JP3445733B2

JP3445733B2 - 熱処理装置

Info

Publication number: JP3445733B2
Application number: JP30198397A
Authority: JP
Inventors: 吉積伊藤; 哲雄赤堀; 善幸稲葉; 正弘中川; 淳伊藤
Original assignee: Noritake Co Ltd
Current assignee: Noritake Co Ltd
Priority date: 1997-11-04
Filing date: 1997-11-04
Publication date: 2003-09-08
Anticipated expiration: 2017-11-04
Also published as: JPH11142061A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ワークを一方向へ
搬送する過程でその温度を略均一に維持しながら徐々に
変化させる熱処理装置の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】ソーダライムガラスに代表されるガラス
製基板やアルミナに代表されるセラミックス基板の上
に、金属或いは無機材料をガラスボンド成分の溶融や、
材料自体の軟化、溶融、或いは焼結により、所定の機能
を生じる膜が固着されたりするような、膜形成素材を含
む基板が知られている。例えば、蛍光表示管の陽極基
板、プラズマディスプレイパネル用基板、プラズマアド
レス液晶表示装置のプラズマスイッチング基板、フィー
ルドエミッション表示装置用基板などの表示デバイス用
基板、厚膜配線基板、或いはサーマルプリンターヘッド
やイメージセンサ等の電子デバイス用基板がそれであ
る。このような基板には、一般に、基板自体のアニール
のためやガラス素材を結合剤として応用した機能材料の
膜形成のために、500 乃至650(℃) 程度の熱処理が施さ
れ、セラミックス基板においてはガラス素材を結合剤と
して応用した機能材料の膜形成、或いは金属材料自体の
界面の溶融を応用した機能材料の膜形成のために例えば
500 乃至900(℃) 程度の熱処理が施される。

【０００３】ところで、近年では、上記膜形成素材を含
む基板は、その表面にパターニング形成される導体、抵
抗、誘電体などの多層化および細密化が図られるととも
に、特に、上記表示デバイス用基板では表示面積の大型
化に伴って比較的大きな寸法のものを製造することが必
要となっている。そのため、表示デバイス用基板では大
きな寸法に亘って細密にパターン形成することが要求さ
れるとともに、上記電子デバイス用基板では、機能を発
生させる膜に与えられるパターン空間が細密化すること
によって品質の確保のために膜の均一性が一層要求され
る。しかしながら、上記基板の焼成によってもたらされ
る品質への影響は、上記のように大型となる程大きくな
り、それらのばらつきが製品設計上の制約となったり、
製品の歩留まりを低下させる一因となっていた。

【０００４】例えば、熱処理に伴って基板素材そのもの
の膨張或いは収縮による寸法変動がある場合は、機能を
有する膜のパターニング後に行われる焼成毎のパターン
間の位置合わせが困難となる。また、抵抗層においては
抵抗値のばらつき、誘電体層においては耐電圧のばらつ
きや残存率の不均一による厚み寸法のばらつき、導体層
においては導通抵抗およびワイヤボンディング性やスパ
ッタリング性などのばらつきが大きくなる。これらパタ
ーン間の位置合わせの一致性および層品質の均一性は、
精細なパターンとなる程或いは基板が大型となる程、維
持することが困難となり、製品歩留まりが加速度的に低
下するという不都合があった。したがって、例えば40イ
ンチ以上の大型表示装置としてのプラズマディスプレイ
用基板を例にとると、次のような歩留まり低下要因があ
る。すなわち、多数のセルを形成する多層構造の各層の
寸法精度が確保できない、障壁の高さおよび幅の寸法の
ばらつきが生じる、抵抗付セルにおいては抵抗値のばら
つきを生じる、誘電体層においては耐電圧にばらつきを
生じる、全体的な寸法ばらつきはフロント板とリヤ板と
を組み合わせて放電セルを形成するときにズレを生じ
る、などである。

【０００５】これに対し、略水平な一平面内に互いに平
行に配設されてそれぞれ軸心まわりに回転駆動される多
数のローラ上に、上記基板等の平板状のワークを略水平
な姿勢で載置して一方向へ搬送するとともに、そのワー
クの温度を略均一に維持しながら前記搬送過程で予め定
められた第１温度から第２温度まで徐々に変化させる熱
処理装置であって、(a) 前記一方向に並んで設定された
複数の加熱区分毎に加熱温度を独立に制御し、その複数
の加熱区分へ順次送られる前記ワークの温度を前記第１
温度から第２温度まで徐々に変化させる温度制御装置
と、(b) 前記多数のローラを間欠回転させて前記ワーク
を前記複数の加熱区分へ順次間欠送りする搬送装置と、
(c) 前記一方向において前記複数の加熱区分の境界部分
であって前記多数のローラの間の位置に配設され、上下
方向へ往復移動させられることによりその複数の加熱区
分を相互に遮蔽する遮蔽位置と、前記搬送装置によって
搬送される前記ワークとの干渉を避ける退避位置とに位
置決めされる平板状のシャッタを備えているシャッタ装
置とを有する熱処理装置が、例えば本願出願人が先に出
願した特願平８−２０２０６８号において提案されてい
る。

【０００６】このような熱処理装置によれば、各加熱区
分毎にワークの温度が略均一に維持されつつ徐々に変化
させられるため、温度差に起因して歪などを生じる恐れ
がないとともに、熱処理装置の全長を短くできる。すな
わち、ガラス製基板を焼成する場合、その温度差は5
(℃) 以内とすることが望まれるため、例えば進行方向
に70(cm)の長さを有する大型のガラス製基板を連続送り
しながら徐冷する場合には、7(℃/m) 以内の熱勾配とし
なければならず、焼成ピーク温度からガラス転移点温度
まで約130(℃) 程度徐冷するには約 18(m)の長さ寸法が
必要なのに対し、上記加熱区分毎に20〜30 (℃) 程度ず
つ徐冷する場合には、５〜７程度の加熱区分を設けるだ
けで良く、１つの加熱区分の長さを例えば 130(cm)程度
とすれば 6.5〜9.1(m)程度の長さ寸法で済むようになる
のである。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記熱
処理装置において、シャッタを耐熱ガラス製板等を用い
て構成しても、各加熱区分は隣接する加熱区分の影響を
受け完全に熱的に独立した環境を得ることは難しく、ワ
ークを間欠送りしてシャッタを閉じた後、温度制御装置
により各加熱区分毎に異なる温度に均熱制御する際に隣
接する加熱区分の熱影響で比較的長時間を要するという
問題があった。このため、ワークを間欠送りするサイク
ルタイムが長くなったり、所定のサイクルタイムで間欠
送りするために加熱区分毎の温度変化を小さくしたりす
る必要があった。加熱区分毎の温度変化を小さくした場
合、それだけ加熱区分の数が多くなるため、熱処理装置
の全長が長くなる。

【０００８】本発明は以上の事情を背景として為された
もので、その目的とするところは、ワークを複数の加熱
区分へ順次間欠送りしてワークの温度を略均一に維持し
ながら変化させる熱処理装置において、各加熱区分毎の
温度制御が速やかに行われるようにして、間欠送りする
サイクルタイムを短くしたり加熱区分の数を少なくした
りすることにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第１発明は、所定のワークがトンネル状の炉体内を
略水平な一方向へ搬送される過程で、そのワークの温度
を略均一に維持しながら変化させる熱処理装置であっ
て、(a) 前記炉体内において前記一方向に並んで設定さ
れた複数の加熱区分毎に加熱温度を独立に制御し、それ
ら複数の加熱区分へ順次送られる前記ワークの温度を異
なる温度に変化させる温度制御装置と、(b) 前記ワーク
を前記複数の加熱区分へ順次間欠送りする搬送装置と、
(c) 前記一方向において前記複数の加熱区分の境界部分
に配設され、往復移動させられることによりそれら複数
の加熱区分を相互に遮蔽する遮蔽位置と、前記搬送装置
によって搬送される前記ワークとの干渉を避ける退避位
置とに位置決めされる平板状のシャッタを備えているシ
ャッタ装置と、(d) 前記搬送装置によって搬送される前
記ワークと干渉しない範囲で、そのワークの搬送位置を
挟んで上下両側に、前記シャッタを挟むように前記複数
の加熱区分の境界部分に位置固定に設けられた耐熱ガラ
ス製の一対の断熱壁と、を有し、且つ、(e) その一対の
断熱壁の間には両側の加熱区分の何れの設定温度よりも
低温の空気層が形成されていることを特徴とする。

【００１０】また、第２発明は、略水平な一平面内に互
いに平行に配設されてそれぞれ軸心まわりに回転駆動さ
れる多数のローラ上に平板状のワークを略水平な姿勢で
載置して、トンネル状の炉体内を一方向へ搬送するとと
もに、そのワークの温度を略均一に維持しながら前記搬
送過程で予め定められた第１温度から第２温度まで徐々
に変化させる熱処理装置であって、(a) 前記炉体内にお
いて前記一方向に並んで設定された複数の加熱区分毎に
加熱温度を独立に制御し、それら複数の加熱区分へ順次
送られる前記ワークの温度を前記第１温度から第２温度
まで徐々に変化させる温度制御装置と、(b) 前記多数の
ローラを間欠回転させて前記ワークを前記複数の加熱区
分へ順次間欠送りする搬送装置と、(c) 前記一方向にお
いて前記複数の加熱区分の境界部分であって前記多数の
ローラの間の位置に配設され、上下方向へ往復移動させ
られることによりそれら複数の加熱区分を相互に遮蔽す
る遮蔽位置と、前記搬送装置によって搬送される前記ワ
ークとの干渉を避ける退避位置とに位置決めされる平板
状のシャッタを備えているシャッタ装置と、(d) 前記搬
送装置によって搬送される前記ワークと干渉しない範囲
で、そのワークの搬送位置を挟んで上下両側に、前記シ
ャッタを挟むように前記複数の加熱区分の境界部分に位
置固定に設けられた耐熱ガラス製の一対の断熱壁と、を
有し、且つ、(e) その一対の断熱壁の間には両側の加熱
区分の何れの設定温度よりも低温の空気層が形成されて
いることを特徴とする。

