JP6667698B1 - ローラ搬送式焼成炉のシャッター装置 - Google Patents

ローラ搬送式焼成炉のシャッター装置 Download PDF

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Abstract

【課題】上下シャッター部材を収容するシャッターケースの変形を抑制することができるローラ搬送式焼成炉のシャッター装置を提供する。【解決手段】焼成炉のシャッター装置Ｓ１〜Ｓ７は、上下方向に駆動され、炉体内の空間を開閉する上下シャッター部材４８と、炉体に固定され、上下シャッター部材４８を収容して上下方向に案内するシャッターケース７６とを、含み、シャッターケース７６は、上下方向に積層された断熱板材ＣＦＢの積層体により構成されている。このことから、上下シャッター部材を収容するシャッターケース７６の熱変形を抑制することができる。これにより、上下シャッター部材４８とそれを収容するシャッターケース７６との間で干渉が発生し、摩耗粉が炉内に散乱することが、解消される。【選択図】図５

Description

本発明は、被加熱材を一方向に順次搬送しつつ加熱処理するローラ搬送式焼成炉内を、複数の加熱領域に分割する、ローラ搬送式焼成炉のシャッター装置に関する。
従来、トンネル状の炉体を幅方向に貫通して設けられた水平な複数本の搬送ローラによって被加熱材を順次搬送する形式のローラ搬送式焼成炉が知られている。たとえば、このような特許文献１に記載された焼成炉がそれである。このようなローラ搬送式焼成炉は、たとえばローラハースキルン（ＲＨＫ）と称されている。
ところで、上記のような焼成炉では、たとえば脱脂室、予熱室、焼成室、徐冷室、冷却室などの複数の加熱領域に分割するシャッター部材装置が設けられ、所定の雰囲気に維持されつつ所定のヒートプロファイルにて被加熱材に加熱処理が施される。このようなローラ搬送式焼成炉は、たとえばガス浸炭処理などに用いられる。
この特許文献１に記載のローラ搬送式焼成炉では、炉体の上に配置されたシリンダ機構を含む開閉扉昇降器により支持シャフトを介して開閉扉すなわち上下シャッター部材がシャッターケース内を上下方向に駆動されることにより、上下シャッター部材がシャッターケースに貫通して形成された貫通穴を開閉するようになっている。
特開２００８−２０９０６０号公報
上記従来のローラ搬送式焼成炉によれば、上下シャッター部材を収容するシャッターケースは、アルミナとシリカとを繊維化したセラミックファイバーなどから成る繊維性断熱材により構成される。このような断熱材は、耐熱性や断熱性が高く、柔軟且つ軽量であるため、加工性および施行性が高く、安価であるという特徴がある。しかしながら、上記のようにセラミックファイバーから成る断熱材によってシャッターケースが構成される場合において、特にシャッター部材が分割した加熱領域の温度差が大きいと、熱変形が発生し、上下シャッターとの間の隙間がなくなって、上下シャッターとそれを収容するシャッターケースとの間で干渉が発生し、摩耗粉が炉内に散乱するという問題があった。このような摩耗粉が被加熱材に混入すると、被加熱材の品質が損なわれるという問題も誘発されるおそれがあった。
本発明は、以上の事情を背景として為されたものであり、その目的とするところは、上下シャッター部材を収容するシャッターケースの変形を抑制することができるローラ搬送式焼成炉のシャッター装置を提供することにある。
第１発明の要旨とするところは、トンネル状の炉体を有し、前記炉体を幅方向に貫通する複数本の搬送ローラにより搬送される被加熱材に熱処理を施すローラ搬送式焼成炉において前記炉体内の空間を前記空間の長手方向に複数の加熱領域に分割する、ローラ搬送式焼成炉のシャッター装置であって、上下方向に駆動され、前記炉体内に設けられた上下シャッター部材と、前記炉体に固定され、前記上下シャッター部材を収容して上下方向に案内するシャッターケースとを、含み、前記シャッターケースは、上下方向に積層された断熱板材の積層体により構成されており、前記シャッターケースは、前記被加熱材を通過させる貫通穴がそれぞれ形成された前壁および後壁と、前記前壁および後壁の幅方向の両端部をそれぞれ接続する一対の側壁とを有し、前記前壁および後壁と前記一対の側壁との間に形成された収容空間内に前記上下シャッター部材を上下方向の移動可能に収容し、前記シャッターケースの前記前壁および後壁の内壁面には、案内レールが上下方向にそれぞれ延設され、前記上下シャッター部材の前面および後面には、前記案内レールが嵌め入れられる凹状案内溝が形成され、前記上下シャッター部材は、前記上下シャッター部材の前面および後面が前記案内レールの前記内壁面からの突出し寸法よりも小さな間隔を前記内壁面との間に隔てた状態で、前記案内レールにより上下方向に案内されることにある。
第２発明の要旨とするところは、第１発明において、前記シャッターケースを構成する前記断熱板材の積層体は、セラミックファイバーで構成された枠状断熱板材同士が積層状態でセラミックボンドによって相互に接着されたものである。
第３発明の要旨とするところは、第１発明または第２発明において、前記複数本の搬送ローラは、前記上下シャッター部材の下方に位置して一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラを含み、前記上下シャッター部材は、前記一定の芯間隔よりも大きい厚みを有する、セラミックファイバーで構成された繊維性断熱板材から構成されていることにある。
第４発明の要旨とするところは、第３発明において、前記上下シャッター部材は、前記一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラのうちの隣り合う一対の搬送ローラの芯間隔よりも大きい厚みと、前記一対の搬送ローラとの干渉を回避するために下端開閉面と前面および後面との間の稜部にそれぞれ形成された一対の凹溝とを有し、閉位置に下降させられた状態では、前記下端開閉面が前記搬送ローラの間に位置するものであることにある。
第５発明の要旨とするところは、第３発明または第４発明において、前記一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラの間を通して、前記上下シャッター部材の下端部から下方へ突き出す一対の支持棒と、前記炉体の下側に配置され、前記一対の支持棒を介して前記上下シャッター部材を上下方向に駆動して開位置と閉位置とに位置させるシャッター駆動装置とを、含むことにある。
第６発明の要旨とするところは、第３発明から第５発明のいずれか１の発明において、前記シャッターケースは、前記一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラのうちの隣り合う２本の搬送ローラを間に挟んで位置する一対の搬送ローラの間隔よりも大きい寸法の厚み寸法を有し、前記シャッターケースには、前記２本の搬送ローラを幅方向に貫通させる貫通穴と、前記２本の搬送ローラの外側に隣接する前記一対の搬送ローラとの干渉を回避するため一対の凹溝とが形成されていることにある。
