JP2000126960A - 被加工物の真空吸着装置 - Google Patents

被加工物の真空吸着装置

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JP2000126960A
JP2000126960A JP31700798A JP31700798A JP2000126960A JP 2000126960 A JP2000126960 A JP 2000126960A JP 31700798 A JP31700798 A JP 31700798A JP 31700798 A JP31700798 A JP 31700798A JP 2000126960 A JP2000126960 A JP 2000126960A
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vacuum suction
workpiece
vacuum
base
compressed air
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Kozo Komatsu
広三 小松
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Suzuki Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の目的は、多数の真空吸着孔を上面に
形成した基台上に、被加工物を載置して吸引固着すると
きに、その基台上に載置した被加工物の外側に真空吸着
孔が存在しようとも、被加工物の外側に位置する真空吸
着孔のそれぞれを一つずつ塞ぐ必要が全くなく、しかも
被加工物の外側に真空吸着孔が多数存在しようとも被加
工物に対する基台上での真空吸着能が阻害されることが
なくしっかりと基台上に吸引固定することにある。 【解決手段】 本発明に係る被加工物の真空吸着装置
は、各側面が平坦な平面矩形状の基台に、一方の側面か
ら圧搾空気を送り、他方の側面から排出される圧搾空気
通路を形成し、該圧搾空気通路と連通する連通孔を介し
て真空吸着孔を上面に多数穿設し、該真空吸着孔の途中
に空気が僅かに通過し得る微細空隙を残して充填物を充
填したものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、主として、超硬合
金、セラミックス等の非磁性体の薄物加工品を研磨機用
テーブルに取付けて研磨作業を行うための被加工物の真
空吸着装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の被加工物の真空吸着装置
は、真空エジェクターを使用し、該エジェクターと連通
して基台上に、同心円状の溝を多数箇形成し、その溝上
に加工物を載置して吸引固着する構造である。しかし、
被加工物を基台上に載置固定する場合、被加工物より大
きい同心円状の溝が存在するときは、被加工物からはみ
出した同心円状の溝は真空吸着効果を高めるために、そ
のはみ出した同心円状の溝をOリングや環状ゴムパッキ
ングによってその溝を塞いで真空効果を高めるようにし
ていた。
【0003】上記従来の被加工物の真空吸着装置は、被
加工物を基台上に載置して吸引固着するときに、被加工
物からはみ出した同心円状の溝部分をゴムパッキング等
により充填して塞がなければ、吸引効果が低下し、被加
工物を基台上にしっかりと吸引固着することができない
という欠点があった。また、上記従来の被加工物の真空
吸着装置は、同心円状の溝が形成されている基台を常に
上面に位置させて取付けなければならないために、研磨
機の砥石を水平方向に移動させて研磨することはできて
も上下方向のいわゆる垂直方向に砥石を移動させて被加
工物を研磨することはできないという難点があった。さ
らに、同心円状の溝が形成されている基台の上面に被加
工物を載置するときに、該被加工物を吸着以外の手段で
把持固定する事はできないという難点があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、多数
の真空吸着孔を上面に形成した基台上に、被加工物を載
置して吸引固着するときに、その基台上に載置した被加
工物の外側に真空吸着孔が存在しようとも、被加工物の
外側に位置する真空吸着孔のそれぞれを一つずつ塞ぐ必
要が全くなく、しかも被加工物の外側に真空吸着孔が多
数存在しようとも被加工物に対する基台上での真空吸着
能が阻害されることがなくしっかりと基台上に吸引固定
することができるようにしたものである。
【0005】また本発明の他の目的は、研磨機の砥石を
水平方向に移動させて研磨する事ができることは勿論の
事、上下方向のいわゆる垂直方向に砥石を移動させて被