【００１１】また、第３発明は、第１または第２発明の
熱処理装置において、所定のワークを一方向へ搬送する
過程でワークの温度を略均一に維持しながら低下させる
熱処理装置であって、前記シャッタを挟むように設けら
れた一対の断熱壁の間の空間は、前記炉体に設けられた
連通穴を介して炉外に連通していることを特徴とする。

【００１２】

【発明の効果】第１発明によれば、前記搬送装置によっ
て搬送される前記ワークと干渉しない範囲で、そのワー
クの搬送位置を挟んで上下両側に、前記シャッタを挟む
ように前記複数の加熱区分の境界部分に耐熱ガラス製の
一対の断熱壁が設けられていることから、断熱壁自身と
断熱壁相互間に形成される空気層による断熱作用によ
り、各加熱区分が隣接する加熱区分から受ける熱影響が
可及的に低減させられる。特に、一対の断熱壁の間に
は、両側の加熱区分の何れの設定温度よりも低温の空気
層が形成されているため、高温側の加熱区分から低温側
の加熱区分に対する直接的な伝熱が防止される。これに
より、ワークを間欠送りしてシャッタを閉じた後、温度
制御装置により各加熱区分毎に所定温度に速やかに制御
できるようになり、ワークを間欠送りするサイクルタイ
ムを短くして全体の処理時間を短縮できる。

【００１３】また、ワークの温度を第１温度から第２温
度まで徐々に変化させる第２発明の熱処理装置において
は、各加熱区分毎に所定温度に速やかに制御できること
から、間欠送りのサイクルタイムを長くすることなく加
熱区分毎の温度変化をできるだけ大きくして加熱区分の
数を少なくし、熱処理装置の全長を短くすることが可能
である。

【００１４】また、第３発明においては、前記シャッタ
を挟むようにして設けられた一対の断熱壁の間の空間が
連通穴を介して炉外に連通させられることにより低温の
空気層が形成されており、高温側の加熱区分から低温側
の加熱区分に対する直接的な伝熱が妨げられ、シャッタ
が開けられてワークが送り込まれることにより設定温度
よりも高温となる各加熱区分の温度が、シャッタが閉じ
られた後に温度制御装置によって設定温度まで速やかに
低下させられる。

【００１５】

【発明の実施の形態】ここで、本発明の熱処理装置を用
いて熱処理されるワークは、焼成などの熱処理の際にそ
の温度を略均一に維持することが要求されるもので、例
えばガラス製基板やセラミックス基板の上に、金属或い
は無機材料をガラスボンド成分の溶融や材料自体の軟
化、溶融、或いは焼結により、所定の機能を生じる膜が
固着されたりするような、膜形成素材を含む基板などで
あり、具体的には蛍光表示管の陽極基板、プラズマディ
スプレイパネル用基板、プラズマアドレス液晶表示装置
のプラズマスイッチング基板、フィールドエミッション
表示装置用基板などの表示デバイス用基板、厚膜配線基
板、或いはサーマルプリンタヘッドやイメージセンサ等
の電子デバイス用基板などである。

【００１６】前記温度制御装置は、例えば複数の加熱区
分毎に加熱温度を順次低下させてワークの温度を徐冷す
るように構成されるが、加熱温度を順次上昇させてワー
クの温度を徐々に上昇させるものでも良い。第１発明の
実施に際しては、少なくとも複数の加熱区分における制
御温度が異なるものであれば良い。

【００１７】前記搬送装置は、例えばワークを各加熱区
分へ間欠送りする毎に完全停止するように構成される
が、各加熱区分内においてワークを小刻みに前後運動さ
せるようにしても良い。この搬送装置は、第２発明のよ
うに多数のローラを有して構成することが望ましいが、
ベルトコンベアやレール上を移動する台車、或いはワー
クを把持して移動させる移載ロボットなどを利用するこ
とも可能である。

【００１８】前記シャッタは、例えばワークの搬送位置
の下方に配設され、上方へ移動させられることにより各
加熱区分を遮蔽するように構成されるが、ワークの搬送
位置よりも上方に配設されて、下方へ移動させられるこ
とにより各加熱区分を遮蔽するようになっていても良い
など、搬送装置の構造等に応じて適宜定められる。

【００１９】断熱壁は少なくともシャッタを挟んで一対
設けられていれば良いが、更に隣接して１乃至複数の断
熱壁を位置固定に設けることも可能である。断熱壁は、
搬送位置を挟んで上下両側に一対ずつ配設することも可
能であるが、ワークの搬送位置に切欠（スリットなど）
を形成することにより、上下の断熱壁を一体に構成する
こともできる。

【００２０】上記シャッタは、耐熱ガラスやアルミナな
どの耐熱性に優れたセラミックス板が好適に用いられ
る。

【００２１】第３発明の連通穴は、例えばシャッタを往
復移動させるための支持シャフトを挿通させる貫通穴が
炉壁に設けられている場合には、その貫通穴を連通穴と
して用いることが可能であるが、十分な連通断面積を確
保するために貫通穴とは別に連通穴を形成するようにし
ても良い。

【００２２】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて
詳細に説明する。

【００２３】図１、図２、図３は、略水平な一平面内に
おいて基板６２を一方向へ直線的に順次搬送する過程で
焼成を施す形式の連続型焼成装置１１６の構成を示して
おり、図１は正面図、図２は炉体の幅方向中央を通り長
手方向に沿った断面図、図３(a) 〜(e) はそれぞれ図２
におけるａ−ａ乃至ｅ−ｅ視断面をそれぞれ示す図であ
る。図において、それぞれ独立に駆動される第１搬送装
置１１８、複数の第２搬送装置１２０ａ、１２０ｂ、〜
１２０ｆ（以下、特に区別しないときは単に第２搬送装
置１２０という）、第３搬送装置１２２が直列に配置さ
れており、基板６２は、それら第１搬送装置１１８、第
２搬送装置１２０、第３搬送装置１２２によって一方向
に搬送されることにより、トンネル状の炉体１２４ａ、
１２４ｂ（以下、特に区別しないときは単に炉体１２４
という）内を通過させられるようになっている。尚、基
板６２はワークに対応し、連続型焼成装置１１６は熱処
理装置に対応している。基板６２は、本実施例ではプラ
ズマディスプレイパネル等の大型ガラス製基板で、表面
には樹脂製バインダによって所定の膜形成素材が設けら
れている。また、図１の下段は上段の右側に連続して設
けられるもので、下段の左端のＡ₂−Ｂ₂は上段の右端
のＡ₁−Ｂ₁と一致する。

【００２４】上記トンネル状の炉体１２４は、例えば内
壁がβ−スポジュメン系結晶化ガラス等の耐熱ガラスか
ら構成されたものである。炉体１２４ａ内には、基板６
２を最高焼成温度ＭＴまで加熱すると共にその過程で基
板６２上に印刷形成された膜に含まれているバインダ
（樹脂）を燃焼除去するための予熱ゾーン（予熱部）１
２６と、基板６２をその最高焼成温度ＭＴで所定時間保
持するための加熱ゾーン（加熱部）１２８と、基板６２
を最高焼成温度ＭＴからガラス転移点温度ＧＴまで徐々
に冷却するための徐冷ゾーン（徐冷部）１３０とが設け
られており、炉体１２４ｂ内には、基板６２を常温付近
まで冷却するための冷却ゾーン（冷却部）１３２が設け
られている。尚、最高焼成温度ＭＴは第１温度に対応
し、ガラス転移点温度ＧＴは第２温度に対応している。

【００２５】前記第１搬送装置１１８は、上記予熱ゾー
ン１２６および加熱ゾーン１２８に対応する位置に設け
られている。この第１搬送装置１１８は、炉体１２４ａ
の下方に設けられて連続的に駆動される減速機付モータ
１３４の回転を、チェーン１３６、および一軸線上に設
けられた複数本のラインシャフト１３８ａ、１３８ｂ、
〜１３８ｅ（以下、特に区別しないときは単にラインシ
ャフト１３８という）を介して、炉体１２４ａの長手方
向に沿って所定間隔をもって設けられたマイタギア１４
０ａ、１４０ｂ、〜１４０ｆ（以下、特に区別しないと
きは単にマイタギア１４０という）に伝達し、そのマイ
タギア１４０によってそれぞれ分担される駆動区分１２
７ａ、１２７ｂ、１２７ｃ、１２７ｄ（以下、特に区別
しないときは単に駆動区分１２７という）、駆動区分１
２９ａ、１２９ｂ（以下、特に区別しないときは単に駆
動区分１２９という）毎に図２に示されるように炉体１
２４ａ内に設けられているローラ１６６を回転させるこ
とにより、そのローラ１６６上に乗せられた基板６２を
例えば300(mm/min) 程度の第１の搬送速度で連続的に搬
送するものである。