第７発明の要旨とするところは、トンネル状の炉体を有し、前記炉体を幅方向に貫通する複数本の搬送ローラにより搬送される被加熱材に熱処理を施すローラ搬送式焼成炉において前記炉体内の空間を前記空間の長手方向に複数の加熱領域に分割する、ローラ搬送式焼成炉のシャッター装置であって、上下方向に駆動され、前記炉体内に設けられた上下シャッター部材と、前記炉体に固定され、前記上下シャッター部材を収容して上下方向に案内するシャッターケースとを、含み、前記シャッターケースは、上下方向に積層された断熱板材の積層体により構成されており、前記複数本の搬送ローラは、前記上下シャッター部材の下方に位置して一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラを含み、前記上下シャッター部材は、前記一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラのうちの隣り合う一対の搬送ローラの芯間隔よりも大きい厚みと、前記一対の搬送ローラとの干渉を回避するために下端開閉面と前面および後面との間の稜部にそれぞれ形成された一対の凹溝とを有し、閉位置に下降させられた状態では、前記下端開閉面が前記一対の搬送ローラの間に位置するものであることにある。
第８発明の要旨とするところは、第７発明において、前記シャッターケースは、前記一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラのうちの隣り合う一対の搬送ローラの芯間隔よりも大きい厚みと、前記一対の搬送ローラとの干渉を回避するために上端開閉面と前面および後面との間の稜部にそれぞれ形成された一対の凹溝と、前記一対の搬送ローラの間に位置させられ、前記上下シャッター部材が前記閉位置に下降させられた状態では、前記上下シャッター部材の下端開閉面が接近させられる前記上端開閉面とを有し、前記炉体に固定された固定シャッター部材を、位置固定に収容することにある。
第９発明の要旨とするところは、トンネル状の炉体を有し、前記炉体を幅方向に貫通する複数本の搬送ローラにより搬送される被加熱材に熱処理を施すローラ搬送式焼成炉において前記炉体内の空間を前記空間の長手方向に複数の加熱領域に分割する、ローラ搬送式焼成炉のシャッター装置であって、上下方向に駆動され、前記炉体内に設けられた上下シャッター部材と、前記炉体に固定され、前記上下シャッター部材を収容して上下方向に案内するシャッターケースとを、含み、前記シャッターケースは、上下方向に積層された断熱板材の積層体により構成されており、前記複数本の搬送ローラのうちの隣り合う一対の搬送ローラの間を通して、前記上下シャッター部材の下端部から下方へ突き出す一対の支持棒と、前記炉体の下側に配置され、前記一対の支持棒を介して前記上下シャッター部材を上下方向に駆動して開位置と閉位置とに位置させるシャッター駆動装置とを、含むことにある。
第１０発明の要旨とするところは、第９発明において、前記炉体は、基台フレームによって支持されており、前記基台フレームは、下側フレームと、前記下側フレームから上方へ突き出す支柱フレームと、前記支柱フレームにより支持され、前記炉体が載置される上側フレームとを有し、前記シャッター駆動装置は、前記上側フレームに設けられていることにある。
第１１発明の要旨とするところは、第１０発明において、前記シャッター駆動装置は、前記一対の支持棒の下端部が固定された上下プレートと、前記上側フレームに固定され、前記上下プレートを上下方向に案内する上下方向案内装置と、前記上側フレームに固定され、前記上下プレートを上下方向に駆動する減速機付電動機とを、含むことにある。
第１発明のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置によれば、上下方向に駆動され、前記炉体内に設けられた上下シャッター部材と、前記炉体に固定され、前記上下シャッター部材を収容して上下方向に案内するシャッターケースとを、含み、前記シャッターケースは、上下方向に積層された断熱板材の積層体により構成されている。このことから、上下シャッター部材を収容するシャッターケースの熱変形を抑制することができる。これにより、上下シャッターとそれを収容するシャッターケースとの間で干渉が発生し、摩耗粉が炉内に散乱することが、解消される。また、前記シャッターケースは、前記被加熱材を通過させる貫通穴がそれぞれ形成された前壁および後壁と、前記前壁および後壁の幅方向の両端部をそれぞれ接続する一対の側壁とを有し、前記前壁および後壁と前記一対の側壁との間に形成された収容空間内に前記上下シャッター部材が上下方向の移動可能に収容される。これにより、上下シャッター部材で分割された加熱領域間の断熱性能が高められ、加熱領域間の温度差を急峻に形成できる。また、炉長を短縮することができる。さらに、前記シャッターケースの前記前壁および後壁の内壁面には、案内レールが上下方向にそれぞれ延設され、前記上下シャッター部材の前面および後面には、前記案内レールが嵌め入れられる凹状案内溝が形成され、前記上下シャッター部材は、前記上下シャッター部材の前面および後面が前記案内レールの前記内壁面からの突出し寸法よりも小さな間隔を前記内壁面との間に隔てた状態で、前記案内レールにより上下方向に案内される。これにより、上下シャッター部材は、前記上下シャッター部材の前面および後面が前記案内レールの前記内壁面からの突出し寸法よりも小さな間隔を前記内壁面との間に隔てた状態で、前記案内レールにより上下方向に案内されるので、上下シャッター部材とそれを収容するシャッターケースとの間で干渉が防止されるとともに、上下シャッター部材で分割された加熱領域間の断熱性能が高められる。
第２発明のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置によれば、前記シャッターケースを構成する前記断熱板材の積層体は、セラミックファイバーで構成された枠状断熱板材同士が積層状態でセラミックボンドによって相互に接着されたものであることから、枠状断熱板材の剛性が高められるので、上下シャッター部材を収容するシャッターケースの熱変形が一層抑制される。
第３発明のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置によれば、前記複数本の搬送ローラは、前記上下シャッター部材の下方に位置して一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラを含み、前記上下シャッター部材は、前記一定の芯間隔よりも大きい厚みを有する、セラミックファイバーで構成された板状繊維性断熱材から構成されていることから、高い断熱性が得られるので、上下シャッター部材で分割された加熱領域間の断熱性能が高められ、加熱領域間の温度差を急峻に形成できる。また、炉長を短縮することができる。
第４発明のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置によれば、前記上下シャッター部材は、前記一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラのうちの隣り合う一対の搬送ローラの芯間隔よりも大きい厚みと、前記一対の搬送ローラとの干渉を回避するために下端開閉面と前面および後面との間の稜部にそれぞれ形成された一対の凹溝とを有し、閉位置に下降させられた状態では、前記下端開閉面が前記搬送ローラの間に位置するものであることにある。このことから、上下シャッター部材全体が比較的肉厚の断熱材により構成できるので、加熱領域間の断熱性能が充分に得られ、加熱領域間の温度差を急峻に形成できる。また、搬送ローラ間の間隔を小さくでき、小さな被加熱物の搬送を安定して行なうことができる利点がある。