加工物を研磨することができるように、基台の側面を取
付け面とした、いわゆる縦おきを可能とすることであ
る。
【0006】さらに本発明の他の目的は、基台の上面に
被加工物を載置するときに、該被加工物を吸着以外の手
段で所望する位置で把持固定する事を可能とした被加工
物の真空吸着装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明に係る被加工物の
真空吸着装置は、各側面が平坦な平面矩形状の基台に、
一方の側面から圧搾空気を送り、他方の側面から排出さ
れる圧搾空気通路を形成し、該圧搾空気通路の途中にエ
ジェクター作用を行う狭窄通路を形成し、前記圧搾空気
通路と連通する連通孔を介して真空吸着孔を上面に多数
穿設し、該真空吸着孔の途中に空気が僅かに通過し得る
微細空隙を残して充填物を充填したものである。
【0008】また本発明に係る被加工物の真空吸着装置
は、前記真空吸着孔の途中に微細空隙を残して充填する
充填物が、真空吸着孔の途中に形成しためねじと、該め
ねじに螺合するおねじとの間に形成される螺旋状の微細
空隙にて形成されているものである。
【0009】さらに本発明に係る被加工物の真空吸着装
置は、基台の上面に多数穿設した真空吸着孔にて吸引固
定された被加工物がスライド可能な押さえ板にて挟持さ
れるとともに被加工物と非接触の真空吸着孔部分は閉塞
することなく露出状態にある構造である。
【0010】
【作用】本発明に係る被加工物の真空吸着装置は、基台
の一方の側面から圧搾空気通路に向けて圧搾空気を送
り、基台の他方の側面から該圧搾空気を排出させる。こ
のとき真空吸着孔の空気は連通孔を介して圧搾空気通路
の途中に形成した狭窄路のエジェクター作用を利用して
真空吸引されることとなる。真空吸着孔の途中には空気
が僅かに通過し得る微細空隙を残して充填物が充填され
ているために、空気を吸引する通路は真空吸引孔の大き
さに比べて極端に狭くなっているが、これによって各真
空吸着孔の吸引能力が劣るものではない。したがって、
多数の真空吸着孔を形成した基台上に被加工物を載置す
るときに、被加工物によって塞がれた真空吸着孔部分は
真空状態となって被加工物を基台上に吸引固着すること
となる。一方、被加工物からはみ出した真空吸着孔部分
は何ら塞がれることなく、露出状態となっているが、上
述したように真空吸着孔の途中で空気が僅かに通過し得
る微細空隙で吸引する構造としているために、露出状態
で放置しても被加工物と接している真空吸着孔の吸引能
力に影響を及ぼすことはない。
【0011】また真空吸着孔の途中で空気が僅かに通過
し得る微細空隙を残した状態で充填物により充填する構
造であるために、被加工物の研磨作業時に出る粉塵は充
填物により阻止されることとなり、真空吸着孔の目詰ま
りが解消される。しかも、乾式の研磨機の場合は勿論、
水等を使用する湿式の研磨機の場合でも水等の液体は真
空吸着孔、連通孔及び圧搾空気通路を通って外部に排出
される。
【0012】さらに本発明に係る被加工物の真空吸着装
置は、基台の各側面が平坦な平面矩形状に形成されてい
るために、研磨機用テーブル上のマグネット盤上に強力
な磁石により基台底面を吸着させて使用する、いわゆる
横置き状態で、円形砥石を高速回転させ、該砥石を水平
方向に前後させて研磨作業をすることができることは勿
論のこと、基台の側面のうち圧搾空気を送る側の面と圧
搾空気を排出する側の面を除く基台の側面をマグネット
盤に吸着させる、いわゆる縦置きも可能であるため、高
速回転する砥石を上下の垂直方向に移動させて研磨作業
を行うことができ、研磨作業の能率化が図られる。
【0013】また本発明に係る被加工物の真空吸着装置
は、被加工物が基台の上面に多数穿設した真空吸着孔に
て吸引固定されるだけでなく、該被加工物はスライド可
能な押さえ板にて挟持することとしたので、被加工物が
非磁性体の薄物板材であろうとも真空吸引と相まって機
械的な把持固定がなされ、薄物の被加工物を安定した状
態で固定でき、研磨作業が一層容易となる。さらに高価
な真空ポンプは一切不要であり、エアーコンプレッサー
のみで足りる。
【0014】
【発明実施の形態】以下、本発明の一実施例を図面に基
づいて説明する。図1は本発明の一実施例を示す被加工
物の真空吸着装置を示す斜視図である。1は各側面が平
坦な平面矩形状の基台で、第1基台2と、その第1基台
2の上に重ねて設けた第2基台3とよりなり、第1基台
2と第2基台3の各側面はそれぞれ同一面上に位置する
ように積層しボルト、ナット等により固定されている。
図2(a)は第1基台の平面図、図2(b)は第1基台
の側面図、図2(c)は第1基台に形成した圧搾空気通
路の位置関係を示す平面図である。第1基台2の一側面
4にコンプレッサー(図示せず)から送られる圧搾空気