【００２６】図４は、第１搬送装置１１８および第２搬
送装置１２０の要部を中間を省略した状態で上下に配し
て拡大して示す図であり、図１に示される駆動区分１２
７ａ、１２９ｂ、１３１ｂにそれぞれ対応する部分が上
段、中段、下段にそれぞれ示されている。駆動区分１２
７ａに対応する第１搬送装置１１８のマイタギア１４０
ａには、軸心方向が炉体１２４の長手方向に沿って設け
られている原動軸１４２ａと、軸心方向が炉体１２４の
長手方向に垂直（紙面に垂直）な従動軸１４４ａとが備
えられている。モータ１３４の回転がチェーン１３６に
よってマイタギア１４０ａに伝達されて原動軸１４２ａ
が矢印の方向に回転させられると、その原動軸１４２ａ
にカップリング１４６を介して接続されているラインシ
ャフト１３８ａが原動軸１４２ａと同方向に回転させら
れると共に、従動軸１４４ａが例えば図の矢印の方向に
回転させられる。

【００２７】一方、図４の中段に示されている駆動区分
１２９ｂに対応するマイタギア１４０ｆ、すなわち第１
搬送装置１１８の右端部に設けられているマイタギア１
４０ｆは、原動軸１４２ｆの一端がワンウェイカップリ
ング１４８を介してラインシャフト１３８ｅに接続され
ている。また、その原動軸１４２ｆの他端部側には減速
機付モータ１５０が備えられており、その他端部にワン
ウェイカップリング１５２を介して接続されている。こ
れらのワンウェイカップリング１４８、１５２は、それ
ぞれラインシャフト１３８ｅおよびモータ１５０の図の
矢印方向の回転のみをマイタギア１４０ｆに伝達するも
のであり、モータ１５０は、後述の第２搬送装置１２０
に同期してラインシャフト１３８よりも速い回転速度で
間欠的に駆動される。そのため、モータ１５０の停止中
はラインシャフト１３８ｅの回転がワンウェイカップリ
ング１４８を介して原動軸１４２ｆに伝達され、ワンウ
ェイカップリング１５２は滑らされる一方、モータ１５
０の駆動中はワンウェイカップリング１５２を介してそ
の回転が原動軸１４２ｆに伝達され、ワンウェイカップ
リング１４８が滑らされることとなる。したがって、モ
ータ１５０の駆動中は、駆動区分１２９ｂ内のローラ１
６６上の基板６２が前記の第１の搬送速度（例えば300
[mm/min] 程度）よりも速い例えば5000(mm/min)程度の
第２の搬送速度で搬送される。なお、省略されている駆
動区分１２７ｂ、１２７ｃ、〜１２９ａは、ラインシャ
フト１３８ａ、１３８ｂ、〜１３８ｅがカップリング１
４６と同様な図示しないカップリングを介してマイタギ
ア１４０ｂ、１４０ｃ、〜１４０ｅの原動軸１４２に接
続されており、その原動軸１４２の回転に伴ってそれぞ
れに備えられている従動軸１４４が一定の速度で連続回
転させられる。

【００２８】また、複数のマイタギア１４０の下方に
は、軸心方向が炉体１２４の長手方向に垂直且つ水平方
向となるように互いに平行にその長手方向に沿って配列
された複数本の回転軸１５４がそれぞれ備えられてい
る。このため、第１搬送装置１１８には、その全長に亘
って、炉体１２４の長手方向に沿って多数の回転軸１５
４が備えられている。この回転軸１５４は、従動軸１４
４の回転が例えばチェーン（或いはタイミングベルト）
１５６によって伝達されることによって、それぞれ図に
矢印で示される方向に回転させられ、前記ローラ１６６
がこの回転軸１５４と一体的に回転駆動される。モータ
１３４が駆動させられると、炉体１２４の長手方向に沿
って配列された多数の第１搬送装置１１８の回転軸１５
４が同様な回転速度、回転方向で同時に回転させられる
こととなるが、モータ１５０が駆動させられると、マイ
タギア１４０ｆにはその回転が伝達されてワンウェイカ
ップリング１４８によってラインシャフト１３８ｅの接
続が実質的に絶たれ、マイタギア１４０ｆの下方に備え
られている回転軸１５４、すなわち加熱ゾーン１２８の
うちの徐冷ゾーン１３０に隣接する駆動区分１２９ｂに
属する回転軸１５４が、第１搬送装置１１８内の他の駆
動区分１２７、１２９ａに属する回転軸１５４よりも速
い徐冷ゾーン１３０と同様な速度で回転させられること
となる。

【００２９】また、複数の第２搬送装置１２０は、図４
の下段に駆動区分１３１ｂについて示されるように、そ
れぞれ独立して間欠的に駆動される減速機付モータ１５
８ａ、１５８ｂ、〜１５８ｆ（以下、特に区別しないと
きは単にモータ１５８という）を備えたものであり、そ
のモータ１５８の下方には第１搬送装置１１８と同様
に、炉体１２４の長手方向と垂直且つ水平方向に設けら
れた複数本の回転軸１５４が備えられている。この回転
軸１５４はモータ１５８の出力軸１６０の回転をチェー
ン１５６によって伝達されることにより同方向に回転さ
せられるものである。すなわち、複数の第２搬送装置１
２０は、第１搬送装置１１８においてモータ１３４の回
転を伝達されるマイタギア１４０に代えて独立して駆動
されるモータ１５８をそれぞれ備えている。モータ１５
８は、出力軸１６０が図に矢印で示される正転方向に正
転駆動されるだけではなく、交互に正転方向および逆転
方向に回転駆動する反転駆動可能とされているが、正転
駆動時には回転軸１５４に接続されたローラ１６６が前
記の第２の搬送速度（例えば5000[mm/min]程度）が得ら
れるように回転させられる一方、反転駆動時にはそれよ
りも遅い例えば1300(mm/min)程度の第３の搬送速度で基
板６２が搬送方向およびその反対方向に往復移動させら
れるようにローラ１６６が正転方向および逆転方向に回
転させられる。

【００３０】また、第３搬送装置１２２は、図１から明
らかなように、第１搬送装置１１８においてマイタギア
１４０の個数を減じ、炉体１２４の長手方向の前後が反
転された構成とされている。すなわち、駆動区分１２９
ｂと同様な構成の駆動区分１３３ａ、駆動区分１２７ｂ
等と同様な構成の駆動区分１３３ｂ、および駆動区分１
２７ａと同様な構成の駆動区分１３３ｃから構成されて
いる。そのため、炉体１２４ｂの下方に備えられた減速
機付モータ１６２の回転がチェーン１６３、ラインシャ
フト１３８ｇ、および１３８ｆを介してマイタギア１４
０ｉ、１４０ｈ、および１４０ｇに伝達され、それぞれ
の駆動区分１３３に備えられている回転軸１５４が回転
させられる。また、徐冷ゾーン１３０に隣接する駆動区
分１３３ａでは、駆動区分１２９ｂと同様に、減速機付
モータ１６４の回転がワンウェイカップリングを介して
伝達されることにより、それに属する回転軸１５４が間
欠的に他の回転軸１５４よりも速い速度すなわち第２搬
送装置１２０に同期した速度で駆動される。

【００３１】図２に戻って、炉体１２４内には、複数本
の例えばアルミナ製の円筒状のローラ１６６が、図３
(a) 〜(e) に図２におけるａ−ａ乃至ｅ−ｅ視断面を示
すように、両端部が炉体１２４側面から突き出すように
設けられている。炉体１２４の側部外側には一対の軸受
け１６７、１６７（図３(a) のみに図示）が設けられて
おり、これに前記回転軸１５４がローラ１６６と同軸的
にそれぞれ支持されている。ローラ１６６は、それぞれ
これら一対の回転軸１５４に両側から挟まれた状態で設
けられており、前記モータ１３４の回転がチェーン１５
６を介して伝達されるその回転軸１５４の回転に伴って
回転させられる。なお、図３(a) は、図２におけるａ−
ａ視断面に対応する図であるが、ａ₂ −ａ₂ 視断面も同
様な断面形状である。前記基板６２は、炉体１２４内に
おいてこのローラ１６６に支持されている。そのため、
ローラ１６６が回転させられるとその回転に伴って一方
向に搬送されることとなる。このとき、第１搬送装置１
１８および第３搬送装置１２２が設けられている予熱ゾ
ーン１２６、加熱ゾーン１２８、冷却ゾーン１３２にお
いてはローラ１６６が連続的に回転させられて基板６２
が連続的に搬送される一方、第２搬送装置１２０が設け
られている徐冷ゾーン１３０においてはローラ１６６が
間欠的に回転させられて基板６２が間欠的に搬送される
こととなる。すなわち、本実施例においては、第２搬送
装置１２０が特許請求の範囲に記載の搬送装置に対応し
ている。