第５発明のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置によれば、前記一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラの間を通して、上下シャッター部材の下端部から下方へ突き出す一対の支持棒と、前記炉体の下側に配置され、前記一対の支持棒を介して前記上下シャッター部材を上下方向に駆動して開位置と閉位置とに位置させるシャッター駆動装置とを、含む。このように、シャッター駆動装置は、炉体の下側に配置されていることから、炉体の熱の影響を受け難いので、上下シャッター部材を上下に駆動するシャッター駆動装置に大がかりな冷却機構装置を設ける必要がない。
第６発明のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置によれば、前記シャッターケースは、前記一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラのうちの隣り合う２本の搬送ローラを間に挟んで位置する一対の搬送ローラの間隔よりも大きい寸法の厚み寸法を有し、前記シャッターケースには、前記２本の搬送ローラを幅方向に貫通させる貫通穴と、前記２本の搬送ローラの外側に隣接する前記一対の搬送ローラとの干渉を回避するため一対の凹溝とが形成されている。このことから、上下シャッター部材全体が比較的肉厚の断熱材により構成できるので、加熱領域間の断熱性能が充分に得られ、加熱領域間の温度差を急峻に形成できる。また、搬送ローラ間の間隔を小さくでき、小さな被加熱物の搬送を安定して行なうことができる利点がある。
第７発明のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置によれば、トンネル状の炉体を有し、前記炉体を幅方向に貫通する複数本の搬送ローラにより搬送される被加熱材に熱処理を施すローラ搬送式焼成炉において前記炉体内の空間を前記空間の長手方向に複数の加熱領域に分割する、ローラ搬送式焼成炉のシャッター装置であって、上下方向に駆動され、前記炉体内に設けられた上下シャッター部材と、前記炉体に固定され、前記上下シャッター部材を収容して上下方向に案内するシャッターケースとを、含み、前記シャッターケースは、上下方向に積層された断熱板材の積層体により構成されており、前記複数本の搬送ローラは、前記上下シャッター部材の下方に位置して一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラを含み、前記上下シャッター部材は、前記一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラのうちの隣り合う一対の搬送ローラの芯間隔よりも大きい厚みと、前記一対の搬送ローラとの干渉を回避するために下端開閉面と前面および後面との間の稜部にそれぞれ形成された一対の凹溝とを有し、閉位置に下降させられた状態では、前記下端開閉面が前記一対の搬送ローラの間に位置する。このことから、上下シャッター部材全体が比較的肉厚の断熱材により構成できるので、加熱領域間の断熱性能が充分に得られ、加熱領域間の温度差を急峻に形成できる。また、搬送ローラ間の間隔を小さくでき、小さな被加熱物の搬送を安定して行なうことができる利点がある。
第８発明のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置によれば、前記シャッターケースは、前記一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラのうちの隣り合う一対の搬送ローラの芯間隔よりも大きい厚みと、前記一対の搬送ローラとの干渉を回避するために上端開閉面と前面および後面との間の稜部にそれぞれ形成された一対の凹溝と、前記一対の搬送ローラの間に位置させられ、前記上下シャッター部材が前記閉位置に下降させられた状態では、前記上下シャッター部材の下端開閉面が接近させられる前記上端開閉面とを有し、前記炉体に固定された固定シャッター部材を、位置固定に収容する。このことから、上下シャッター部材全体が比較的肉厚の断熱材により構成できるので、加熱領域間の断熱性能が充分に得られ、加熱領域間の温度差を急峻に形成できる。また、搬送ローラ間の間隔を小さくでき、小さな被加熱物の搬送を安定して行なうことができる利点がある。
第９発明のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置によれば、トンネル状の炉体を有し、前記炉体を幅方向に貫通する複数本の搬送ローラにより搬送される被加熱材に熱処理を施すローラ搬送式焼成炉において前記炉体内の空間を前記空間の長手方向に複数の加熱領域に分割する、ローラ搬送式焼成炉のシャッター装置であって、上下方向に駆動され、前記炉体内に設けられた上下シャッター部材と、前記炉体に固定され、前記上下シャッター部材を収容して上下方向に案内するシャッターケースとを、含み、前記シャッターケースは、上下方向に積層された断熱板材の積層体により構成されており、前記複数本の搬送ローラのうちの隣り合う一対の搬送ローラの間を通して、上下シャッター部材の下端部から下方へ突き出す一対の支持棒と、前記炉体の下側に配置され、前記一対の支持棒を介して前記上下シャッター部材を上下方向に駆動して開位置と閉位置とに位置させるシャッター駆動装置とを、含む。このように、シャッター駆動装置は、炉体の下側に配置されていることから、炉体の熱の影響を受け難いので、上下シャッター部材を上下に駆動するシャッター駆動装置に大がかりな冷却機構装置を設ける必要がない。
第１０発明のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置によれば、前記炉体は、基台フレームによって支持されており、前記基台フレームは、下側フレームと、前記下側フレームから上方へ突き出す支柱フレームと、前記支柱フレームにより支持され、前記炉体が載置される上側フレームとを有し、前記シャッター駆動装置は、前記上側フレームに設けられている。このように、シャッター駆動装置は、基台フレームのうちの上側フレームに設けられていることから、シャッター駆動装置による上下シャッター部材に対する位置ずれが抑制されるので、機械的強度が比較的低いシャッター部材の消耗が抑制される。
第１１発明のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置によれば、前記シャッター駆動装置は、前記一対の支持棒の下端部が固定された上下プレートと、前記上側フレームに固定され、前記上下プレートを上下方向に案内する上下方向案内装置と、前記上側フレームに固定され、前記上下プレートを上下方向に駆動する減速機付電動機とを、含む。これにより、炉体の下側に配置された上下方向案内装置や減速機付電動機について、大がかりな冷却装置を必要とせず、特別な耐熱性が要求されることがないので、一般的な性能の上下方向案内装置や減速機付電動機を用いることができる。
