側の基板の上にＯＤＦ（One Drop Filling）法やインクジェット法などで、液晶組成物を滴下し、その後、もう片側の基板を貼り合わせて、液晶組成物注入セルを得る方法が挙げられる。本発明では、液晶層と液晶配向膜との密着性が高いため、基板の４辺にシール剤を塗布しなくても良い。

液晶表示素子のギャップは、前記のスペーサーなどで制御できる。その方法は、前記の通りに液晶組成物中に目的とする大きさのスペーサーを導入する方法や、目的とする大きさのカラムスペーサーを有する基板を用いる方法などが挙げられる。また、基板にプラスチックやフィルム基板を用いて、基板の貼り合わせをラミネートで行う場合は、スペーサーを導入せずに、ギャップを制御できる。
ギャップの大きさは、１〜１００μｍが好ましく、より好ましくは、２〜５０μｍ、特に好ましくは、５〜２０μｍである。ギャップが小さすぎると、液晶表示素子のコントラストが低下し、大きすぎると、素子の駆動電圧が高くなる。

本発明の液晶表示素子は、紫外線の照射により、液晶組成物の硬化を行い、液晶と重合性化合物の硬化物複合体の液晶層を形成させて得られる。液晶組成物の硬化は、前記の液晶組成物注入セルに、紫外線を照射して行う。その際に用いる紫外線照射装置の光源としては、例えば、メタルハライドランプ又は高圧水銀ランプが挙げられる。また、紫外線の波長は、２５０〜４００ｎｍが好ましく、３１０〜３７０ｎｍが特に好ましい。また、紫外線を照射した後に、加熱処理を行っても良い。その際の温度は、４０〜１２０℃が好ましく、４０〜８０℃が特に好ましい。

以下に実施例を挙げ、本発明をさらに詳しく説明するが、これらに限定されるものではない。略語は以下のとおりである。

Ｌ１：ＭＬＣ−６６０８（メルク社製）

Ａ１：１，３−ジアミノ−４−〔４−（トランス−４−ｎ−ヘプチルシクロへキシル）フェノキシ〕ベンゼン
Ａ２：１，３−ジアミノ−４−〔４−（トランス−４−ｎ−ヘプチルシクロへキシル）フェノキシメチル〕ベンゼン
Ａ３：１，３−ジアミノ−４−{４−〔トランス−４−（トランス−４−ｎ−ペンチルシクロへキシル）シクロへキシル〕フェノキシ}ベンゼン
Ａ４：下記の式［Ａ４］で示されるジアミン
Ａ５：１，３−ジアミノ−４−オクタデシルオキシベンゼン

Ｂ１：３，５−ジアミノ安息香酸
Ｂ２：下記の式［Ｂ２］で示されるジアミン

Ｃ１：ｍ−フェニレンジアミン

（テトラカルボン酸二無水物）
Ｄ１：１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物
Ｄ２：ビシクロ［３，３，０］オクタン−２，４，６，８−テトラカルボン酸二無水物
Ｄ３：下記の式［Ｄ３］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ｄ４：下記の式［Ｄ４］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ｄ５：下記の式［Ｄ５］で示されるテトラカルボン酸二無水物

Ｅ１：下記の式［Ｅ１］で示されるアルコキシシランモノマー
Ｅ２：オクタデシルトリエトキシシラン
Ｅ３：３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
Ｅ４：３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン
Ｅ５：テトラエトキシシラン

Ｎ１：下記の式［Ｎ１］で示される光ラジカル発生剤

＜特定密着性化合物＞

Ｋ１：下記の式［Ｋ１］で示される架橋性化合物

ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
ＮＥＰ：Ｎ−エチル−２−ピロリドン
γ−ＢＬ：γ−ブチロラクトン
ＢＣＳ：エチレングリコールモノブチルエーテル
ＰＢ：プロピレングリコールモノブチルエーテル
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
ＥＣＳ：エチレングリコールモノエチルエーテル
ＥＣ：ジエチレングリコールモノエチルエーテル

「ポリイミド系重合体の分子量測定」
常温ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（ＧＰＣ−１０１）（昭和電工社製）、カラム（ＫＤ−８０３，ＫＤ−８０５）（Ｓｈｏｄｅｘ社製）を用いて、以下のようにして測定した。
カラム温度：５０℃
溶離液：Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（添加剤として、臭化リチウム−水和物（ＬｉＢｒ・Ｈ_２Ｏ）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ（リットル）、リン酸・無水結晶（ｏ−リン酸）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）が１０ｍｌ／Ｌ）
流速：１．０ｍｌ／分
検量線作成用標準サンプル：ＴＳＫ 標準ポリエチレンオキサイド（分子量；約９００,０００、１５０,０００、１００,０００及び３０,０００）（東ソー社製）及びポリエチレングリコール（分子量；約１２,０００、４,０００及び１,０００）（ポリマーラボラトリー社製）。