【００３２】また、図１、図２、図３から明らかなよう
に、前記の予熱ゾーン１２６には、予熱ゾーン１２６内
の温度を検出するための複数の温度検出器ＴＣが、前記
の駆動区分１２７毎に長手方向中央の幅方向の３位置に
おいて上下に設けられると共に、炉体１２４の上側およ
び下側に複数のゾーンを形成し且つそのゾーン毎に独立
して制御されるヒータＨが、それぞれの駆動区分１２７
毎に炉体１２４の長手方向および幅方向にそれぞれ４ゾ
ーンずつ設けられている。すなわち、図１乃至図３にお
いては一部が省略されているが、図５(a) に駆動区分１
２７ａについて模式的に示すように、各駆動区分１２７
毎に基板６２の送り方向Ａおよびそれに直交する図示し
ないローラ１６６の長手方向にそれぞれ４分割された合
計１６組のヒータＨ₁₁₁₁、Ｈ₁₁₁₂、Ｈ₁₁₁₃、Ｈ₁₁₁₄、Ｈ
₁₁₂₁、Ｈ₁₁₂₂、Ｈ₁₁₂₃、Ｈ₁₁₂₄、Ｈ₁₁₃₁、Ｈ₁₁₃₂、Ｈ
₁₁₃₃、Ｈ₁₁₃₄、Ｈ₁₁₄₁、Ｈ₁₁₄₂、Ｈ₁₁₄₃、Ｈ₁₁₄₄（駆動
区分１２７ｂ、１２７ｃ、１２７ｄにはそれぞれＨ₁₂₁₁
〜Ｈ₁₂₄₄、Ｈ₁₃₁₁〜Ｈ₁₃₄₄、Ｈ₁₄₁₁〜Ｈ₁₄₄₄が備えられ
る）が炉体１２４の上下において各一対として配設さ
れ、ヒータＨ₁₁₂₁とＨ₁₁₃₁の間の位置、ヒータＨ₁₁₂₂、
Ｈ₁₁₂₃、Ｈ₁₁₃₂、およびＨ₁₁₃₃の間の位置、ヒータＨ
₁₁₂₄とＨ₁₁₃₄の間の位置にそれぞれ温度検出器ＴＣ
₁₁₁ 、ＴＣ₁₁₂ 、ＴＣ₁₁₃ （駆動区分１２７ｂ、１２７
ｃ、１２７ｄにはそれぞれＴＣ₁₂₁ 〜ＴＣ₁₂₃ 、ＴＣ
₁₃₁ 〜ＴＣ₁₃₃ 、ＴＣ₁₄₁ 〜ＴＣ₁₄₃ ）が配設されてい
る。図２に駆動区分１２７ａの上側に一部について例示
するように、各々の温度検出器ＴＣおよびヒータＨは制
御装置１６８に接続されており、温度検出器ＴＣで検出
された温度信号に従ってヒータＨの出力が制御される。

【００３３】また、予熱ゾーン１２６には、炉体１２４
の入口側の駆動区分１２７ａの入口上部に給気管１７０
が設けられると共に、続く駆動区分１２７ｂ、１２７
ｃ、１２７ｄの基板６２の搬送方向前方側に排気管１７
２が設けられている。これら給気管１７０および排気管
１７２は、例えばローラ１６６と同様なアルミナセラミ
ックスから構成されて何れも炉体１２４の幅方向に貫通
するように設けられている。給気管１７０は、その両端
部において炉体１２４側面に備えられている給気用配管
１７４に接続されており、図示しない空気供給源から導
かれた空気を炉体１２４内に供給する。また、排気管１
７２は、その両端部において炉体１２４側面に備えられ
ている排気用配管１７６に接続されており、炉体１２４
内に供給された空気はその内部を流れる過程で複数の排
気管１７２から吸い込まれ、排出口１７８から排出され
る。これら給気管１７０および排気管１７２は、それぞ
れ図６(a) 、(b) に示されるように丸穴状のノズル１７
１或いは長穴状のノズル１８１を複数箇所に備えたもの
である。

【００３４】また、前記加熱ゾーン１２８には、加熱ゾ
ーン１２８内の温度を検出するための複数の温度検出器
ＴＣが、駆動区分１２９毎に炉体１２４の長手方向およ
び幅方向のそれぞれ３位置において上下に設けられると
共に、炉体１２４の上側、下側および両側面上部に複数
のゾーンを形成し且つそのゾーン毎に独立して制御され
るヒータＨが、それぞれの駆動区分１２９毎に炉体１２
４の長手方向に４ゾーン、幅方向に両側面上部の各１ゾ
ーンを含む６ゾーンずつ設けられている。すなわち、図
５(b) に示されるように、各駆動区分１２９毎に基板６
２の送り方向Ａおよびそれに直交する図示しないローラ
１６６の長手方向にそれぞれ４分割された合計１６組の
ヒータＨ₂₁₁₁、Ｈ₂₁₁₂、Ｈ₂₁₁₃、Ｈ₂₁₁₄、Ｈ₂₁₂₁、Ｈ
₂₁₂₂、Ｈ₂₁ ₂₃、Ｈ₂₁₂₄、Ｈ₂₁₃₁、Ｈ₂₁₃₂、Ｈ₂₁₃₃、Ｈ
₂₁₃₄、Ｈ₂₁₄₁、Ｈ₂₁₄₂、Ｈ₂₁₄₃、Ｈ₂₁ ₄₄が炉体１２４の
上下において各一対として配設されると共に、炉体１２
４の幅方向両側の上部側面において送り方向Ａにそれぞ
れ４分割された（４組の）ヒータＨ₂₁₁₅、Ｈ₂₁₂₅、Ｈ
₂₁₃₅、Ｈ₂₁₄₅、Ｈ₂₁₁₆、Ｈ₂₁₂₆、Ｈ₂₁₃₆、Ｈ₂₁₄₆（駆動
区分１２９ｂにはＨ₂₂₁₁〜Ｈ₂₂₄₆）が両側面で一対とし
て配設されている。また、ヒータＨ₂₁₁₁内、Ｈ₂₁₁₂とＨ
₂₁₁₃との間、Ｈ₂₁₁₄内、Ｈ₂₁₂₁とＨ₂₁₃₁との間、
Ｈ ₂₁₂₂、Ｈ₂₁₂₃、Ｈ₂₁₃₂、Ｈ₂₁₃₃の間、Ｈ₂₁₂₄とＨ₂₁₃₄
との間、Ｈ₂₁₄₁内、Ｈ₂₁₄₂とＨ₂₁₄₃との間、Ｈ₂₁₄₄内の
位置にそれぞれ９組の温度検出器ＴＣ₂₁₁₁、ＴＣ₂₁ ₁₂、
ＴＣ₂₁₁₃、ＴＣ₂₁₂₁、ＴＣ₂₁₂₂、ＴＣ₂₁₂₃、ＴＣ₂₁₃₁、
ＴＣ₂₁₃₂、ＴＣ₂₁₃₃（駆動区分１２９ｂにはＴＣ₂₂₁₁〜
ＴＣ₂₂₃₃）が上下に配設されている。

【００３５】また、前記の徐冷ゾーン１３０には、図２
に駆動区分１３１ａについて示されるように、炉体１２
４の長手方向に沿って等間隔に複数のシャッタ装置Ｓ₁
〜Ｓ ₇（以下、特に区別しないときは単にシャッタ装置
Ｓという）が設けられており、徐冷ゾーン１３０が駆動
区分１３１ａ、１３１ｂ、〜１３１ｆにそれぞれ対応す
る複数、具体的には６つの第１加熱室Ｒ₁ 、第２加熱室
Ｒ₂ 、〜第６加熱室Ｒ ₆ （以下、特に区別しないときは
単に加熱室Ｒという）に分割されている。本実施例にお
いては、第１加熱室Ｒ₁ 乃至第６加熱室Ｒ₆ が相互に熱
的に区分された複数の加熱区分に相当する。なお、図に
示されるように、シャッタ装置Ｓ₁ は駆動区分１２９ｂ
と１３１ａとの間に、Ｓ₂ 〜Ｓ₆は駆動区分１３１ａ乃
至１３１ｆ相互の間に、Ｓ₇ は駆動区分１３１ｆと１３
３ａとの間にそれぞれ設けられている。

【００３６】また、徐冷ゾーン１３０の各駆動区分１３
１には、それぞれ制御装置１６８に制御されて各加熱室
Ｒの温度を検出するための複数の温度検出器ＴＣおよび
各加熱室Ｒを加熱するための複数のヒータＨが、前記図
５(b) に示される前記加熱ゾーン１２８と同様な配設パ
ターン（駆動区分１３１ａにはＴＣ₃₁₁₁〜ＴＣ₃₁₃₃およ
びＨ₃₁₁₁〜Ｈ₃₁₄₆、駆動区分１３１ｂにはＴＣ₃₂₁₁〜Ｔ
Ｃ₃₂₃₃およびＨ₃₂₁₁〜Ｈ₃₂₄₆、駆動区分１３１ｃにはＴ
Ｃ₃₃₁₁〜ＴＣ₃₃₃₃およびＨ₃₃₁₁〜Ｈ₃₃₄₆、駆動区分１３
１ｄにはＴＣ₃₄₁₁〜ＴＣ₃₄₃₃およびＨ₃₄₁₁〜Ｈ₃₄₄₆、駆
動区分１３１ｅにはＴＣ₃₅₁₁〜ＴＣ₃₅₃₃およびＨ₃₅₁₁〜
Ｈ₃₅₄₆、駆動区分１３１ｆにはＴＣ₃₆₁₁〜ＴＣ₃₆₃₃およ
びＨ₃₆₁₁〜Ｈ₃₆₄₆）で設けられている。また、各加熱室
Ｒ内には、基板６２の搬送方向後方側（上流側）に上部
および下部から冷却用空気を供給するための給気管１８
０、１８０が備えられると共に、その冷却用空気を搬送
方向前方側（下流側）の上部から排出するための排気管
１８２とが設けられている。これら給気管１８０および
排気管１８２は、それぞれ予熱ゾーン１２６に設けられ
ている給気管１７０、排気管１７２と同様なものであ
り、丸穴状のノズル１７１或いは長穴状のノズル１８１
が設けられたアルミナセラミックス製のチューブから構
成されている。また、給気管１８０および排気管１８２
は、炉体１２４の外部に設けられた給気用配管１８４お
よび排気用配管１８６にそれぞれ接続されており、給気
管１８０に図示しない空気供給源から個々の加熱室Ｒの
給気用配管１８４毎に設けられた送気管１８５ａ、１８
５ｂ、〜１８５ｆ（送気管１８５ａのみ図示。以下、特
に区別しないときは単に送気管１８５という）を介して
冷却用空気が導かれると共に、排気管１８２から吸い込
まれた各加熱室Ｒ内の空気が排出口１８８から排出され
る。個々の送気管１８５には電磁弁２０８ａ、２０８
ｂ、〜２０８ｆ（電磁弁２０８ａのみ図示。以下、特に
区別しないときは単に電磁弁２０８という）が設けられ
ており、制御装置１６８によって加熱室Ｒ内への給気が
開始および停止させられると共に給気量が調節される。
具体的には、加熱室Ｒ内に基板６２が存在しない状態で
電磁弁２０８が開けられることにより、その加熱室Ｒ内
に後方側からその設定温度ＫＴよりも低い温度の気体で
ある冷却用空気が前記給気管１８０によって供給され、
前方側から排気管１８２によって排出される。この給排
気は、例えば数秒乃至十数秒程度の所定時間継続され
る。これにより、基板６２が搬出されて空になった加熱
室Ｒ内の温度が設定温度よりも低下する傾向にされてヒ
ータＨの出力すなわち温度制御量が高められる。なお、
図においては、加熱室Ｒの上下にそれぞれ設けられた給
気用配管１８４、１８４が共通の送気管１８５に接続さ
れているが、それぞれ電磁弁２０８を備えた別々の送気
管１８５に接続されて独立に制御されてもよい。