本発明の一実施例のローラ搬送式焼成炉を示す側面図である。 図１のローラ搬送式焼成炉において、炉壁とシャッター装置との関係を説明する水平断面図である。 図１のローラ搬送式焼成炉のIII−III視断面を拡大して示す図である。 図１のローラ搬送式焼成炉内に設けられているシャッター装置を拡大して示す図である。 図４の上下シャッター部材を収容するシャッターケースを示す斜視図である。 図４の上下シャッター部材がシャッターケース内に収容された状態を示す平面図である。 図４の上下シャッター部材の構成を、一部を切り欠いて説明する図である。
以下、本発明のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置の一実施例について図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の一例である複数の開閉可能なシャッター装置Ｓ１〜Ｓ７を複数個所に備えたローラ搬送式焼成炉（以下、焼成炉という）１２の側面図である。図２は、シャッター装置Ｓ１〜Ｓ７と焼成炉１２の炉壁２４と関係を説明する水平断面図である。焼成炉１２は、基台フレーム１４と基台フレーム１４に支持されたトンネル状の炉体１６とを備えている。基台フレーム１４は、下側フレーム１８と、下側フレーム１８から上方へ突き出す複数本の支柱フレーム２０と、支柱フレーム２０により支持され、炉体１６が載置される上側フレーム２２とを有している。
炉体１６は、たとえばバルクファイバーに無機フィラーと無機・有機結合材とを添加して板状に成形したセラミックファイバーボードが厚み方向に積み重ねられた断熱材によって構成された炉壁２４と、炉壁２４内において入口１６ａから出口１６ｂへ向かって形成された加熱領域すなわち処理空間Ｚとを備えている。そして、その処理空間Ｚは、炉体１６の長手方向において複数個所（本実施例では７個所）に設けられたシャッター装置Ｓ１〜Ｓ７および隔壁ＰＷによって７つの処理空間Ｚ１〜Ｚ７に分割され、それら７つの処理空間Ｚ１〜Ｚ７のうちのＺ１とＺ２とＺ３〜Ｚ４とＺ５とＺ６とＺ７とはシャッター装置Ｓ１〜Ｓ７によって熱的および雰囲気的に遮蔽されるようになっている。また、処理空間Ｚ３とＺ４との間は、同じ温度および雰囲気（酸素濃度）であるが、たとえば処理空間Ｚ３とＺ４との温度制御を容易とするための隔壁ＰＷが介在させられている。なお、処理空間Ｚ４とＺ５との間には、相互の温度差が大きいため、隔壁ＰＷがシャッター装置Ｓ４に重ねて設けられている。
図３は焼成炉１２の横断面すなわち図１のIII−III視断面を拡大して示す図である。炉壁２４は、炉壁２４の上面を覆う上面カバープレート２８ａと、炉壁２４の一対の側面を覆う側面カバープレート２８ｂおよび２８ｃと、炉壁２４の底面を覆う底面カバープレート２８ｄとによって保護されている。それらの上面カバープレート２８ａと、一対の側面カバープレート２８ｂおよび２８ｃと、底面カバープレート２８ｄとは、炉体１６の長手方向に沿った端縁部において相互にボルト２８ｅにより締結されると共に、側面カバープレート２８ｂおよび２８ｃと底面カバープレート２８ｄの端縁部とは、上側フレーム２２の側縁部にボルト２８ｅの共締めにより固定されている。
炉壁２４には、炉体１６の幅方向に貫通する複数本の搬送ローラ２６が入口１６ａから出口１６ｂへ向って所定間隔で配設されている。これらの搬送ローラ２６は、たとえばアルミナ製等の耐熱性能の高い管状体である。搬送ローラ２６は、図３に示すように、炉体１６から外へ突き出した両端部を、炉壁２４の側面を覆う一対の側面カバープレート２８ｂおよび２８ｃに設けられた一対の搬送ローラ支持装置３０によってそれぞれ回転可能に支持され、一対の搬送ローラ支持装置３０の一方が上側フレーム２２に設けられた搬送ローラ駆動装置３２に駆動チェーン３８を介してそれぞれ連結されることで、複数本の搬送ローラ２６が、処理空間Ｚ７以外は等間隔で配置され、一様な方向および回転速度で間欠的に回転駆動される。これにより、搬送ローラ２６に載置された搬送プレート３４上の被加熱材３６は、入口１６ａから出口１６ｂへ向かって搬送される過程で、所定の熱処理が施されるようになっている。焼成炉１２は、所謂トンネル式焼成炉（ローラハースキルン）である。
一対の搬送ローラ支持装置３０は、ベアリングによって水平な軸線まわりに回転可能に支持され、管状体である搬送ローラ２６の軸端に嵌め入れられる支持ロッド３０ａと、支持ロッド３０ａと同心に設けられ、搬送ローラ２６の端面を炉体１６側へ付勢するスプリング３０ｂとを備えている。複数本の搬送ローラ２６を支持する前記一方の搬送ローラ支持装置３０は、スプロケット３０ｃをそれぞれ備えており、同期チェーン４０によって相互に連結されている。また、前記一方の搬送ローラ支持装置３０の複数毎に、および、搬送ローラ駆動装置３２に、スプロケット３３が設けられており、それらスプロケット３３に駆動チェーン３８が巻き掛けられている。
炉体１６の長手方向において複数個所（本実施例では７個所）に設けられたシャッター装置Ｓ１〜Ｓ７および隔壁ＰＷによって分割された７つの処理空間Ｚ１〜Ｚ７には、両端部が炉壁２４によって支持された複数本のヒータＨが、加熱源として搬送ローラ２６の上下に位置するようにそれぞれ配設されている。また、たとえばガス浸炭処理を行なうためのガス雰囲気を形成するためのガス注入管ＧＰや、図示しない温度センサがそれぞれ設けられている。
たとえば、空炉（無負荷）時において、７つの処理空間のうちの第１処理（脱脂）空間Ｚ１の温度および酸素濃度は、たとえば８００℃および１００ｐｐｍ、第２処理（予熱）空間Ｚ２の温度および酸素濃度は、たとえば１０００℃および８０ｐｐｍ、第３処理（予熱）空間Ｚ３の温度および酸素濃度は、たとえば１１１５℃および１０ｐｐｍ、第４処理（焼結）空間Ｚ４の温度および酸素濃度は、たとえば１１１５℃および１０ｐｐｍ、第５処理（徐冷）空間Ｚ５の温度および酸素濃度は、たとえば５００℃および１０ｐｐｍ、第６処理（徐冷）空間Ｚ６の温度および酸素濃度は、たとえば５０℃および１０ｐｐｍ、第７処理（徐冷）空間Ｚ７の温度および酸素濃度は、たとえば５０℃および１０ｐｐｍとなるように、図示しない温度制御装置および雰囲気制御装置によって温度および雰囲気が独立してそれぞれ制御される。これにより、入口１６ａ〜第１処理（脱脂）空間Ｚ１において、常温から８００℃の急速昇温が達成され、第１処理（脱脂）空間Ｚ１〜第３処理（予熱）空間Ｚ３において、脱脂処理（１００ｐｐｍ）から焼結処理（１０ｐｐｍ）まで、３ゾーンで達成される。
シャッター装置Ｓ１〜Ｓ７は、略同様に構成されているので、図１の縦断面である図４に表れたシャッター装置Ｓ１を代表させて説明する。シャッター装置Ｓ１は、炉体１６内に形成された処理空間Ｚ１と入口１６ａとの間において炉体１６に固定され、上端開閉面４２を有する固定シャッター部材４４と、上端開閉面４２に当接可能な下端開閉面４６を有し、炉体１６内に形成された処理空間Ｚ１と入口１６ａとの間を開閉する上下シャッター部材４８と、搬送ローラ２６の間を通して上下シャッター部材４８から下方へ突き出す一対の支持棒５０と、炉体１６の下側に配置されたシャッター駆動装置５２とを備えている。