「ポリイミド系重合体のイミド化率の測定」
ポリイミド粉末２０ｍｇをＮＭＲ（核磁気共鳴）サンプル管（ＮＭＲサンプリングチューブスタンダード，φ５（草野科学社製））に入れ、重水素化ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ−ｄ６，０．０５質量％ＴＭＳ（テトラメチルシラン）混合品）（０.５３ｍｌ）を添加し、超音波をかけて完全に溶解させた。この溶液をＮＭＲ測定機（ＪＮＷ−ＥＣＡ５００）（日本電子データム社製）にて５００ＭＨｚのプロトンＮＭＲを測定した。イミド化率は、イミド化前後で変化しない構造に由来するプロトンを基準プロトンとして決め、このプロトンのピーク積算値と、９.５〜１０.０ｐｐｍ付近に現れるアミド酸のＮＨ基に由来するプロトンピーク積算値とを用い以下の式によって求めた。
イミド化率（％）＝（１−α・ｘ／ｙ）×１００
（ｘはアミド酸のＮＨ基由来のプロトンピーク積算値、ｙは基準プロトンのピーク積算値、αはポリアミド酸（イミド化率が０％）の場合におけるアミド酸のＮＨ基プロトン１個に対する基準プロトンの個数割合である。）

「ポリイミド系重合体の合成」
＜合成例１＞
Ｄ１（３．００ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）、Ａ１（２．９５ｇ，７．７５ｍｍｏｌ）、Ｂ１（０．９４ｇ，６．１８ｍｍｏｌ）及びＣ１（０．１７ｇ，１．５７ｍｍｏｌ）をＰＧＭＥ（２１．２ｇ）中で混合し、４０℃で２４時間反応させ、樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（１）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量（Ｍｎ）は、１０，１００、重量平均分子量（Ｍｗ）は、４３，６００であった。

＜合成例２＞
Ｄ２（３．８３ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）、Ａ２（６．１１ｇ，１５．５ｍｍｏｌ）及びＢ１（２．３６ｇ，１５．５ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（３０．６ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｄ１（３．００ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（１５．３ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（２）を得た。このポリアミド酸のＭｎは、２２，５００、Ｍｗは、６７，１００であった。

＜合成例３＞
合成例２で得られたポリアミド酸溶液（２）（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．９０ｇ）及びピリジン（２．４０ｇ）を加え、６０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（３）を得た。このポリイミドのイミド化率は６０％であり、Ｍｎは２０，１００、Ｍｗは５７，１００であった。

＜合成例４＞
Ｄ２（２．５５ｇ，１０．２ｍｍｏｌ）、Ａ３（４．４７ｇ，１０．３ｍｍｏｌ）、Ｂ１（１．５７ｇ，１０．３ｍｍｏｌ）及びＢ２（１．０５ｇ，５．１７ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２５．３ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｄ１（３．００ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（１２．６ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。
得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．８５ｇ）及びピリジン（２．４２ｇ）を加え、５０℃で３時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（４）を得た。このポリイミドのイミド化率は５６％であり、Ｍｎは１８，５００、Ｍｗは５４，０００であった。

＜合成例５＞
Ｄ２（２．５５ｇ，１０．２ｍｍｏｌ）、Ａ４（３．０５ｇ，６．１９ｍｍｏｌ）、Ｂ１（１．５７ｇ，１０．３ｍｍｏｌ）、Ｂ２（０．４２ｇ，２．０７ｍｍｏｌ）及びＣ１（０．２２ｇ，２．０３ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１９．６ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｄ１（２．００ｇ，１０．２ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（９．８２ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。
得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．８５ｇ）及びピリジン（２．５０ｇ）を加え、５０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（５）を得た。このポリイミドのイミド化率は４９％であり、Ｍｎは１６，１００、Ｍｗは４９，８００であった。

＜合成例６＞
Ｄ３（５．５０ｇ，２４．５ｍｍｏｌ）、Ａ２（５．８８ｇ，１４．９ｍｍｏｌ）、Ｂ１（１．１３ｇ，７．４３ｍｍｏｌ）及びＢ２（０．５１ｇ，２．５１ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（３９．１ｇ）中で混合し、４０℃で１２時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。
得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）にＮＭＰを加え、６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．８５ｇ）及びピリジン（２．４８ｇ）を加え、６０℃で２．５時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（６）を得た。このポリイミドのイミド化率は６３％であり、Ｍｎは１７，２００、Ｍｗは４９，１００であった。

＜合成例７＞
Ｄ３（５．５０ｇ，２４．５ｍｍｏｌ）、Ａ４（３．６７ｇ，７．４５ｍｍｏｌ）及びＢ１（２．６５ｇ，１７．４ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（３５．５ｇ）中で混合し、４０℃で１２時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。
得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）にＮＭＰを加え、６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．８５ｇ）及びピリジン（２．５０ｇ）を加え、５０℃で３時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（７）を得た。このポリイミドのイミド化率は５４％であり、Ｍｎは１７，４００、Ｍｗは４７，８００であった。