投入口5を設ける。この圧搾空気投入口5に接続するよ
うにして第1基台2に圧搾空気通路6を形成し、圧搾空
気通路6の終端に排気口7を設ける。排気口7の位置は
圧搾空気投入口5を形成した一側面4と直交する隣接側
面8に形成する。また圧搾空気通路6の途中(本例では
圧搾空気通路6のほぼ中央部付近)にエジェクター効果
を持たせるための狭窄路9を形成するに当たっては例え
ば圧搾空気通路6に形成した螺子部に、軸心に貫通孔を
設けた中空ねじ10を螺合させ、その中空ねじ10の頭
部を大きな圧搾空気通路6の垂直壁面に密着させる構造
とする。そして中空ねじ10の端末側の外周面の螺子山
を落とし細径に形成する。その細径に形成した環状隙間
と垂直方向に形成した連通孔11とが連通し、さらに環
状隙間と中空ねじ10端末以降の圧搾空気通路6とが連
通する構造とする(図4(a)(b)参照)。しかし
て、狭窄路9を通った後の空気のエジェクター作用によ
り後述する連通溝13内の空気は連通孔11及び環状隙
間を通って排気側の圧搾空気通路6へと真空吸引され
る。
【0015】連通孔11の上部には連通孔11と直交す
る方向で、第1基台2の上面の後述する多数の真空吸着
孔12を形成する位置に連通溝13を図2(a)に示す
ように所定間隔をおいて形成する。各連通溝13はいず
れも連通孔11と連通している。連通溝13と連通する
真空吸着孔12を第2基台3に垂直方向に貫通形成す
る。なお、各連通溝13は第2基台3の底面によってシ
ールされた状態で塞がれ、閉空間が形成される。
【0016】第2基台3の上面には上記各連通溝13の
形成位置、例えば34mm×65mmの面積に直径2m
mの真空吸着孔12を104個貫通形成した場合を示し
たが、形成位置の面積や真空吸着孔12の孔径、孔の数
等はこれらの数値に限定されるものではなく、適宜用途
等において変えることができる。本発明で重要な事は、
各真空吸着孔12の途中に空気が僅かに通過し得る微細
空隙12aを残した状態で充填物16を充填するように
したことである。真空吸着孔12の途中に微細空隙12
aを残して充填する充填物16の例としては、真空吸着
孔12の途中に形成しためねじ12bと、該めねじ12
bに螺合するおねじ16aとの間に形成される螺旋状の
微細空隙12aにて形成される。このようにすることと
したのは、被加工物からはみ出した真空吸着孔12部分
が何ら塞がれることなく、露出状態となっていようと
も、上述したように真空吸着孔12の途中で空気が僅か
に通過し得る微細空隙12aで吸引する構造としている
ために、被加工物と接している真空吸着孔12の吸引能
力には何ら影響を及ぼすことがないためである。
【0017】14は突き当て部14aを備えたスライド
取付け板で、第2基台3の上部に取付けられている。す
なわち第2基台3の上面の真空吸着孔12形成面を除い
た部分に平面門型形状の凹部3aを形成し、その凹部3
aにスライド取付け板14を取付ける。スライド取付け
板14の全側面は基台1の全側面と面一となるように形
成する。突き当て部14aの板はスライド取付け板14
と分離して螺子止め等によって着脱自在な取付け構造と
してもよい。スライド取付け板14にはスライド可能な
押え板15が嵌合し、第2基台3の真空吸着孔12形成
面上をスライドしながら移動できるように押え板15に
形成した長孔15aの範囲で移動でき、所望する位置で
ボルト15bによって固定するようにしている。しかし
て、この押え板15により被加工物を左右位置で把持固
定するものである。
【0018】図7は使用状態を示す概略説明図で、超硬
質合金、セラミックス等の非磁性体の薄物等の被加工物
を真空吸着した本発明に係る真空吸着装置を研磨機用テ
ーブル上のマグネットに対し横方向に磁気的吸着作用に
より取付けた場合を示し、高速回転する円形砥石は水平
方向に移動して研磨作業を行う。図8は別の使用状態を
示す概略説明図で、被加工物を真空吸着した本発明に係
る真空吸着装置を研磨機用テーブル上のマグネットに対
し縦方向に磁気的吸着作用により取付けた場合を示し、
高速回転する円形砥石は上下する垂直方向に移動して研
磨作業を行う。
【0019】
【発明の効果】本発明に係る被加工物の真空吸着装置
は、基台の一方の側面から圧搾空気通路に向けて圧搾空
気を送り、基台の他方の側面から該圧搾空気を排出させ
るとき、真空吸着孔の空気は連通孔を介して圧搾空気通
路の途中に形成した狭窄路によるエジェクター作用によ
って真空吸引されることとなるため、被加工物を迅速に
基台上に真空吸着させる事ができる。また真空吸着孔の
途中には空気が僅かに通過し得る微細空隙を残して充填
物が充填されているために、空気を吸引する通路は真空
吸引孔の大きさに比べて極端に狭くなっているが、これ
によって各真空吸着孔の吸引能力が劣るものではなく、