シャッター駆動装置５２は、一対の支持棒５０を介して上下シャッター部材４８を上下方向に駆動し、上下シャッター部材４８の下端開閉面４６を上端開閉面４２から離隔させる開位置と、上下シャッター部材４８の下端開閉面４６を固定シャッター部材４４の上端開閉面４２に当接する閉位置とに位置させる。図４において、実線で示す上下シャッター部材４８は開位置を示し、破線で示す上下シャッター部材４８は閉位置を示している。
固定シャッター部材４４および上下シャッター部材４８は、隣接する２本の搬送ローラ２６の配置間隔ｄ１、好適には隣接する２本の搬送ローラ２６の芯間隔ｐよりも大きい厚みｔ２およびｔ１をそれぞれ有する、セラミックファイバーから成る断熱材から構成されている。この断熱材は、たとえばセラミックファイバーに無機フィラーと無機・有機結合材とを添加して成形された、１３００℃程度の耐熱温度と０．３（ｇ／ｃｍ３）程度の密度を有するものである。セラミックファイバーとは、高純度のアルミナ・シリカを主成分とした人造無機繊維である。また、支持棒５０は、たとえばセラミック材料たとえばアルミナを主成分とする材料から円管状に形成され、高い耐熱性を備えている。
固定シャッター部材４４の上端開閉面４２と被加熱材３６の搬送方向に向かう前面４４ａおよび被加熱材３６の搬送方向に対向する後面４４ｂとの間の一対の陵部には、搬送ローラ２６との干渉を回避するための一対の凹溝４４ｃ、４４ｄがそれぞれ形成されている。また、上下シャッター部材４８の下端開閉面４６と被加熱材３６の搬送方向に向かう前面４８ａおよび被加熱材３６の搬送方向に対向する後面４８ｂとの間の一対の陵部には、搬送ローラ２６との干渉を回避するための一対の凹溝４８ｃ、４８ｄがそれぞれ形成されている。これにより、上下シャッター部材４８の閉位置では、固定シャッター部材４４の上端開閉面４２と上下シャッター部材４８の下端開閉面４６とが、搬送ローラ２６の間に位置させられて、相互に接近或いは接触させられるので、加熱領域間の断熱性能が充分に得られ、処理空間Ｚ１と入口１６ａとの間すなわち処理空間Ｚ１に対応する加熱領域Ｚ１と入口１６ａに対応する炉外領域との間の温度差を急峻に形成できる。また、たとえば、加熱領域Ｚ２とＺ３との間を開閉するシャッター装置Ｓ３であれば、加熱領域Ｚ２とＺ３との間の温度差を急峻に形成できる。
シャッター駆動装置５２は、基台フレーム１４のうち、炉体１６が載置される上側フレーム２２に設けられている。シャッター駆動装置５２は、一対の支持棒５０の下端部が固定された上下プレート５４と、上側フレーム２２に固定され、上下プレート５４を上下方向に案内する上下方向案内装置５６と、上側フレーム２２に固定され、上下プレート５４を上下方向に駆動する減速機付電動機５８とを、備えている。
上側フレーム２２には、下方へ向かって伸びる固定ブラケット６０が固定されており、その固定ブラケット６０には、上下プレート５４に固定された案内ブッシュ６２と、案内ブッシュ６２を上下方向に案内する案内ロッド６４とが固定されている。また、固定ブラケット６０の下部には、減速機付電動機５８が備えられ、減速機付電動機５８の出力軸に固定されたスプロケット６６と固定ブラケット６０の上部に回転可能に設けられたスプロケット６８（図３を参照）とには、駆動チェーン７０が上下方向に巻き掛けられている。また、図３に示すように、駆動チェーン７０の一部を上下プレート５４に固定する駆動チェーン固定具７２が設けられており、減速機付電動機５８によって上下シャッター部材４８が上下方向に駆動されるようになっている。上記上下プレート５４に固定された案内ブッシュ６２と、案内ブッシュ６２を上下方向に案内する案内ロッド６４とが、上下方向案内装置５６として機能し、上記スプロケット６６およびスプロケット６８に巻掛けられた駆動チェーン７０と減速機付電動機５８とが、シャッター駆動装置５２の一部として機能している。
図５はシャッターケース７６を示す斜視図であり、図６はシャッターケース７６を示す平面図である。シャッター装置Ｓ１は、図５および図６に示すように、炉体１６に固定され、上下シャッター部材４８を収容して上下方向に案内するシャッターケース７６を備えている。このシャッターケース７６は、上下方向に積層されたセラミックファイバーから成る断熱板材ＣＦＢが、積層状態でセラミックボンドにより接着されることで構成されている。この断熱板材ＣＦＢは、セラミックファイバーに無機フィラーと無機・有機結合材とを添加した枠状に成形された枠状断熱材であって、１３００℃程度の耐熱温度と０．３（ｇ／ｃｍ３）程度の密度を有するものである。セラミックボンドとは、たとえば高純度アルミナ或いは高純度シリカを主成分とする１液性接着剤であり、たとえば１００℃〜１５０℃の硬化温度、１５００℃程度の耐熱温度、４０×１０−７／Ｋ程度の熱膨張係数、１５（ｋｇ／ｃｍ２）程度の接着強度を有する。
シャッターケース７６は、被加熱材３６を通過させる貫通穴７８がそれぞれ形成された、被加熱材３６の搬送方向下流側に位置する前壁７６ａおよび被加熱材３６の搬送方向上流側に位置する後壁７６ｂと、前壁７６ａおよび後壁７６ｂの幅方向の両端部を連結する一対の側壁７６ｃとを有し、前壁７６ａおよび後壁７６ｂと一対の側壁７６ｃとの間に形成された収容空間内に上下シャッター部材４８を上下方向の移動可能に収容する。
シャッターケース７６の前壁７６ａおよび後壁７６ｂの内壁面には、上下方向に伸びる円形断面を有する各一対の案内レール８０が上下方向に延設され、上下シャッター部材４８の前面４８ａおよび後面４８ｂには、各一対の案内レール８０が嵌め入れられる凹状案内溝４８ｅ、４８ｆが形成されている。これにより、上下シャッター部材４８は、上下シャッター部材４８の前面４８ａおよび後面４８ｂが案内レール８０の内壁面からの突出し寸法よりも小さな間隔ｋをシャッターケース７６の前壁７６ａおよび後壁７６ｂの内壁面との間に隔てた状態で、案内レール８０により上下方向に案内されるようになっている。
シャッターケース７６は、複数本の搬送ローラ２６の芯間隔ｐよりも３倍程度に大きい厚み寸法Ｔと、搬送ローラ２６を貫通させる一対の貫通穴７６ｄおよび７６ｅと、搬送ローラ２６との干渉を回避するためにシャッターケース７６の前壁７６ａおよび後壁７６ｂにそれぞれ形成された一対の凹溝７６ｆおよび７６ｇとを備え、上下シャッター部材４８が閉位置に位置させられた状態では、被加熱材３６を通過させる貫通穴７８が上下シャッター部材４８によって閉じられるようになっている。なお、シャッターケース７６の厚み寸法Ｔは、２本の搬送ローラ２６を挟む一対の搬送ローラ２６の間隔ｄ２（図４を参照）よりも大きい。
図７は、上下シャッター部材４８の構成を、一部を切り欠いて説明する図である。上下シャッター部材４８は、一対の支持棒５０の上端部を挟む状態でセラミックボンドによって相互の合わせ面が接着されることにより一体的に固定された一対の前側断熱板８２および後側断熱板８４と、それら一対の前側断熱板８２および後側断熱板８４の一対の支持棒５０とは反対側の端面すなわち上側端面８２ａ、８４ａにセラミックボンドによってそれぞれ接着されることにより一体的に固定された共通の上端側断熱板８６とを備えている。前側断熱板８２および後側断熱板８４と上端側断熱板８６とは、たとえばセラミックバルクファイバーに無機フィラーと無機・有機結合材とを添加して板状に成形したセラミックファイバーボードから構成されている。