＜合成例８＞
Ｄ４（４．５９ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）、Ａ３（６．７０ｇ，１５．５ｍｍｏｌ）、Ｂ１（１．８９ｇ，１２．４ｍｍｏｌ）及びＢ２（０．６３ｇ，３．１０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（３３．６ｇ）中で混合し、５０℃で８時間反応させた後、Ｄ１（３．００ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（１６．８ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。
得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（４．５０ｇ）及びピリジン（３．３０ｇ）を加え、７０℃で３時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（８）を得た。このポリイミドのイミド化率は７１％であり、Ｍｎは１７，１００、Ｍｗは３８，８００であった。

＜合成例９＞
Ｄ５（１．６８ｇ，７．９２ｍｍｏｌ）、Ａ２（２．５３ｇ，６．４１ｍｍｏｌ）、Ｂ１（０．４９ｇ，３．２２ｍｍｏｌ）及びＢ２（１．３０ｇ，６．４０ｍｍｏｌ）をＰＧＭＥ（１５．１ｇ）中で混合し、５０℃で２４時間反応させた後、Ｄ１（１．５５ｇ，７．９０ｍｍｏｌ）とＰＧＭＥ（７．５４ｇ）を加え、５０℃で１２時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（９）を得た。このポリアミド酸のＭｎは、１０，５００、Ｍｗは、４８，５００であった。

＜合成例１０＞
Ｄ２（３．８３ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）、Ａ５（５．８４ｇ，１５．５ｍｍｏｌ）及びＢ１（２．３６ｇ，１５．５ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（３０．０ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｄ１（３．００ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（１５．０ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。
得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．９０ｇ）及びピリジン（２．４０ｇ）を加え、６０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（１０）を得た。このポリイミドのイミド化率は６１％であり、Ｍｎは１９，０００、Ｍｗは５８，１００であった。

＜合成例１１＞
Ｄ２（３．８３ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）及びＢ１（４．７２ｇ，３１．０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２３．１ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｄ１（３．００ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（１１．５ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（１１）を得た。このポリアミド酸のＭｎは２５，９００、Ｍｗは７９，１００であった。

＜合成例１２＞
合成例１１で得られたポリアミド酸溶液（１１）（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．８５ｇ）及びピリジン（２．４０ｇ）を加え、６０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（１２）を得た。このポリイミドのイミド化率は５９％であり、Ｍｎは２１，２００、Ｍｗは６０，１００であった。
合成例１〜１２で得られたポリイミド系重合体を表１０に示す。

＊１：ポリアミド酸

「ポリシロキサン系重合体の合成」
＜合成例１３＞
温度計及び還流管を備え付けた２００ｍｌの四つ口反応フラスコ中で、ＥＣＳ（２８．３ｇ）、Ｅ１（４．１０ｇ）、Ｅ３（７．４５ｇ）及びＥ５（３２．５ｇ）を混合して、アルコキシシランモノマーの溶液を調製した。この溶液に、予めＥＣＳ（１４．２ｇ）、水（１０．８ｇ）、及び触媒として蓚酸（０．７０ｇ）を混合して調製しておいた溶液を、２５℃にて３０分かけて滴下し、さらに２５℃にて３０分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて加熱して３０分間還流させた後、予め調製しておいた、Ｅ４の含有量が９２質量％のメタノール溶液（１．２０ｇ）とＥＣＳ（０．９０ｇ）の混合溶液を加えた。さらに３０分間還流させた後、放冷してＳｉＯ_２換算濃度が１２質量％のポリシロキサン溶液（１）を得た。

＜合成例１４＞
温度計及び還流管を備え付けた２００ｍｌの四つ口反応フラスコ中で、ＥＣ（２５．４ｇ）、Ｅ１（８．２０ｇ）、Ｅ３（１９．９ｇ）及びＥ５（２０．０ｇ）を混合して、アルコキシシランモノマーの溶液を調製した。この溶液に、予めＥＣ（１２．７ｇ）、水（１０．８ｇ）、及び触媒として蓚酸（１．１０ｇ）を混合して調製しておいた溶液を、２５℃にて３０分かけて滴下し、さらに２５℃にて３０分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて加熱して３０分間還流させた後、予め調製しておいた、Ｅ４の含有量９２質量％のメタノール溶液（１．２０ｇ）とＥＣ（０．９０ｇ）の混合溶液を加えた。さらに３０分間還流させた後、放冷してＳｉＯ_２換算濃度が１２質量％のポリシロキサン溶液（２）を得た。

＜合成例１５＞
温度計及び還流管を備え付けた２００ｍｌの四つ口反応フラスコ中で、ＥＣ（２９．２ｇ）、Ｅ１（４．１０ｇ）及びＥ５（３８．８ｇ）を混合して、アルコキシシランモノマーの溶液を調製した。この溶液に、予めＥＣ（１４．６ｇ）、水（１０．８ｇ）、及び触媒として蓚酸（０．５０ｇ）を混合して調製しておいた溶液を、２５℃にて３０分かけて滴下し、さらに２５℃にて３０分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて加熱して３０分間還流させた後、予め調製しておいた、Ｅ４の含有量９２質量％のメタノール溶液（１．２０ｇ）とＥＣ（０．９０ｇ）の混合溶液を加えた。さらに３０分間還流させた後、放冷してＳｉＯ_２換算濃度が１２質量％のポリシロキサン溶液（３）を得た。