【００３７】また、前記の冷却ゾーン１３２には、冷却
ゾーン１３２内の温度を検出するための温度検出器ＴＣ
₄₁、ＴＣ₄₂、Ｔ₄₃が、駆動区分１３３毎に炉体１２４長
手方向中央の幅方向中央位置において上側に設けられる
と共に、炉体１２４の上側および下側にその幅寸法に略
等しい長さを有する複数の冷却ジャケットＣが、それぞ
れの駆動区分１３３毎に炉体１２４の長手方向に３列ず
つ設けられている。冷却ジャケットＣは、その内部に図
１に示される冷却水配管２０２から枝管２０４を介して
供給される冷却水が流通させられるものである。上下に
配されたそれぞれ３つの冷却ジャケットＣは相互に連結
されており、それら３つの冷却ジャケットＣ内を順次流
通させられた冷却水は、図１に示される反対側の側面に
設けられた図示しない排水管から排出される。冷却ジャ
ケットＣに供給される冷却水の流量は駆動区分１３３毎
に枝管２０４に設けられている電磁弁２０６ａ、２０６
ｂ、２０６ｃによって調節される。この冷却ゾーン１３
２に設けられている温度検出器ＴＣおよび電磁弁２０６
も前記の制御装置１６８に接続されており、温度検出器
ＴＣによって検出された温度信号に基づいて冷却ジャケ
ットＣに流通される冷却水量が制御される。

【００３８】図７は、図２におけるシャッタ装置Ｓ₂の
近傍を拡大して示す図である。図において、上側断熱壁
１９０および下側断熱壁１９２は、それぞれ40mm程度の
隙間間隔を有して互いに平行に設けられた厚さ5mm 程度
の一対の耐熱ガラス製板から構成されており、上側断熱
壁１９０は複数本のローラ１６６の上端によって形成さ
れる基板６２の搬送面２１８から60(mm)程度の距離Ｈｕ
だけ離隔して位置させられており、一方、下側断熱壁１
９２は、その搬送面２１８から10(mm)程度の距離Ｈｄだ
け離隔して位置させられている。例えばＰＤＰ用のフロ
ントプレートやリヤプレートにおいては、基板６２の厚
さは、通常基板６２を載せて炉内を搬送するための図示
しないセッタの厚さを含めても10(mm)程度以下であっ
て、上記の距離Ｈｕに比較して充分に薄いことから、基
板６２は上側断熱壁１９０、下側断熱壁１９２および退
避位置Ａにあるシャッタ１９４に干渉することなく加熱
室Ｒ間に設けられている開口部１９８を通過させられ
る。なお、退避位置Ａにあるシャッタ１９４は図に実線
で示されており、遮蔽位置Ｂにあるシャッタ１９４は図
に１点鎖線で示されている。シャッタ１９４の厚さは5m
m 程度であり、上下の断熱壁１９０、１９２との間には
隙間が設けられて互いに接触することが防止されている
が、その隙間の大きさは17.5(mm)程度であり、加熱室Ｒ
相互の熱的な独立性は充分に確保されている。また、ロ
ーラ１６６相互の中心間隔ｇは、図に示されるように各
加熱室Ｒ内およびそれらの境界部において、150(mm) 程
度の一様な寸法に設定されている。また、炉体１２４の
内壁面は、一定の清浄性を保つためガラス２２２で構成
されている。

【００３９】図８は図７のVIII-VIII 視断面図である。
図において、シャッタ１９４はその長手方向両端部が、
炉体１２４に設けられたφ28mm程度の一対の貫通穴２２
０を鉛直方向に貫通するφ20mm程度の一対の支持シャフ
ト１９６によって支持されており、それら支持シャフト
１９６はそれぞれガイド部材２１０を挿通させられて鉛
直方向の往復移動可能に案内されている。そして、それ
ら一対の支持シャフト１９６は水平方向に設けられたア
ーム２１２によって相互に連結させられており、そのア
ーム２１２の中央部は鉛直方向に設けられたエアシリン
ダ２１６のピストンロッド２１４の先端部に取り付けら
れている。ここで、エアシリンダ２１６は、図示しない
空気供給源に接続された空気供給路上に設けられた電磁
弁が前記制御装置１６８によって基板６２の搬送位置に
応じて加熱室Ｒ毎に制御されて、ピストンロッド２１４
の突出位置が切り換えられることにより、シャッタ１９
４が図７、図８において実線で示す退避位置Ａと一点鎖
線で示す遮蔽位置Ｂの何れかに移動させられる。また、
貫通穴２２０と支持シャフト１９６との間には、径方向
に4mm 程度の隙間が存在するため、支持シャフト１９６
の熱膨張時にも常に充分な隙間が維持される。なお、炉
体１２４は炉壁に対応し、貫通穴２２０は連通穴に対応
している。

【００４０】図９は前記制御装置１６８の構成を示す図
である。予熱ゾーン１２６、加熱ゾーン１２８、徐冷ゾ
ーン１３０、および冷却ゾーン１３２の駆動区分１２
７、１２９、１３１、１３３（或いは加熱室Ｒ）毎に所
定数ずつ設けられた炉体１２４内の温度を検出するため
の温度検出器ＴＣ₁₁₁ 、ＴＣ₁₁₂ 、〜ＴＣ₄₃により検出
された温度を示す各信号は、マルチプレクサ６８によっ
て所定の周期で時分割され、且つＡ／Ｄ変換器７０にお
いてデジタル信号に変換された後、演算制御回路７２へ
入力される。この演算制御回路７２は、例えばマイクロ
コンピュータにより構成されており、ＲＡＭの一時記憶
機能を利用しつつ予めＲＯＭに記憶されたプログラムに
従って入力信号を処理し、出力インターフェース７４を
介して、モータ駆動回路ＭＤ₁ へ第１搬送装置１１８を
連続駆動させるための信号を、モータ駆動回路ＭＤ₂ へ
第１搬送装置１１８の駆動区分１２９ｂを第２搬送装置
１２０の駆動速度に同期して駆動させるための信号をそ
れぞれ供給し、また、各ヒータ駆動回路Ｄ₁₁₁₁、
Ｄ₁₁₁₂、〜Ｄ₃₆₄₆へ、ヒータＨ₁₁₁₁、Ｈ₁₁₁₂、〜Ｈ₃₆₄₆
を駆動させるための信号を供給し、また、モータ駆動回
路ＭＤ₃₁、ＭＤ₃₂、〜ＭＤ₃₆へ第２搬送装置１２０ａ、
１２０ｂ、〜１２０ｆを間欠駆動するための信号を供給
し、また、シリンダ駆動回路ＣＤ_S1、ＣＤ_S2、〜ＣＤ_S7
へシャッタ１９４を駆動するためのエアシリンダ２１６
ａ、２１６ｂ、〜２１６ｇを駆動させるための信号を供
給し、また、モータ駆動回路ＭＤ₄₁へ第３搬送装置１２
２を連続駆動させるための信号を、モータ駆動回路ＭＤ
₄₂へ第３搬送装置１２２の駆動区分１３３ａを第２搬送
装置１２０の駆動速度に同期して駆動させるための信号
をそれぞれ供給し、更に、電磁弁駆動回路ＳＤ₁ 、ＳＤ
₂ 、ＳＤ₃ 、ＳＤ_a1、ＳＤ_a2、〜ＳＤ_a6へ電磁弁２０６
ａ、２０６ｂ、２０６ｃ、２０８ａ、２０８ｂ、〜２０
８ｆを駆動させるための信号を供給する。