前側断熱板８２および後側断熱板８４には、たとえばセラミックバルクファイバーに無機フィラーと無機・有機結合材とを添加してそれら前側断熱板８２および後側断熱板８４よりも硬く円柱状に形成され、前側断熱板８２および後側断熱板８４の厚み寸法と同じ長さを有する複数本（図示しないが本実施例では３本）の第１円柱状断熱補強ピン８８が、上下シャッター部材４８の幅方向において等間隔で、前側断熱板８２および後側断熱板８４の厚み方向に打ち込まれ、且つセラミックボンドにより固定されている。
また、第１円柱状断熱補強ピン８８と同様に、セラミックバルクファイバーに無機フィラーと無機・有機結合材とを添加してそれら前側断熱板８２および後側断熱板８４よりも硬く円柱状に形成された複数本（本実施例では６本）の第２円柱状断熱補強ピン９０が、上端側断熱板８６を通して前側断熱板８２および後側断熱板８４に支持棒５０と平行な方向にそれぞれ打ち込まれ、且つセラミックボンドにより固定されている。
一対の支持棒５０の上端部には、第１円柱状断熱補強ピン８８および第２円柱状断熱補強ピン９０と同様に、セラミックバルクファイバーに無機フィラーと無機・有機結合材とを添加してそれら前側断熱板８２および後側断熱板８４よりも硬く円筒状に形成された円筒状断熱ブッシュ９２がそれぞれ嵌め付けられ、セラミックボンドにより固定されている。
前側断熱板８２および後側断熱板８４の合わせ面には、一対の支持棒５０を嵌め入れる一対の小径凹溝９４と、一対の支持棒５０の上端部に固定された一対の円筒状断熱ブッシュ９２を嵌め入れる大径凹溝９６とが、上下方向に連続して生成されている。そして、一対の支持棒５０の上端部には、耐熱合金製たとえばステンレス鋼製の複数本（本実施例では２本）の金属ピン９８が金属ピン９８の両端部が円筒状断熱ブッシュ９２から前側断熱板８２および後側断熱板８４の合わせ面の方向に突き出た状態で、それぞれ固定されている。
一対の支持棒５０とそれを嵌め入れる一対の小径凹溝９４との間、および、一対の支持棒５０の上端部に固定された一対の円筒状断熱ブッシュ９２とそれを嵌め入れる大径凹溝９６との間も、前側断熱板８２および後側断熱板８４の合わせ面がセラミックボンドにより接着されると同時に、セラミックボンドにより接着されている。なお、炉体１６の底部には、図４に示すように、一対の支持棒５０を下方へ貫通させる支持棒貫通孔１００が形成されており、支持棒貫通孔１００の開口と支持棒５０の下端部に固定された円板状の蛇腹連結部材１０２との間には、蛇腹１０４が配設されている。
以上のように構成された本実施例の焼成炉（ローラ搬送式焼成炉）１２のシャッター装置Ｓ１〜Ｓ７は、上下方向に駆動され、炉体１６内の空間を開閉する上下シャッター部材４８と、炉体１６に固定され、上下シャッター部材４８を収容して上下方向に案内するシャッターケース７６とを、含み、シャッターケース７６は、上下方向に積層された断熱板材ＣＦＢの積層体により構成されている。このことから、上下シャッター部材４８を収容するシャッターケース７６の熱変形を抑制することができる。これにより、上下シャッター部材４８とそれを収容するシャッターケース７６との間で干渉が発生し、摩耗粉が炉内に散乱することが、解消される。
また、本実施例の焼成炉（ローラ搬送式焼成炉）１２のシャッター装置Ｓ１〜Ｓ７において、シャッターケース７６を構成する前記断熱板材ＣＦＢの積層体は、セラミックファイバーで構成され且つセラミックボンドによって相互に接着された枠状断熱板材が積層されていることから、シャッターケース７６の剛性が高められるので、上下シャッター部材４８を収容するシャッターケース７６の熱変形が一層抑制される。
また、本実施例の焼成炉（ローラ搬送式焼成炉）１２のシャッター装置Ｓ１〜Ｓ７において、上下シャッター部材４８は、複数本の搬送ローラ２６の芯間隔ｐよりも大きい厚みｔ１を有する、セラミックファイバーで構成された繊維性断熱板材から構成されていることから、高い断熱性が得られるので、上下シャッター部材４８で分割された加熱領域間の断熱性能が高められ、処理空間（加熱領域）間の温度差を急峻に形成できる。また、炉長を短縮することができる。
また、本実施例の焼成炉（ローラ搬送式焼成炉）１２のシャッター装置Ｓ１〜Ｓ７において、シャッターケース７６は、被加熱材３６を通過させる貫通穴７８がそれぞれ形成された前壁７６ａおよび後壁７６ｂと、前壁７６ａおよび後壁７６ｂの幅ｗ方向の両端部をそれぞれ接続する一対の側壁７６ｃとを有し、前壁７６ａおよび後壁７６ｂと一対の側壁７６ｃとの間に形成された収容空間内に上下シャッター部材４８が上下方向の移動可能に収容される。これにより、上下シャッター部材４８で分割された加熱領域間の断熱性能が高められ、処理空間（加熱領域）間の温度差を急峻に形成できる。また、炉長を短縮することができる。
また、本実施例の焼成炉（ローラ搬送式焼成炉）１２のシャッター装置Ｓ１〜Ｓ７において、シャッターケース７６の前壁７６ａおよび後壁７６ｂの内壁面には、案内レール８０が上下方向にそれぞれ延設され、上下シャッター部材４８の前面４８ａおよび後面４８ｂには、案内レール８０が嵌め入れられる凹状案内溝４８ｅおよび４８ｆが形成され、上下シャッター部材４８は、上下シャッター部材４８の前面４８ａおよび後面４８ｂが案内レール８０の内壁面からの突出し寸法よりも小さな間隔ｋを内壁面との間に隔てた状態で、案内レール８０により上下方向に案内される。これにより、上下シャッター部材４８は、上下シャッター部材４８の前面４８ａおよび後面４８ｂが案内レール８０の内壁面からの突出し寸法よりも小さな間隔ｋを内壁面との間に隔てた状態で、案内レール８０により上下方向に案内されるので、上下シャッター部材４８とそれを収容するシャッターケース７６との間で干渉が防止されるとともに、上下シャッター部材４８で分割された処理空間（加熱領域）間の断熱性能が高められる。
また、本実施例の焼成炉（ローラ搬送式焼成炉）１２のシャッター装置Ｓ１〜Ｓ７において、シャッターケース７６は、複数本の搬送ローラ２６のうちの隣り合う２本の搬送ローラ２６を間に挟んで位置する一対の搬送ローラ２６の間隔ｄ２よりも大きい寸法の厚み寸法Ｔを有し、シャッターケース７６には、隣り合う２本の搬送ローラ２６の外側に隣接する２本の搬送ローラ２６を幅方向に貫通させる貫通穴７６ｄ、７６ｅと、一対の搬送ローラ２６との干渉を回避するため一対の凹溝７６ｆ、７６ｇとが形成されている。このことから、上下シャッター部材４８全体が比較的肉厚の断熱材により構成できるので、加熱領域間の断熱性能が充分に得られ、加熱領域間の温度差を急峻に形成できる。また、搬送ローラ２６間の間隔を小さくでき、小さな被加熱物の搬送を安定して行なうことができる利点がある。
また、本実施例の焼成炉（ローラ搬送式焼成炉）１２のシャッター装置Ｓ１〜Ｓ７において、上下シャッター部材４８は、隣り合う２本の搬送ローラ２６の芯間隔ｐよりも大きい厚みｔ１と、隣り合う２本の搬送ローラ２６との干渉を回避するために下端開閉面４６と前面４８ａおよび後面４８ｂとの間の稜部にそれぞれ形成された一対の凹溝４８ｃ、４８ｄとを有し、前記閉位置に下降させられた状態では、下端開閉面４６が搬送ローラ２６の間に位置する。このことから、上下シャッター部材４８全体が比較的肉厚の断熱材により構成できるので、加熱領域間の断熱性能が充分に得られ、加熱領域間の温度差を急峻に形成できる。また、搬送ローラ２６間の間隔を小さくでき、小さな被加熱物の搬送を安定して行なうことができる利点がある。