＜合成例１６＞
温度計及び還流管を備え付けた２００ｍｌの四つ口反応フラスコ中で、ＥＣＳ（２８．３ｇ）、Ｅ２（４．０７ｇ）、Ｅ３（７．４５ｇ）及びＥ５（３２．５ｇ）を混合して、アルコキシシランモノマーの溶液を調製した。この溶液に、予めＥＣＳ（１４．２ｇ）、水（１０．８ｇ）、及び触媒として蓚酸（０．７０ｇ）を混合して調製しておいた溶液を、２５℃にて３０分かけて滴下し、さらに２５℃にて３０分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて加熱して３０分間還流させた後、予め調製しておいた、Ｅ４の含有量が９２質量％のメタノール溶液（１．２０ｇ）とＥＣＳ（０．９０ｇ）の混合溶液を加えた。さらに３０分間還流させた後、放冷してＳｉＯ_２換算濃度が１２質量％のポリシロキサン溶液（４）を得た。
合成例１３〜１６で得られたポリシロキサン系重合体を表１１に示す。

「液晶組成物の調製」
（液晶組成物（１））
Ｌ１（２．４０ｇ）、Ｒ１（１．２０ｇ）、Ｒ２（１．２０ｇ）、Ｓ１（０．０２４ｇ）及びＰ１（０．０１２ｇ）を混合し、液晶組成物（１）を得た。
（液晶組成物（２））
Ｌ１（２．４０ｇ）、Ｒ１（１．２０ｇ）、Ｒ２（１．２０ｇ）、Ｓ１（０．２４ｇ）及びＰ１（０．０１２ｇ）を混合し、液晶組成物（２）を得た。
（液晶組成物（３））
Ｌ１（２．４０ｇ）、Ｒ１（１．２０ｇ）、Ｒ２（１．２０ｇ）、Ｓ２（０．０４８ｇ）及びＰ１（０．０１２ｇ）を混合し、液晶組成物（３）を得た。
（液晶組成物（４））
Ｌ１（２．４０ｇ）、Ｒ１（１．２０ｇ）、Ｒ２（１．２０ｇ）及びＰ１（０．０１２ｇ）を混合し、液晶組成物（４）を得た。

「液晶表示素子の作製及び液晶配向性の評価（ガラス基板）」
実施例４、１１、１２、１６、１７及び２０、並びに比較例１、３及び５で得られた液晶配向処理剤を、細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過した。得られた溶液を純水及びＩＰＡ（イソプロピルアルコール）で洗浄した１００×１００ｍｍのＩＴＯ電極付きガラス基板（縦：１００ｍｍ、横：１００ｍｍ、厚さ：０．７ｍｍ）のＩＴＯ面上にスピンコートし、ホットプレート上にて１００℃で５分間、熱循環型クリーンオーブンにて２１０℃で３０分間加熱処理をして、膜厚が１００ｎｍの液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を得た。得られた液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を２枚用意し、その一方の基板の液晶配向膜面に、６μｍのスペーサーを塗布した。その後、その基板のスペーサーを塗布した液晶配向膜面に、ＯＤＦ（One Drop Filling）法にて前記の液晶組成物を滴下し、次いで、他方の基板の液晶配向膜界面が向き合うように貼り合わせを行い、処理前の液晶表示素子を得た。

この処理前の液晶表示素子に、照度２０ｍＷのメタルハライドランプを用いて、３５０ｎｍ以下の波長をカットし、照射時間３０秒で紫外線照射を行った。その際、液晶セルに紫外線を照射している際の照射装置内の温度は２５℃に制御した。これにより、液晶表示素子（リバース型素子）を得た。
この液晶表示素子を用いて、液晶配向性の評価を行った。液晶配向性は、本素子を偏光顕微鏡（ECLIPSE E600WPOL）（ニコン社製）で観察し、液晶が垂直に配向しているかどうかを確認した。具体的には、液晶が垂直に配向しているものを、本評価に優れるとした（表１５〜１７中の良好表示）。
上記の液晶配向性の評価が終了した液晶表示素子を、温度９０℃の恒温槽内に９６時間保管した。その後、上記と同様の条件で、液晶配向性の評価を行った。具体的には、液晶配向性に乱れが見られず、均一に液晶が配向しているものを、本評価に優れるとした（表１５〜１７中の良好表示）。

「液晶表示素子の作製及び液晶配向性の評価（プラスチック基板）」
実施例１〜３、５〜１０、１３〜１５、１８，１９、及び比較例２及び４で得られた液晶配向処理剤を、細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過した。得られた溶液を純水で洗浄した１５０×１５０ｍｍのＩＴＯ電極付きＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）基板（縦：１５０ｍｍ、横：１５０ｍｍ、厚さ：０．２ｍｍ）のＩＴＯ面上にバーコーターにて塗布し、ホットプレート上にて１００℃で５分間、熱循環型クリーンオーブンにて１２０℃で２分間加熱処理をして、膜厚が１００ｎｍの液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を得た。得られた液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を２枚用意し、その一方の基板の液晶配向膜面に、６μｍのスペーサーを塗布した。その後、その基板のスペーサーを塗布した液晶配向膜面に、ＯＤＦ法にて前記の液晶組成物を滴下し、次いで、他方の基板の液晶配向膜界面が向き合うように貼り合わせを行い、処理前の液晶表示素子を得た。