【００４１】上記の各ヒータＨ₁₁₁₁、Ｈ₁₁₁₂、〜Ｈ₂₂₄₆
は、予熱ゾーン１２６および加熱ゾーン１２８内で炉体
１２４の温度が幅方向において均等且つ長手方向（基板
６２の搬送方向）で所定の温度勾配が形成されるよう
に、また、ヒータＨ₃₁₁₁、Ｈ₃₁ ₁₂、〜Ｈ₃₆₄₆は、徐冷ゾ
ーン１３０の各加熱室Ｒ内の温度がそれぞれ予め設定さ
れた温度で均等となるように、それぞれ予め設定された
各部位の目標温度比或いは相互の出力比に従って制御さ
れるようになっている。例えば、炉体１２４の幅方向中
央に位置するヒータＨ₁₁₁₂、Ｈ₁₁₁₃、Ｈ₁₁₂₂、Ｈ₁₁₂₃、
〜Ｈ₃₆₄₂に比較して、幅方向端部に位置するヒータＨ
₁₁₁₁、Ｈ₁₁₁₄、Ｈ₁₁₂₁、Ｈ₁₁₂₄、〜Ｈ₃₆₄₄の出力が高め
られる。また、炉体１２４の長手方向において低温側
（予熱ゾーン１２６および加熱ゾーン１２８の駆動区分
１２９ａにおいては基板６２の搬送方向後方側、加熱ゾ
ーン１２８の駆動区分１２９ｂおよび徐冷ゾーン１３０
においては搬送方向前方側）に位置するヒータＨ₁₁₁₁、
Ｈ₁₁₁₂、Ｈ₁₁₁₃、Ｈ₁₁₁₄、Ｈ₁₂₁₁、Ｈ₁₂₁₂、Ｈ₁₂₁₃、Ｈ
₁₂₁₄、〜Ｈ₂₁₁₆、およびＨ₂₂₄₁、Ｈ₂₂₄₂、Ｈ₂₂₄₃、Ｈ
₂₂₄₄、Ｈ₂₂₄₅、Ｈ₂₂₄₆、Ｈ₃₁₄₁、Ｈ₃₁₄₂、Ｈ₃₁₄₃、Ｈ
₃₁₄₄、Ｈ₃₁₄₅、Ｈ₃₁₄₆、〜Ｈ₃₆ ₄₆は、各ゾーン１２６、
１２８、１３０の高温側（上記と反対側位置）に位置す
るヒータＨ₁₁₄₁、Ｈ₁₁₄₂、Ｈ₁₁₄₃、Ｈ₁₁₄₄、Ｈ₁₂₄₁、Ｈ
₁₂₄₂、Ｈ₁₂₄₃、Ｈ₁₂₄₄、〜Ｈ₂₁₄₆、およびＨ₂₂₁₁、Ｈ
₂₂₁₂、Ｈ₂₂₁₃、Ｈ₂₂₁₄、Ｈ₂₂₁₅、Ｈ₂₂₁₆、Ｈ₃₁₁₁、Ｈ
₃₁₁₂、Ｈ₃₁₁₃、Ｈ₃₁₁₄、Ｈ₃₁₁₅、Ｈ₃₁₁₆、〜Ｈ₃₆₁₆に比
較して出力が高められる。

【００４２】図１０および図１１は、連続型焼成装置１
１６を用いて膜形成素材を含む基板６２を焼成する場合
において、各基板６２毎の位置および図１０において時
刻ｔ ₀ に搬入された基板６２の昇降温カーブをそれぞれ
示すタイミングチャートである。なお、図１０において
一点鎖線は各駆動区分１２７等の境界を示し、図に示さ
れるように徐冷ゾーン１３０においては各加熱室Ｒすな
わち加熱区分の境界に等しい。すなわち、縦軸は炉体１
２４内の長手方向（基板６２の搬送方向）の位置を示し
ている。また、右上がりに描かれた複数本の実曲線はそ
れぞれ各基板６２の動きに対応し、その傾きの大きさが
搬送速度の速さを表す。以下、これらのタイミングチャ
ートを参照して基板６２の焼成方法を説明する。

【００４３】まず、時刻ｔ₀ において、未焼成の基板６
２が図１に示される搬入方向に従って予熱ゾーン１２６
の駆動区分１２７側から搬入される。このとき、徐冷ゾ
ーン１３０に設けられたシャッタ装置Ｓは、シャッタ１
９４が遮蔽位置Ｂに位置させられることにより全て閉じ
られて、各加熱室Ｒが相互に熱的に分離されており、基
板６２が搬送過程において図１１に示される温度カーブ
で昇降温させられるように、炉体１２４の各ゾーン１２
６、１２８、１３０に設けられたヒータＨがフィードバ
ック制御で駆動されて炉体１２４内が加熱されると共
に、冷却ゾーン１３２に設けられた電磁弁２０６が駆動
されて冷却ジャケットＣに冷却水が流されることによ
り、それぞれのゾーンの各部位が予め設定された目標温
度に保持されている。また、モータ１３４およびモータ
１６２が駆動されて第１搬送装置１１８および第３搬送
装置１２２内のローラ１６６が図２における右回り方向
に回転させられている。このため、搬入された基板６２
は、前記の第１の搬送速度で加熱ゾーン１２８に向かっ
て搬送される。

【００４４】次いで、時刻ｔ₀ から例えば300 秒程度経
過した時刻ｔ₁ においては、次の基板６２が予熱ゾーン
１２６に搬入され、更に300 秒程度経過した時刻ｔ₂ に
おいては、更に次の基板６２が予熱ゾーン１２６に搬入
される。すなわち、予熱ゾーン１２６には、例えば300
秒程度毎に基板６２が順次搬入される。このように順次
搬入された基板６２は、回転駆動されているローラ１６
６に支持された状態で予熱ゾーン１２６をその終端まで
搬送される過程で、例えば1100秒程度の時間で例えば50
0(℃) 程度の最高焼成温度ＭＴまで昇温させられる。図
１０、図１１のｔ₃ 時点はこの状態を示す。

【００４５】続く加熱ゾーン１２８においては、基板６
２が最高焼成温度ＭＴに保持された状態で第１搬送装置
１１８によって予熱ゾーン１２６から連続して搬送され
る。但し、加熱ゾーン１２８内での搬送速度は、当初は
予熱ゾーン１２６と同様に第１の搬送速度とされるが、
基板６２が駆動区分１２９ｂに完全に入ると、モータ１
５０が駆動されることによって第２の搬送速度に高めら
れる。このとき、加熱ゾーン１２８と徐冷ゾーン１３０
との間に設けられているシャッタ装置Ｓ₁ が開けられる
（シャッタ１９４が図７等に示される退避位置Ａに位置
させられる）と共に、加熱室Ｒ₁ 内のローラ１６６を駆
動する第２搬送装置１２０ａが所定の第２の搬送速度
（すなわち駆動区分１２９ｂと同様な搬送速度）で駆動
される。そのため、基板６２は加熱ゾーン１２８から徐
冷ゾーン１３０の加熱室Ｒ₁ すなわち第１の均熱温度Ｋ
Ｔ₁ に保持されている加熱室Ｒ₁ 内に速やかに搬送され
る。ｔ₄ 時点はこの状態を示している。本実施例におい
ては、最高焼成温度ＭＴに達してから加熱室Ｒ₁ 内に搬
入されるまでの加熱時間（所謂キープ時間）は例えば40
0 秒程度である。このようにして徐冷ゾーン１３０に搬
入された基板６２は、各加熱室Ｒ内で予め設定されてい
る所定温度（すなわち第１乃至第６の均熱温度）ＫＴ
₁ 、ＫＴ₂ 、〜ＫＴ₆ で所定時間保持されて均熱され、
続く加熱室Ｒに速やかに搬送される過程を繰り返しつ
つ、図１１に示される階段状の降温カーブに従って徐冷
される。なお、第１の均熱温度ＫＴ₁ は最高焼成温度Ｍ
Ｔよりも２０〜３０ (℃) 程度の所定値ΔＫＴだけ低い
温度であり、第２の均熱温度ＫＴ₂ 、第３の均熱温度Ｋ
Ｔ₃ 、〜第６の均熱温度ＫＴ₆ は、それぞれ更にその所
定値ΔＫＴずつ低くされた温度である。

【００４６】このとき、基板６２が加熱室Ｒ₁ 内に搬入
されると、開けられていたシャッタ装置Ｓ₁ が閉じられ
ると共に、駆動区分１３１ａの第２搬送装置１２０ａの
モータ１５８ａが反転駆動されて基板６２が搬送方向に
沿って加熱室Ｒ₁ 内で往復移動させられつつ均熱され
る。このようにして、予め定められた例えば180 秒程度
の保持時間が経過すると、基板６２の往復移動が停止さ
せられてシャッタ装置Ｓ ₂ が開けられ、基板６２が続く
加熱室Ｒ₂ 内に搬送される。図１０のｔ₅ 時点はこの状
態を示している。基板６２が加熱室Ｒ₂ 内に完全に入る
とシャッタ装置Ｓ ₂ が閉じられ、その加熱室Ｒ₂ 内にお
いて加熱室Ｒ₁ 内と同様に均熱処理が施される一方、電
磁弁２０８ａが開けられることにより、空室となった加
熱室Ｒ₁ 内に後方側からその設定温度ＫＴ₁よりも低い
温度の気体である冷却用空気が給気管１８０によって供
給され、前方側から排気管１８２によって排出される。
この給排気は、例えば数秒乃至十数秒程度の所定時間継
続される。これにより、基板６２が搬出されて空になっ
た加熱室Ｒ₁内の温度が設定温度ＫＴ₁よりも低下する
傾向にされてヒータＨの出力すなわち温度制御量が高め
られる。そして、一旦低下傾向とされた加熱室Ｒ₁内の
温度がフィードバック制御により良好な均熱状態を保ち
つつ、同様にして続く基板６２が搬入されて再び所定の
設定温度ＫＴ₁で均熱処理が施される。なお、基板６２
の搬入出に要する時間すなわちシャッタ装置Ｓが開けら
れてから再び閉じられるまでの時間は例えば30秒程度で
ある。また、各加熱室Ｒ内における熱処理の１サイク
ル、すなわち順次基板６２を搬入するために搬送方向後
方側のシャッタ装置Ｓが開けられる間隔は、予熱ゾーン
への基板６２の搬入間隔に等しい300 秒程度である。