また、本実施例の焼成炉（ローラ搬送式焼成炉）１２のシャッター装置Ｓ１〜Ｓ７において、炉体１６に固定されたシャッターケース７６には、隣り合う２本の搬送ローラ２６の芯間隔ｐよりも大きい厚みｔ２と、隣り合う２本の搬送ローラ２６との干渉を回避するために上端開閉面４２と前面４４ａおよび後面４４ｂとの間の稜部にそれぞれ形成された一対の凹溝４４ｃ、４４ｄと、搬送ローラ２６の間に位置させられ、上下シャッター部材４８が閉位置に下降させられた状態では、上下シャッター部材４８の下端開閉面４６が接近させられる上端開閉面４２とを有する固定シャッター部材４４が、位置固定に収容される。このことから、固定シャッター部材４４全体が比較的肉厚の断熱材により構成できるので、加熱領域間の断熱性能が充分に得られ、加熱領域間の温度差を急峻に形成できる。また、搬送ローラ間の間隔を小さくでき、小さな被加熱物の搬送を安定して行なうことができる利点がある。
また、本実施例の焼成炉（ローラ搬送式焼成炉）１２のシャッター装置Ｓ１〜Ｓ７は、上下シャッター部材４８と、複数本の搬送ローラ２６のうちの隣り合う一対の搬送ローラ２６の間を通して、上下シャッター部材４８の下端部から下方へ突き出す一対の支持棒５０と、炉体１６の下側に配置され、一対の支持棒５０を介して上下シャッター部材４８を上下方向に駆動して開位置と閉位置とに位置させるシャッター駆動装置５２とを、含む。このように、シャッター駆動装置５２は、炉体１６の下側に配置されていることから、炉体１６の熱の影響を受け難いので、上下シャッター部材４８を上下に駆動するシャッター駆動装置５２に大がかりな冷却機構装置を設ける必要がない。
また、本実施例の焼成炉（ローラ搬送式焼成炉）１２のシャッター装置Ｓ１〜Ｓ７において、炉体１６は、基台フレーム１４によって支持されており、基台フレーム１４は、下側フレーム１８と、下側フレーム１８から上方へ突き出す支柱フレーム２０と、支柱フレーム２０により支持され、炉体１６が載置される上側フレーム２２とを有し、シャッター駆動装置５２は、上側フレーム２２に設けられている。このように、シャッター駆動装置５２は、基台フレーム１４のうちの上側フレーム２２に設けられていることから、シャッター駆動装置５２による上下シャッター部材４８に対する位置ずれが抑制されるので、機械的強度が比較的低い上下シャッター部材４８の消耗が抑制される。
また、本実施例の焼成炉（ローラ搬送式焼成炉）１２のシャッター装置Ｓ１〜Ｓ７において、シャッター駆動装置５２は、一対の支持棒５０の下端部が固定された上下プレート５４と、上側フレーム２２に固定され、上下プレート５４を上下方向に案内する上下方向案内装置５６と、上側フレーム２２に固定され、上下プレート５４を上下方向に駆動する減速機付電動機５８とを、含む。これにより、上下方向案内装置５６や減速機付電動機５８についての大がかりな冷却装置を必要とせず、特別な耐熱性が要求されることがないので、一般的な性能の上下方向案内装置５６や減速機付電動機５８を用いることができる。
以上、本発明を表及び図面を参照して詳細に説明したが、本発明は更に別の態様でも実施でき、その主旨を逸脱しない範囲で種々変更を加え得るものである。
たとえば、前述の実施例では、上下シャッター部材４８の厚み寸法ｔ１が、搬送ローラ２６の配置間隔ｄ１或いは搬送ローラ２６の芯間隔ｐよりも大きいものであったが、搬送ローラ２６の配置間隔ｄ１或いは搬送ローラ２６の芯間隔ｐよりも小さいものであってもよい。
また、上下シャッター部材４８の厚み寸法ｔ１が、搬送ローラ２６の配置間隔ｄ１以下である場合は、上下シャッター部材４８が下降させられることで開位置とされ、上昇させられることで閉位置とされてもよい。
また、前述の実施例において、焼成炉（ローラ搬送式焼成炉）１２のシャッター装置Ｓ２〜Ｓ７は、案内レール８０の本数と位置がシャッター装置Ｓ１と異なっていたが、シャッター装置Ｓ１のシャッターケース７６と同様に構成されていてもよい。また、シャッター装置Ｓ１〜Ｓ７が、相互に異なるように構成されていてもよい。また、シャッター装置Ｓ１〜Ｓ７のうちの一部、たとえば処理空間Ｚ１〜Ｚ７の間のうちの処理温度が高温の位置に設けられるたとえばシャッター装置Ｓ１〜Ｓ５について、シャッター駆動装置５２が炉体１６の下側に配置されていてもよい。
なお、上述したのはあくまでの本発明の一実施例であり、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲において種々変更が加えられるものである。
１２：ローラ搬送式焼成炉（焼成炉）
１４：基台フレーム
１６：炉体
１８：下側フレーム
２０：支柱フレーム
２２：上側フレーム
２４：炉壁
２６：搬送ローラ
３０：搬送ローラ支持装置
３２：搬送ローラ駆動装置
３６：被加熱材
３８：駆動チェーン
４０：同期チェーン
４２：上端開閉面
４４：固定シャッター部材
４４ａ：前面
４４ｂ：後面
４４ｃ：凹溝
４４ｄ：凹溝
４６：下端開閉面
４８：上下シャッター部材
４８ａ：前面
４８ｂ：後面
４８ｃ：凹溝
４８ｄ：凹溝
４８ｅ：凹状案内溝
４８ｆ：凹状案内溝
５０：支持棒
５２：シャッター駆動装置
５４：上下プレート
５６：上下方向案内装置
５８：減速機付電動機
６０：固定ブラケット
６２：案内ブッシュ
６４：案内ロッド
６６：スプロケット
６８：スプロケット
７０：駆動チェーン
７２：駆動チェーン固定具
７６：シャッターケース
７６ａ：前壁
７６ｂ：後壁
７６ｃ：側壁
７６ｄ：貫通穴
７６ｅ：貫通穴
７６ｆ：凹溝
７６ｇ：凹溝
７８：貫通穴
８０：案内レール
Ｓ１〜Ｓ７：シャッター装置
ＰＷ：隔壁
Ｚ１〜Ｚ８：処理空間（加熱領域）

Claims (11)

  1. トンネル状の炉体を有し、前記炉体を幅方向に貫通する複数本の搬送ローラにより搬送される被加熱材に熱処理を施すローラ搬送式焼成炉において前記炉体内の空間を前記空間の長手方向に複数の加熱領域に分割する、ローラ搬送式焼成炉のシャッター装置であって、
    上下方向に駆動され、前記炉体内に設けられた上下シャッター部材と、
    前記炉体に固定され、前記上下シャッター部材を収容して上下方向に案内するシャッターケースとを、含み、
    前記シャッターケースは、上下方向に積層された断熱板材の積層体により構成されており、
    前記シャッターケースは、前記被加熱材を通過させる貫通穴がそれぞれ形成された前壁および後壁と、前記前壁および後壁の幅方向の両端部をそれぞれ接続する一対の側壁とを有し、前記前壁および後壁と前記一対の側壁との間に形成された収容空間内に前記上下シャッター部材を上下方向の移動可能に収容し、
    前記シャッターケースの前記前壁および後壁の内壁面には、案内レールが上下方向にそれぞれ延設され、
    前記上下シャッター部材の前面および後面には、前記案内レールが嵌め入れられる凹状案内溝が形成され、