この処理前の液晶表示素子に、照度２０ｍＷのメタルハライドランプを用いて、３５０ｎｍ以下の波長をカットし、照射時間３０秒で紫外線照射を行った。その際、液晶セルに紫外線を照射している際の照射装置内の温度は２５℃に制御した。これにより、液晶表示素子（リバース型素子）を得た。
この液晶表示素子を用いて、液晶配向性の評価を行った。液晶配向性は、本素子を偏光顕微鏡（ECLIPSE E600WPOL）（ニコン社製）で観察し、液晶が垂直に配向しているかどうかを確認した。具体的には、液晶が垂直に配向しているものを、本評価に優れるとした（表１５〜１７中の良好表示）。
上記の液晶配向性の評価が終了した液晶表示素子を、温度９０℃の恒温槽内に９６時間保管した。その後、上記と同様の条件で、液晶配向性の評価を行った。具体的には、液晶配向性に乱れが見られず、均一に液晶が配向しているものを、本評価に優れるとした（表１５〜１７中の良好表示）。

「光学特性（透明性と散乱特性）の評価」
前記手法で得られた液晶表示素子（ガラス基板及びプラスチック基板）を用いて、光学特性（透明性と散乱特性）の評価を行った。
電圧無印加時の透明性の評価は、電圧無印加状態での液晶表示素子（ガラス基板及びプラスチック基板）の透過率を測定することで行った。具体的には、測定装置にＵＶ−３６００（島津製作所社製）、温度２５℃、スキャン波長を３００〜８００ｎｍの条件で透過率を測定した。その際、液晶表示素子（ガラス基板）の場合は、リファレンス（参照例）に上記ＩＴＯ電極付きガラス基板を用い、液晶表示素子（プラスチック基板）の場合は、上記のＩＴＯ電極付きＰＥＴ基板を用いた。評価は、４５０ｎｍの波長の透過率を基準として、透過率が高いものほど、透明性に優れるとした。

さらに、実施例１〜３、５〜７、１３〜１７及び２０においては、上記の標準試験に加えて、強調試験として、温度９０℃の恒温槽内に１４４時間保管した後の液晶表示素子の透過率の評価を行った。なお、評価方法は、上記と同様の条件である。透過率（％）の値を、表１５〜１７に示す。
電圧印加時の散乱特性の評価は、液晶表示素子（ガラス基板及びプラスチック基板）に、交流駆動で３０Ｖを印加し、液晶の配向状態を目視観察することで行った。具体的には、素子が白濁したもの、すなわち、散乱特性が得られたものを、本評価に優れるとした（表１５〜１７中の良好表示）。

「液晶層と液晶配向膜との密着性の評価」
前記手法で得られた液晶表示素子（ガラス基板及びプラスチック基板）を用いて、液晶層と液晶配向膜との密着性の評価を行った。
液晶表示素子（ガラス基板及びプラスチック基板）を、温度８０℃、湿度９０％ＲＨの恒温恒湿槽内に２４時間保管し、液晶表示素子内の気泡の有無及び素子の剥離を確認した。具体的には、素子内に気泡が見られずに素子の剥離（液晶層と液晶配向膜とが剥がれている状態）が起こっていないものを、本評価に優れるとした（表中の良好表示）。
さらに、実施例１〜３、５〜７、１３〜１７及び２０においては、上記の標準試験に加えて、強調試験として、温度８０℃、湿度９０％ＲＨの恒温恒湿槽内に４８時間保管した後の評価も行った。なお、評価方法は、上記と同様の条件である。液晶層と液晶配向膜との密着性の結果（密着性）を、表１５〜１７に示す。

