JP6658491B2 - ダイシング装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
ダイシング装置および半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
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Description
第2の発明に係るチャックテーブルでは、ウエハ搭載部の中心部に設けられる吸着エリアの上面の面積が小さい。このため、反りが大きく応力が集中し易いウエハの中心部を吸着する範囲を細かく設定できる。従って、ダイシング工程におけるウエハのバタつきを抑制できる。このため、半導体装置の損傷を抑制できる。
第3の発明に係るチャックテーブルでは、ウエハの中心部に設けられた半導体装置が複数の吸着エリアを分割する壁の上に配置されることを防止できる。これにより、強い応力が発生する可能性のあるウエハの中心部に配置される半導体装置において、吸着されない部分が生じることを防止できる。従って、ダイシング工程におけるウエハのバタつきを抑制できる。このため、半導体装置の損傷を抑制できる。
第4の発明に係る半導体装置の製造方法は、ウエハのダイシング加工部を含む部分が強く吸着される。また、ウエハの他の部分は弱く吸着される。これにより、ウエハの一部に応力が集中することが抑制される。従って、ダイシング工程におけるウエハのバタつきを抑制できる。このため、半導体装置の損傷を抑制できる。
図1は、実施の形態1に係るチャックテーブルの平面図およびウエハの断面図である。本実施の形態に係るチャックテーブル2は、フレーム5を備える。フレーム5は平面視において円形である。フレーム5の内部にはウエハ搭載部10が設けられている。ウエハ搭載部10は、無機質材料をポーラス状に焼成して形成される。ウエハ搭載部10は平面視において円形である。ウエハ搭載部10の形状はこれに限らず、平面視において矩形でも良い。
図3は、実施の形態2に係るチャックテーブルの平面図である。本実施の形態に係るチャックテーブル202は、ウエハ搭載部210を備える。ウエハ搭載部210は平面視において円形である。ウエハ搭載部210には互いに分断された複数の吸着エリアA1〜A4、B1〜B4、C1〜C4が設けられている。
図6は、実施の形態3に係るチャックテーブルの平面図である。本実施の形態に係るチャックテーブル402は、ウエハ搭載部410を備える。ウエハ搭載部410は、複数の吸着エリアA5〜F5を有する。複数の吸着エリアA5〜F5は、平面視においてストライプ状に設けられている。複数の吸着エリアA5〜F5は壁403によって互いに分断されている。
Claims (9)
- チャックテーブルと、
ダイシングブレードと、
を備え、
前記チャックテーブルは、
互いに分断された複数の吸着エリアを有するウエハ搭載部と、
前記複数の吸着エリアの各々の吸着力を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記複数の吸着エリアのうち前記ダイシングブレードの直下の吸着エリアの吸着力を、他の吸着エリアの吸着力よりも大きくすることを特徴とするダイシング装置。 - 前記複数の吸着エリアのうち前記ウエハ搭載部の中心に配置される吸着エリアの上面の面積は、前記複数の吸着エリアのうち前記ウエハ搭載部の外周部に配置される吸着エリアの上面の面積よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載のダイシング装置。
- 前記ウエハ搭載部は平面視において円形であり、
前記複数の吸着エリアは、前記ウエハ搭載部の上面において同心円状に設けられた壁と、前記ウエハ搭載部の上面において前記ウエハ搭載部の中心から端部まで伸びる複数の壁と、によって互いに分断されることを特徴とする請求項1または2に記載のダイシング装置。 - 前記ウエハ搭載部は平面視において円形であり、
前記複数の吸着エリアは、前記ウエハ搭載部の中心に設けられ平面視において円形の吸着エリアと、前記円形の吸着エリアの端部から前記ウエハ搭載部の端部まで伸びる複数の壁によって互いに分断された吸着エリアと、を有し、
前記円形の吸着エリアの上面の面積は、前記ウエハ搭載部に搭載されるウエハに形成された複数の半導体装置のうち1つよりも大きいことを特徴とする請求項1または2に記載のダイシング装置。 - 前記複数の吸着エリアは、平面視においてストライプ状に設けられることを特徴とする請求項1に記載のダイシング装置。
- 前記複数の吸着エリアの各々の吸着力を測定する測定器を備え、
前記制御部は、前記測定器が測定した吸着力に応じて、前記複数の吸着エリアの各々の吸着力を制御することを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載のダイシング装置。 - 互いに分断された複数の吸着エリアを有するウエハ搭載部を備えたチャックテーブルを準備する工程と、
複数の半導体装置が形成されたウエハを、前記ウエハ搭載部に搭載する工程と、
前記ウエハのダイシング箇所の上部にダイシングブレードを配置する工程と、
前記ダイシングブレードの直下の吸着エリアの吸着力を、他の吸着エリアの吸着力よりも大きくした状態で、前記ダイシングブレードにより前記ウエハをダイシングするダイシング工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記複数の吸着エリアは、平面視においてストライプ状に設けられ、
前記ダイシング工程では、複数の吸着エリアの長手方向と平行に前記ウエハをダイシングすることを特徴とする請求項7に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記ダイシング工程は、前記ダイシングブレードを移動させながら、前記ダイシングブレードの座標を読み、前記複数の吸着エリアのうち前記座標に対応する位置の吸着エリアの吸着力を、他の吸着エリアの吸着力よりも大きくする工程を備えることを特徴とする請求項7または8に記載の半導体装置の製造方法。
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