    前記上下シャッター部材は、前記上下シャッター部材の前面および後面が前記案内レールの前記内壁面からの突出し寸法よりも小さな間隔を前記内壁面との間に隔てた状態で、前記案内レールにより上下方向に案内される
    ことを特徴とするローラ搬送式焼成炉のシャッター装置。
  2. 前記シャッターケースを構成する前記断熱板材の積層体は、セラミックファイバーで構成された枠状断熱板材が積層状態でセラミックボンドによって相互に接着されたものである
    ことを特徴とする請求項１に記載のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置。
  3. 前記複数本の搬送ローラは、前記上下シャッター部材の下方に位置して一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラを含み、
    前記上下シャッター部材は、前記一定の芯間隔よりも大きい厚みを有する、セラミックファイバーで構成された繊維性断熱板材から構成されている
    ことを特徴とする請求項１または２に記載のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置。
  4. 前記上下シャッター部材は、前記一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラのうちの隣り合う一対の搬送ローラの芯間隔よりも大きい厚みと、前記一対の搬送ローラとの干渉を回避するために下端開閉面と前面および後面との間の稜部にそれぞれ形成された一対の凹溝とを有し、閉位置に下降させられた状態では、前記下端開閉面が前記一対の搬送ローラの間に位置するものである
    ことを特徴とする請求項３に記載のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置。
  5. 前記一定の芯間隔で配置された搬送ローラの間を通して、前記上下シャッター部材の下端部から下方へ突き出す一対の支持棒と、前記炉体の下側に配置され、前記一対の支持棒を介して前記上下シャッター部材を上下方向に駆動して開位置と閉位置とに位置させるシャッター駆動装置とを、含む
    ことを特徴とする請求項３または４に記載のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置。
  6. 前記シャッターケースは、前記一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラのうちの隣り合う２本の搬送ローラを間に挟んで位置する一対の搬送ローラの間隔よりも大きい寸法の厚み寸法を有し、
    前記シャッターケースには、前記２本の搬送ローラを幅方向に貫通させる貫通穴と、前記２本の搬送ローラの外側に隣接する前記一対の搬送ローラとの干渉を回避するため一対の凹溝とが形成されている
    ことを特徴とする請求項３から５のいずれか１に記載のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置。
  7. トンネル状の炉体を有し、前記炉体を幅方向に貫通する複数本の搬送ローラにより搬送される被加熱材に熱処理を施すローラ搬送式焼成炉において前記炉体内の空間を前記空間の長手方向に複数の加熱領域に分割する、ローラ搬送式焼成炉のシャッター装置であって、
    上下方向に駆動され、前記炉体内に設けられた上下シャッター部材と、
    前記炉体に固定され、前記上下シャッター部材を収容して上下方向に案内するシャッターケースとを、含み、
    前記シャッターケースは、上下方向に積層された断熱板材の積層体により構成されており、
    前記複数本の搬送ローラは、前記上下シャッター部材の下方に位置して一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラを含み、
    前記上下シャッター部材は、前記一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラのうちの隣り合う一対の搬送ローラの芯間隔よりも大きい厚みと、前記一対の搬送ローラとの干渉を回避するために下端開閉面と前面および後面との間の稜部にそれぞれ形成された一対の凹溝とを有し、閉位置に下降させられた状態では、前記下端開閉面が前記一対の搬送ローラの間に位置するものである
    ことを特徴とするローラ搬送式焼成炉のシャッター装置。
  8. 前記シャッターケースは、前記一定の芯間隔で配置された複数本の搬送ローラのうちの隣り合う一対の搬送ローラの芯間隔よりも大きい厚みと、前記一対の搬送ローラとの干渉を回避するために上端開閉面と前面および後面との間の稜部にそれぞれ形成された一対の凹溝と、前記一対の搬送ローラの間に位置させられ、前記上下シャッター部材が前記閉位置に下降させられた状態では、前記上下シャッター部材の下端開閉面が接近させられる前記上端開閉面とを有し、前記炉体に固定された固定シャッター部材を、位置固定に収容する
    ことを特徴とする請求項７に記載のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置。
  9. トンネル状の炉体を有し、前記炉体を幅方向に貫通する複数本の搬送ローラにより搬送される被加熱材に熱処理を施すローラ搬送式焼成炉において前記炉体内の空間を前記空間の長手方向に複数の加熱領域に分割する、ローラ搬送式焼成炉のシャッター装置であって、
    上下方向に駆動され、前記炉体内に設けられた上下シャッター部材と、
    前記炉体に固定され、前記上下シャッター部材を収容して上下方向に案内するシャッターケースとを、含み、
    前記シャッターケースは、上下方向に積層された断熱板材の積層体により構成されており、
    前記複数本の搬送ローラのうちの隣り合う一対の搬送ローラの間を通して、前記上下シャッター部材の下端部から下方へ突き出す一対の支持棒と、前記炉体の下側に配置され、前記一対の支持棒を介して前記上下シャッター部材を上下方向に駆動して開位置と閉位置とに位置させるシャッター駆動装置とを、含む
    ことを特徴とするローラ搬送式焼成炉のシャッター装置。
  10. 前記炉体は、基台フレームによって支持されており、
    前記基台フレームは、下側フレームと、前記下側フレームから上方へ突き出す支柱フレームと、前記支柱フレームにより支持され、前記炉体が載置される上側フレームとを有し、
    前記シャッター駆動装置は、前記上側フレームに設けられている
    ことを特徴とする請求項９に記載のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置。
  11. 前記シャッター駆動装置は、
    前記一対の支持棒の下端部が固定された上下プレートと、
    前記上側フレームに固定され、前記上下プレートを上下方向に案内する上下方向案内装置と、
    前記上側フレームに固定され、前記上下プレートを上下方向に駆動する減速機付電動機とを、含む
    ことを特徴とする請求項１０に記載のローラ搬送式焼成炉のシャッター装置。
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