＜液晶配向処理剤の調製＞
＜液晶配向処理剤（１）＞
合成例１で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（１）（５．５０ｇ）に、ＰＧＭＥ（２０．７ｇ）及びγ−ＢＬ（４．３８ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（２）＞
合成例１で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（１）（１０．０ｇ）に、Ｎ１（０．１２５ｇ）、Ｍ１（０．３７５ｇ）、Ｋ１（０．１７５ｇ）、ＰＧＭＥ（３７．６ｇ）及びγ−ＢＬ（７．９６ｇ）を加え、２５℃で６時間攪拌して、液晶配向処理剤（２）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（３）＞
合成例２で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（２）（５．５０ｇ）に、ＮＭＰ（１０．５ｇ）及びＢＣＳ（１４．６ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（３）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（４）＞
合成例３で得られたポリイミド粉末（３）（１．４５ｇ）に、γ−ＢＬ（３．０８ｇ）及びＰＧＭＥ（２７．７ｇ）を加え、６０℃にて２４時間攪拌して、液晶配向処理剤（４）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（５）＞
合成例４で得られたポリイミド粉末（４）（１．４０ｇ）に、γ−ＢＬ（２．９７ｇ）及びＰＧＭＥ（２６．７ｇ）を加え、６０℃にて２４時間攪拌して、液晶配向処理剤（５）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（６）＞
合成例４で得られたポリイミド粉末（４）（１．４０ｇ）に、γ−ＢＬ（２．９７ｇ）及びＰＧＭＥ（２６．７ｇ）を加え、６０℃にて２４時間攪拌した。その後、Ｎ１（０．０９８ｇ）、Ｍ１（０．４２ｇ）及びＫ１（０．０７ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（６）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（７）＞
合成例４で得られたポリイミド粉末（４）（１．４５ｇ）に、γ−ＢＬ（６．１５ｇ）及びＰＧＭＥ（２４．６ｇ）を加え、６０℃にて２４時間攪拌した。その後、Ｎ１（０．０７３ｇ）及びＫ１（０．１４５ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（７）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（８）＞
合成例５で得られたポリイミド粉末（５）（１．４５ｇ）に、γ−ＢＬ（６．１５ｇ）及びＰＧＭＥ（２４．６ｇ）を加え、６０℃にて２４時間攪拌した。その後、Ｎ１（０．０４４ｇ）、Ｍ１（０．１４５ｇ）及びＫ１（０．０７３ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（８）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（９）＞
合成例６で得られたポリイミド粉末（６）（１．４０ｇ）に、γ−ＢＬ（２．９７ｇ）及びＰＧＭＥ（２６．７ｇ）を加え、６０℃にて２４時間攪拌した。その後、Ｎ１（０．０７ｇ）及びＫ１（０．０９８ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（９）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（１０）＞
合成例７で得られたポリイミド粉末（７）（１．４５ｇ）に、γ−ＢＬ（１３．９ｇ）、ＢＣＳ（７．６９ｇ）及びＰＢ（９．２３ｇ）を加え、６０℃にて２４時間攪拌した。その後、Ｎ１（０．１０２ｇ）、Ｍ２（０．０７３ｇ）及びＫ１（０．０７３ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１０）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（１１）＞
合成例８で得られたポリイミド粉末（８）（１．４５ｇ）に、ＮＥＰ（１２．３ｇ）、ＢＣＳ（９．２３ｇ）及びＰＢ（９．２３ｇ）を加え、６０℃にて２４時間攪拌した。その後、Ｎ１（０．０７３ｇ）及びＫ１（０．０４４ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１１）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（１２）＞
合成例９で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（９）（５．５０ｇ）に、ＰＧＭＥ（２０．７ｇ）及びγ−ＢＬ（４．３８ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１２）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（１３）＞
合成例９で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（９）（５．５０ｇ）に、ＰＧＭＥ（２０．７ｇ）及びγ−ＢＬ（４．３８ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌した。その後、Ｎ１（０．０６９ｇ）、Ｍ２（０．１３８ｇ）及びＫ１（０．０９７ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１３）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（１４）＞
合成例１０で得られたポリイミド粉末（１０）（１．４５ｇ）に、γ−ＢＬ（３．０８ｇ）及びγ−ＢＬ（２７．７ｇ）を加え、６０℃にて２４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１４）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（１５）＞
合成例１３で得られたポリシロキサン溶液（１）（１２．５ｇ）に、ＥＣＳ（１．７３ｇ）、ＢＣＳ（９．５５ｇ）及びＰＢ（９．５５ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１５）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（１６）＞
合成例１４で得られたポリシロキサン溶液（２）（１２．０ｇ）に、Ｎ１（０．０７２ｇ）、Ｍ１（０．２８８ｇ）、ＥＣ（０．１４ｇ）、ＰＢ（１０．７ｇ）及びＰＧＭＥ（９．１７ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１６）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（１７）＞
合成例１５で得られたポリシロキサン溶液（３）（１２．０ｇ）に、ＥＣ（０．１４ｇ）、ＰＢ（１０．７ｇ）及びＰＧＭＥ（９．１７ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１７）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（１８）＞
合成例１６で得られたポリシロキサン溶液（４）（１２．０ｇ）に、ＥＣＳ（１．６６ｇ）、ＢＣＳ（９．１７ｇ）及びＰＢ（９．１７ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１８）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（１９）（比較例）＞
合成例１１で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（１１）（５．５０ｇ）に、ＮＭＰ（１０．５ｇ）及びＢＣＳ（１４．６ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌して、液晶配向処理剤（１９）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜液晶配向処理剤（２０）（比較例）＞
合成例１２で得られたポリイミド粉末（１２）（１．４５ｇ）に、γ−ＢＬ（３．０８ｇ）及びＰＧＭＥ（２７．７ｇ）を加え、６０℃にて２４時間攪拌して、液晶配向処理剤（２０）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。

＜実施例１〜２０、及び比較例１〜５＞
上記液晶組成物（１）〜（４）のいずれかと液晶配向処理剤（１）〜（２０）のいずれかとを、下記の表１２〜１７に示される組み合わせで用い、評価用の液晶表示素子を作製し、当該液晶表示素子の評価を行った。それらの結果を表１２〜１４に示した。