【００４７】因に、図１１に示される昇温カーブの例え
ば500(℃) 程度以上の最高焼成温度ＭＴに続く所定の冷
却期間における冷却条件は、膜形成素材を含む基板６２
の熱処理の上で重要な要素である。たとえば、ＶＦＤ
（蛍光表示管）やＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パ
ネル）、ＰＡＬＣ（プラズマ・アドレスド液晶表示装
置）、ＦＥＤ（フィールド・エミッション・ディスプレ
イ）に用いるとき、基板６２がソーダライムガラスに代
表される低歪点のガラス製である場合には、基板６２内
の温度が不均一となって各部の冷却速度が相互に相違す
ることに起因してその寸法の局所的変化を発生させるこ
とから、多層厚膜印刷の位置合わせを困難としたり、あ
るいはフロントプレートとリヤプレートとの厚膜印刷面
を組合わせることにより多数のセルを形成するＰＤＰや
ＦＥＤに用いるときに両者のずれによってセルを構成で
きない部分を生じるので、たとえば40インチというよう
な大型となるほど製造歩留まりを加速度的に低下させ
る。図１２は、搬送方向前端側の冷却速度が搬送方向後
端側の冷却速度よりも高い従来の焼成法における基板６
２の寸法（実線）を焼成前の寸法（一点鎖線）に比較し
て示している。また、基板６２上に多数個の厚膜印刷抵
抗体や厚膜ボンディングパッドなどが設けられる場合に
は、基板６２内の温度が不均一となって各部の冷却速度
が相互に相違することに起因して、機能を有する厚膜層
に結合材として含まれるガラス成分の溶融、軟化の程度
によって、また、厚膜に含まれる金属、無機材料粒子の
溶融、焼結の程度によって抵抗値やボンディング適性が
左右されることから、印刷抵抗体の抵抗値やボンディン
グ適性のばらつきによって基板６２が大型となるほど製
造歩留まりを加速度的に低下させる。更に、厚膜印刷に
よる誘電体層の積層によって基板６２に所定高さのリブ
壁を形成する場合でも、基板６２内の温度が不均一とな
って各部の冷却速度が相互に相違することに起因して厚
膜に含まれるガラス成分の溶融、軟化の程度によって焼
成収縮率すなわち厚膜の膜厚や幅寸法が左右されること
から、基板６２が大型となるほど製造歩留まりを加速度
的に低下させる。

【００４８】制御装置１６８のうち、徐冷ゾーン１３０
の各加熱室Ｒ₁〜Ｒ₆の温度をそれぞれ所定の均熱温度
ＫＴ₁〜ＫＴ₆に制御する部分、すなわちヒータ駆動回
路Ｄ ₃₁₁₁〜Ｄ₃₆₄₆や電磁弁駆動回路ＳＤ_a1〜ＳＤ_a6など
は、温度検出器ＴＣ₃₁₁₁〜ＴＣ₃₆₃₃やヒータＨ₃₁₁₁〜Ｈ
₃₆₄₆、電磁弁２０８ａ〜２０８ｆ、送気管１８５ａ〜１
８５ｆに冷却空気を供給するエア供給装置等と共に温度
制御装置を構成している。また、前記第２搬送装置１２
０ａ〜１２０ｆは、制御装置１６８のモータ駆動回路Ｍ
Ｄ₃₁〜ＭＤ₃₆等を含んで構成されている。

【００４９】上記のようにして、加熱室Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、〜
Ｒ₆ 内で順次保持されることにより徐冷ゾーンでの熱処
理が終了すると、シャッタ装置Ｓ₇ が開けられると共
に、モータ１５８ｆとモータ１６４とが駆動されること
により、駆動区分１３１ｆおよび１３３ａが同期して駆
動され、基板６２が加熱室Ｒ₆ から冷却ゾーン１３２に
搬出される。図１０および図１１のｔ₁₄時点はこの状態
を示している。その後、第３搬送装置１２２のモータ１
６４が停止させられて基板６２が冷却ゾーン１３２内を
第１の搬送速度で搬送されてその右端部から搬出され、
その過程で図１１に示されるように昇温速度と略同様な
降温速度で急速に冷却される。図１０のｔ ₁₅時点はこの
状態を示している。この冷却過程に要する時間は、例え
ば700 秒程度であり、基板６２が予熱ゾーン１２６に搬
入されてから冷却が終了するまでの時間（ｔ₀ 〜ｔ₁₅）
は、例えば3500秒程度（１時間程度）である。なお、前
述のように、基板６２は例えば300 秒程度の所定の時間
間隔で予熱ゾーン１２６に順次搬入されていることか
ら、図１０から明らかなように、搬入時と等しい300 秒
程度の所定時間間隔で順次冷却ゾーン１３２から搬出さ
れていくこととなる。

【００５０】このように、本実施例では徐冷ゾーン１３
０がシャッタ装置Ｓ₁〜Ｓ₇により６つの加熱室Ｒ₁〜
Ｒ₆に区分され、基板６２を最高焼成温度ＭＴからガラ
ス転移点温度ＧＴまで６段階で徐冷するようになってい
るため、各加熱室Ｒ₁〜Ｒ₆毎に基板６２の温度が略均
一に維持されつつ段階的に低下させられるようになり、
温度差に起因して歪などを生じさせることなく徐冷ゾー
ン１３０の長さ寸法を短くできる。

【００５１】ここで、本実施例によれば、第２搬送装置
１２０によって搬送される基板６２と干渉しない範囲で
シャッタ１９４を挟むように各加熱室Ｒの境界部分に一
対の耐熱ガラス製板から構成される上側断熱壁１９０お
よび下側断熱壁１９２が設けられていることから、その
上側断熱壁１９０および下側断熱壁１９２の耐熱ガラス
製板自身と耐熱ガラス製板相互間に形成される空気層に
よる断熱作用により、各加熱室Ｒが隣接する加熱室Ｒか
ら受ける熱影響が可及的に低減させられる。これによ
り、基板６２を間欠送りしてシャッタ１９４を閉じた
後、制御装置１６８により各加熱室Ｒ毎に所定の均熱温
度ＫＴに速やかに制御できるようになり、基板６２を間
欠送りするサイクルタイムを短くして全体の処理時間を
短縮できる。

【００５２】また、徐冷ゾーン１３０において基板６２
の温度を最高焼成温度ＭＴ（第１温度）からガラス転移
点温度ＧＴ（第２温度）まで徐々に低下させる本実施例
の連続型焼成装置１１６においては、各加熱室Ｒ毎に所
定の均熱温度ＫＴに速やかに制御できることから、間欠
送りのサイクルタイムを長くすることなく加熱室Ｒ毎の
温度変化ΔＫＴをできるだけ大きくして加熱室Ｒの数を
少なくし、連続型焼成装置１１６の全長を更に短くする
ことが可能である。

【００５３】また、本実施例によれば、図１５に示され
るように、下側断熱壁１９２を構成する一対の耐熱ガラ
ス製板の内側の空間が貫通穴２２０を介して炉外に連通
していることから、一対の下側断熱壁１９２の間に比較
的低温の空気層が形成され、例えば図１６の位置ａ〜ｂ
間と位置ｃ〜ｄ間に示されるように、一対の下側断熱壁
１９２にはそれぞれ空気層側に傾斜した反対向きの温度
勾配が形成される。これにより、高温側の加熱室Ｒ₁か
ら低温側の加熱室Ｒ₂に対する直接的な伝熱が妨げら
れ、加熱室Ｒ₂が加熱室Ｒ₁から受ける熱影響が可及的
に低減させられるため、基板６２を間欠送りしてシャッ
タ１９４を閉じた後、制御装置１６８により加熱室Ｒ₂
を所定の均熱温度ＫＴ₂に一層速やかに制御できるよう
になる。徐冷ゾーン１３０の他の加熱室Ｒも同様であ
る。なお、図１６で位置ａ〜ｂ間と位置ｃ〜ｄ間で比較
的急な温度勾配を示すのは、それぞれ耐熱ガラス製板が
断熱作用を示すためで、位置ｂ〜ｃ間で比較的緩い温度
勾配を示すのは、断熱作用の小さな空気層が存在するた
めである。

【００５４】また、このように下側断熱壁１９２が設け
られることにより、貫通穴２２０からの熱の逃げ出しが
抑制され、炉外の雰囲気温度が大幅に低減される。

【００５５】ここで、上記基板６２に熱電対を取り付
け、その基板６２の温度を測定しながら徐冷ゾーン１３
０を例えば３００秒のサイクルタイムで各加熱室Ｒへ間
欠送りし、温度差ΔＫＴ≒３０℃で段階的に温度を低下
させたところ、図１３に示すように、基板６２は１００
秒程度以下で所定の均熱温度ＫＴまで低下させられる。
これに対し、図１４は一対の下側断熱壁１９２が設けら
れていない場合（その分だけ大きなシャッタを使用）
で、徐冷ゾーン１３０を例えば４５０秒のサイクルタイ
ムで各加熱室Ｒへ間欠送りした場合であり、基板６２が
均熱温度ＫＴまで低下するのに３００秒以上の時間が掛
かっている。この場合、３００秒のサイクルタイムで間
欠送りするには、加熱室Ｒ毎の温度差ΔＫＴを小さくし
なければならず、その分だけ加熱室Ｒの数が多くなって
徐冷ゾーン１３０の全長が長くなる。なお、シャッタ１
９４を開いて基板６２を移動させた後、シャッタ１９４
を閉じるまでの時間は、何れの場合も約３０秒である。