なお、表１２〜１４中、＊１〜＊３は、それぞれ、以下を意味する。
＊１：全ての重合体１００質量部に対する特定発生剤の含有割合（質量部）を示す。＊２：全ての重合体１００質量部に対する特定密着性化合物の含有割合（質量部）を示す。＊３：全ての重合体１００質量部に対する特定架橋性化合物の含有割合（質量部）を示す。
また、表１５〜１７中、＊１〜＊５は、それぞれ、以下を意味する。
＊１：液晶が垂直に配向していなかった。＊２：素子内の数箇所に、液晶配向性の乱れが見られた。＊３：素子内に、極少量の気泡が見られた。＊４：素子内に、少量の気泡が見られた（＊３よりも多い）。＊５：液晶が垂直に配向していなかったため、評価ができなかった。

上記の表１２〜１７からわかるように、実施例の液晶表示素子は、比較例に比べて、恒温恒湿槽保管後の液晶配向性と電圧無印加時の透明性が良好であり、液晶層と液晶配向膜との密着性も高かった。特に、液晶表示素子の基板に、プラスチック基板を用いてもこれら特性は良好であった。
特に、液晶組成物中に、特定化合物を含む実施例は、それを含まない比較例に比べて、液晶表示素子を恒温槽に保管しても液晶配向性に乱れが見られず、さらに、液晶表示素子の電圧無印加時の透明性が高くなった。具体的には、同一の条件での比較である、実施例４と比較例３、実施例５と比較例４、及び実施例１６と比較例５の比較である。

また、液晶組成物中の特定化合物の量が多い場合は、少ない場合に比べて、液晶表示素子の電圧無印加時の透明性が高い結果となった。具体的には、同一の条件での比較である、実施例２と実施例３、及び実施例１６と実施例１７の比較である。
さらに、特定側鎖構造のなかで、式［２−１］の特定側鎖構造を用いた場合は、式［２−２］を用いた場合に比べて、液晶表示素子の電圧無印加時の透明性が高くなり、強調試験として行った、長時間恒温槽に保管（上記温度９０℃の恒温槽に１４４時間保管）した後でも、電圧無印加時の透明性が高くなる結果となった。加えて、液晶層と液晶配向膜との密着性の評価において、式［２−１］の特定側鎖構造を用いた場合は、強調試験として行った、長時間恒温恒湿槽に保管（温度８０℃、湿度９０％ＲＨの恒温恒湿槽内に４８時間保管）した後でも密着性が高い結果となった。具体的には、強調試験における同一条件での比較である、実施例５と実施例１５、及び実施例１６と実施例２０との比較である。

加えて、液晶配向処理剤に、特定発生剤、特定密着性化合物及び特定架橋性化合物を導入すると、それらを導入していない場合に比べて、液晶表示素子における液晶層と液晶配向膜との密着性が、より改善する結果となった。具体的には、強調試験における同一条件での比較である、実施例１と実施例２、実施例６と実施例７、及び実施例１３と実施例１４との比較である。

本発明の液晶表示素子は、表示を目的とする液晶ディスプレイ、更には、自動車、鉄道、航空機などの輸送機器や輸送機械において、光の透過と遮断を制御する調光窓や光シャッター素子、特に、リバース型素子などに用いられる。
特に、本素子は乗り物のガラス窓に使用した場合は、従来のリバース型素子に比べて、夜間時における光の取り入れ効率が高く、外光からの眩しさを防ぐ効果も高くなる。そのため、乗り物を運転する際の安全性や乗車時の快適性を、より改善できる。また、本素子をフィルムで作製し、それを乗り物のガラス窓に貼って使用する場合、従来のリバース型素子に比べて、液晶層と液晶配向膜との密着性が低いことが要因の不良や劣化が起こりにくいため、素子の信頼性が高くなる。

更に、本素子は、ＬＣＤ、ＯＬＥＤ等のディスプレイ装置の導光板や、透明ディスプレイの裏板に用いられる。具体的には、透明ディスプレイの裏板に用いる場合、透明ディスプレイと本素子とを合わせて透明ディスプレイ上で画面表示を行う場合に、その背面からの光の入り込みを抑制できる。
なお、２０１４年９月２５日に出願された日本特許出願２０１４−１９５６０１号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (10)

1. 電極を備えた一対の基板の間に配置した液晶及び重合性化合物を含む液晶組成物に対し、紫外線を照射して硬化させた液晶層を有し、かつ基板の少なくとも一方が液晶を垂直に配向させる液晶配向膜を備え、かつ電圧無印加時に透過状態となり、電圧印加時に散乱状態となる透過散乱型の液晶表示素子であって、
   前記液晶組成物が、下記の式［１ａ−１］〜式［１ａ−６］で示される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有し、かつ、
   前記液晶配向膜が、下記の式［２−１］又は式［２−２］で示される側鎖構造を有する重合体を含有する液晶配向処理剤から得られることを特徴とする液晶表示素子。
   

   

   

   （Ｘ ^ａ 、Ｘ ^ｂ 、Ｘ ^ｄ 、Ｘ ^ｆ 、Ｘ ^ｈ 及びＸ ^ｋ は、それぞれ独立に、炭素数１〜１８のアルキル基又は炭素数１〜１８のアルコキシ基を示す。Ｘ ^ｃ 及びＸ ^ｉ は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を示す。Ｘ ^ｅ 、Ｘ ^ｇ 及びＸ ^ｊ は、それぞれ独立に、−ＣＨ _２ −、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を示す。ｐ１、ｐ３、ｐ５、ｐ７、ｐ８及びｐ９は、それぞれ独立に、１〜１２の整数を示す。ｐ２、ｐ４及びｐ６は、それぞれ独立に、１又は２の整数を示す。）
   

   

   （Ｙ^１及びＹ^３は、それぞれ独立して、単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｙ^２は単結合又は−（ＣＨ_２）_ｂ−（ｂは１〜１５の整数である）を示す。Ｙ^４はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の環状基、又はステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の２価の有機基を示し、前記環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシ基又はフッ素原子で置換されていてもよい。Ｙ^５はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環からなる群から選ばれる少なくとも１種の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシ基又はフッ素原子で置換されていてもよい。ｎは０〜４の整数を示す。Ｙ^６は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシ基及び炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。）
   

   

   （Ｙ^７は単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｙ^８は炭素数８〜２２のアルキル基又は炭素数６〜１８のフッ素含有アルキル基を示す。）
2. 前記液晶配向処理剤が、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、セルロース及びポリシロキサンからなる群から選ばれる少なくとも１つの重合体を含む液晶配向処理剤である請求項１に記載の液晶表示素子。
3. 前記液晶配向処理剤が、前記式［２−１］又は式［２−２］で示される側鎖構造を有するジアミンを含有するジアミン成分と、テトラカルボン酸成分との反応で得られるポリイミド前駆体又は該ポリイミド前駆体をイミド化したポリイミドを含む液晶配向処理剤である請求項１に記載の液晶表示素子。
4. 前記ジアミンが、下記の式［２ａ］で示されるジアミンである請求項３に記載の液晶表示素子。
   

   

   （Ｙは前記式［２−１］又は式［２−２］で示される構造を示す。ｍは１〜４の整数を示す。）
5. 前記テトラカルボン酸成分が、下記の式［３］で示されるテトラカルボン酸二無水物を含む請求項３又は４に記載の液晶表示素子。
   

   

   （Ｚは下記の式［３ａ］〜式［３ｋ］で示される構造からなる群から選ばれる少なくとも１種の構造を示す。）
   

   

   （Ｚ^１〜Ｚ^４は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、塩素原子及びベンゼン環からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。Ｚ^５及びＺ^６は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を示す。）
6. 前記液晶配向処理剤が、下記の式［Ａ１］で示されるアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、又は、該式［Ａ１］で示されるアルコキシシランと、下記の式［Ａ２］で示されるアルコキシシラン及び／又は式［Ａ３］で示されるアルコキシシランとを重縮合させて得られるポリシロキサンを含む請求項１に記載の液晶表示素子。
   

   

   （Ａ^１は前記式［２−１］又は式［２−２］で示される側鎖構造を示す。Ａ^２は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ａ^３は炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｍは１又は２の整数を示す。ｎは０〜２の整数を示す。ｐは０〜３の整数を示す。ただし、ｍ＋ｎ＋ｐは４である。）
   

   

   （Ｂ^１はビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基、メタクリル基、アクリル基、ウレイド基及びシンナモイル基からなる群から選ばれる少なくとも１種を有する炭素数２〜１２の有機基を示す。Ｂ^２は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ｂ^３は炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｍは１又は２の整数を示す。ｎは０〜２の整数を示す。ｐは０〜３の整数を示す。ただし、ｍ＋ｎ＋ｐは４である。）
   

   

   （Ｄ^１は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ｄ^２は炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｎは０〜３の整数を示す。）
7. 前記液晶配向処理剤が、光ラジカル発生剤、光酸発生剤及び光塩基発生剤からなる群から選ばれる少なくとも１種の発生剤を含有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
8. 前記液晶配向処理剤が、下記の式［ｂ−１］〜式［ｂ−８］で示される構造からなる群から選ばれる少なくとも１つの構造を有する化合物を含有する請求項１〜７のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
   

   

   （Ｂ^ａは水素原子又はベンゼン環を示す。Ｂ^ｂはベンゼン環、シクロへキサン環及び複素環からなる群から選ばれる少なくとも１種の環状基を示す。Ｂ^ｃは炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシ基及び炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。）
9. 前記液晶配向処理剤が、エポキシ基、イソシアネート基、オキセタン基、シクロカーボネート基、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基及び低級アルコキシアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の置換基を有する化合物を含有する請求項１〜８のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
10. 前記液晶表示素子の基板が、ガラス基板又はプラスチック基板である請求項１〜９のいずれか一項に記載の液晶表示素子。