【００５６】以上、本発明の一実施例を図面を参照して
詳細に説明したが、本発明は、更に別の態様でも実施さ
れる。

【００５７】例えば、前述の実施例においては、加熱室
Ｒからの基板６２の搬出および搬入が時間差を設けて行
われていたが、同時に実施してもよい。例えば、基板６
２が加熱室Ｒの一室置きに収容されるように搬送する場
合には、各加熱室Ｒにおける搬出および搬入を同時に行
っても、同時に３つ以上の加熱室Ｒが連続させられるこ
とはないため、加熱室Ｒ内の温度や雰囲気は変化し難
く、実施例と同様に加熱室Ｒ内の高い均熱性が保たれ
る。このように同時に搬入出を実施する場合には、第２
搬送装置１２０は、第１搬送装置１１８や第３搬送装置
１２２と同様にラインシャフト１３８およびマイタギア
１４０で連結して１つのモータで駆動するようにしても
差し支えない。

【００５８】また、実施例においては、加熱室Ｒ内での
均熱処理中に基板６２が搬送方向に往復移動させられて
いたが、加熱室Ｒ内は十分に均熱性が高められているこ
とから、この往復移動は必ずしも実施されなくともよ
い。

【００５９】また、実施例においては、第１搬送装置１
１８および第３搬送装置１２２は、モータ１３４或いは
１６２の回転をラインシャフト１３８およびマイタギア
１４０で伝達すると共に、搬送速度を第２搬送装置１２
０に一致させることが望まれる駆動区分１２９ｂおよび
１３３ａにモータ１５０或いは１６４およびワンウェイ
カップリング１４８等を備えて、それら駆動区分１２９
ｂおよび１３３ａの搬送速度が変化させられるように構
成されていたが、例えば、それら駆動区分１２９ｂおよ
び１３３ａを第２搬送装置１２０と同様にそれぞれ回転
速度可変のモータを備えて独立に駆動してもよい。ま
た、第１搬送装置１１８および第３搬送装置１２２の各
駆動区分も全て独立に駆動するようにしても差し支えな
い。

【００６０】また、前述の実施例では、基板６２を構成
するガラス或いはその上に印刷された厚膜に含まれるガ
ラスの転移点或いは歪点を基板６２内が均一な温度状態
を保ちつつ通過するように、また、基板６２に含まれる
膜形成材料が金属或いは無機材料の溶融、焼結により固
着される場合には、その膜形成材料の溶融点或いは焼結
点を基板６２内が均一な温度状態を保ちつつ通過するよ
うに、前記第１温度ＭＴ或いは第２温度ＧＴは、上記基
板６２に含まれるガラス素材の転移点或いは歪点の近傍
の値に設定され、或いは上記基板６２上の膜形成材料に
含まれる金属或いは無機材料の溶融点或いは焼結点の近
傍の値に設定される。

【００６１】また、実施例において、炉体１２４、シャ
ッタ装置Ｓがβ−スポジュメン質結晶化ガラスから構成
され、ローラ１６６はアルミナセラミックスから構成さ
れていたがこれらは他のセラミックスから構成されても
よい。例えば、炉体１２４等はアルミナセラミックスや
ムライト等から構成されてもよく、ローラ１６６はムラ
イトやスポジュメン等から構成されてもよい。また、実
施例の連続型焼成装置１１６のように、ローラ１６６を
用いたローラハースキルンにおいては、摺動部分を炉体
１２４内に設ける必要がないことから、各部の素材を耐
熱性の高い例えばＳＵＳ３１０等の金属から構成しても
よい。

【００６２】また、実施例においては、ローラ１６６が
一様な中心間隔ｇで配置されていたが、例えば、加熱室
Ｒの境界部等においては、搬送性の妨げられない範囲で
広くされても差し支えない。

【００６３】その他一々例示はしないが、本発明は当業
者の知識に基づいて種々の変更、改良を加えた態様で実
施することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の連続型焼成装置の全体構成
を説明する図である。

【図２】図１の実施例の炉体の長手方向に沿った断面を
一部省略して示す図である。

【図３】(a) 〜(e) は、図２におけるａ−ａ乃至ｅ−ｅ
視断面にそれぞれ相当する図である。

【図４】図１の実施例の搬送装置を説明する図である。

【図５】図１の実施例の複数のヒータ配置を説明する図
である。

【図６】(a) 、(b) は図１の実施例の給気管および排気
管をそれぞれ示す図である。

【図７】図２の一部を拡大してシャッタ装置の構成を詳
細に説明する図である。

【図８】図３(d) の一部を拡大してシャッタ装置の駆動
構成を説明する図である。

【図９】図１の実施例の制御回路を説明するブロック線
図である。

【図１０】図１の実施例の基板の搬送位置を示すタイム
チャートである。

【図１１】図１の実施例の各ゾーンの設定温度すなわち
基板の焼成温度曲線を示す図である。

【図１２】従来の焼成装置における基板の局所的な寸法
変形を説明する図である。

【図１３】図１の実施例の徐冷ゾーンを３００秒のサイ
クルタイムで基板を間欠送りした場合の基板の温度変化
を測定した結果を示す図である。

【図１４】下側断熱壁を備えていない従来の徐冷ゾーン
を４５０秒のサイクルタイムで基板を間欠送りした場合
の基板の温度変化を測定した結果を示す図である。

【図１５】図１の実施例のシャッタ装置の構成を説明す
る模式図である。

【図１６】図１５においてシャッタ近傍の温度変化をｘ
軸方向について示す図である。

【符号の説明】

６２：基板（ワーク）１１６：連続型焼成装置（熱処理装置）１２０ａ〜１２０ｆ：第２搬送装置（搬送装置）１２４：炉体１６６：ローラ１６８：制御装置（温度制御装置）１９０：上側断熱壁１９２：下側断熱壁１９４：シャッタ２２０：貫通穴（連通穴）Ｓ₁〜Ｓ₇：シャッタ装置Ｒ₁〜Ｒ₆：複数の加熱室（加熱区分）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者赤堀哲雄愛知県名古屋市西区則武新町三丁目１番 36号株式会社ノリタケカンパニーリミテド内 (72)発明者稲葉善幸福岡県朝倉郡夜須町大字三並字八ツ並 2160番地九州ノリタケ株式会社内 (72)発明者中川正弘福岡県朝倉郡夜須町大字三並字八ツ並 2160番地九州ノリタケ株式会社内 (72)発明者伊藤淳福岡県朝倉郡夜須町大字三並字八ツ並 2160番地九州ノリタケ株式会社内 (56)参考文献特開平９−175871（ＪＰ，Ａ) 特開平８−115968（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) F27B 9/40 F27B 9/08 F27B 9/24

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】所定のワークがトンネル状の炉体内を略
水平な一方向へ搬送される過程で、該ワークの温度を略
均一に維持しながら変化させる熱処理装置であって、前記炉体内において前記一方向に並んで設定された複数
の加熱区分毎に加熱温度を独立に制御し、該複数の加熱
区分へ順次送られる前記ワークの温度を異なる温度に変
化させる温度制御装置と、前記ワークを前記複数の加熱区分へ順次間欠送りする搬
送装置と、前記一方向において前記複数の加熱区分の境界部分に配
設され、往復移動させられることにより該複数の加熱区
分を相互に遮蔽する遮蔽位置と、前記搬送装置によって
搬送される前記ワークとの干渉を避ける退避位置とに位
置決めされる平板状のシャッタを備えているシャッタ装
置と、前記搬送装置によって搬送される前記ワークと干渉しな
い範囲で、該ワークの搬送位置を挟んで上下両側に、前
記シャッタを挟むように前記複数の加熱区分の境界部分
に位置固定に設けられた耐熱ガラス製の一対の断熱壁
と、を有し、且つ、該一対の断熱壁の間には両側の加熱区分
の何れの設定温度よりも低温の空気層が形成されている
ことを特徴とする熱処理装置。
【請求項２】略水平な一平面内に互いに平行に配設さ
れてそれぞれ軸心まわりに回転駆動される多数のローラ
上に平板状のワークを略水平な姿勢で載置して、トンネ
ル状の炉体内を一方向へ搬送するとともに、該ワークの
温度を略均一に維持しながら前記搬送過程で予め定めら
れた第１温度から第２温度まで徐々に変化させる熱処理
装置であって、前記炉体内において前記一方向に並んで設定された複数
の加熱区分毎に加熱温度を独立に制御し、該複数の加熱
区分へ順次送られる前記ワークの温度を前記第１温度か
ら第２温度まで徐々に変化させる温度制御装置と、前記多数のローラを間欠回転させて前記ワークを前記複
数の加熱区分へ順次間欠送りする搬送装置と、前記一方向において前記複数の加熱区分の境界部分であ
って前記多数のローラの間の位置に配設され、上下方向
へ往復移動させられることにより該複数の加熱区分を相
互に遮蔽する遮蔽位置と、前記搬送装置によって搬送さ
れる前記ワークとの干渉を避ける退避位置とに位置決め
される平板状のシャッタを備えているシャッタ装置と、前記搬送装置によって搬送される前記ワークと干渉しな
い範囲で、該ワークの搬送位置を挟んで上下両側に、前
記シャッタを挟むように前記複数の加熱区分の境界部分
に位置固定に設けられた耐熱ガラス製の一対の断熱壁
と、を有し、且つ、該一対の断熱壁の間には両側の加熱区分
の何れの設定温度よりも低温の空気層が形成されている
ことを特徴とする熱処理装置。
【請求項３】所定のワークを一方向へ搬送する過程で
該ワークの温度を略均一に維持しながら低下させる熱処
理装置であって、前記シャッタを挟むように設けられた一対の断熱壁の間
の空間は、前記炉体に設けられた連通穴を介して炉外に
連通していることを特徴とする請求項１または２に記載
の熱処理装置。