十分な吸引力が確保される。したがって、多数の真空吸
着孔を形成した基台上に被加工物を載置するときに、被
加工物によって塞がれた真空吸着孔部分は真空状態とな
って被加工物を基台上に吸引固着することとなるが、被
加工物からはみ出した真空吸着孔部分は何ら塞ぐ必要が
なく、露出状態となっていようとも、上述したように真
空吸着孔の途中で空気が僅かに通過し得る微細空隙で吸
引する構造としているために、露出状態で放置しても被
加工物と接している真空吸着孔の吸引能力に影響を及ぼ
すことはない。
【0020】また真空吸着孔の途中で空気が僅かに通過
し得る微細空隙を残して充填物により充填する構造であ
るために、被加工物の研磨作業時に出る粉塵は充填物に
より阻止されることとなり、真空吸着孔の目詰まりが解
消される。そして、乾式の研磨機の場合は勿論、水等を
使用する湿式の研磨機の場合でも水等の液体は真空吸着
孔、連通孔及び圧搾空気通路を通って外部に排出される
こととなる。
【0021】さらに本発明に係る被加工物の真空吸着装
置は、基台の各側面が平坦な平面矩形状に形成されてい
るために、研磨機用テーブル上のマグネット盤上に強力
な磁石により基台底面を吸着させて使用する、いわゆる
横置き状態で、円形砥石を高速回転させ、該砥石を水平
方向に前後させて研磨作業をすることができることは勿
論のこと、基台の側面のうち圧搾空気を送る側の面と圧
搾空気を排出する側の面を除く基台の側面をマグネット
盤に吸着させる、いわゆる縦置きも可能であるため、高
速回転する砥石を上下の垂直方向に移動させて研磨作業
を行うことができ、研磨作業の能率化が図られる。
【0022】また本発明に係る被加工物の真空吸着装置
は、被加工物が基台の上面に多数穿設した真空吸着孔に
て吸引固定されるだけでなく、該被加工物はスライド可
能な押さえ板にて挟持することとしたので、被加工物が
非磁性体の薄物板材であろうとも真空吸引と相まって機
械的な把持固定がなされ、薄物の被加工物を安定した状
態で固定でき、研磨作業が一層容易となる。さらに高価
な真空ポンプは一切不要であり、エアーコンプレッサー
のみで足りることとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の一実施例を示す被加工物の真空
吸着装置を示す斜視図である。
【図2】図2(a)は第1基台の平面図、図 2(b)
は第1基台の側面図、図2(c)は第1基台に形成した
圧搾空気通路の位置関係を示す平面図である。
【図3】図3(a)は第2基台の平面図、図 3(b)
は第2基台の側面図、図3(c)は第2基台の右側面図
である。
【図4】図4(a)は第1基台、第2基台およびスライ
ド取付け板の組立て状態を示す側面図で、圧搾空気の流
れ状態及び真空吸引状態を示す。図4(b)は圧搾空気
の狭窄部のエジェクター作用により真空吸引状態を示す
拡大側面図である。
【図5】図5(a)はスライド取付け板の平面図、図5
(b)はスライド取付け板の側面図である。
【図6】図6(a)は押え板の平面図、図6(b)は押
え板の側面図、図6(c)突き当て部の平面図、図6
(d)突き当て部の側面図である。
【図7】図7は使用状態を示す概略説明図である。
【図8】図8は別の使用状態を示す概略説明図である。
【符号の説明】
1 基台 2 第1基台 3 第2基台 4 一側面 5 圧搾空気投入口 6 圧搾空気通路 7 排気口 8 隣接側面 9 狭窄路 10 中空ねじ 11 連通孔 12 真空吸着孔 12a 微細空隙 12b めねじ 13 連通溝 14 スライド取付け板 14a 突き当て部 15 押え板 15a 長孔 15b ボルト 16 充填物 16a おねじ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 各側面が平坦な平面矩形状の基台に、一
    方の側面から圧搾空気を送り、他方の側面から排出され
    る圧搾空気通路を形成し、該圧搾空気通路の途中にエジ
    ェクター作用を行う狭窄通路を形成し、前記圧搾空気通
    路と連通する連通孔を介して真空吸着孔を上面に多数穿
    設し、該真空吸着孔の途中に空気が僅かに通過し得る微
    細空隙を残して充填物を充填したことを特徴とする被加
    工物の真空吸着装置。
  2. 【請求項2】 前記真空吸着孔の途中に微細空隙を残し
    て充填する充填物は、真空吸着孔の途中に形成しためね
    じと、該めねじに螺合するおねじとの間に形成される螺
    旋状の微細空隙にて形成されていることを特徴とする請
    求項1記載の被加工物の真空吸着装置。
  3. 【請求項3】 基台の上面に多数穿設した真空吸着孔に
    て吸引固定された被加工物はスライド可能な押さえ板に
    て挟持するとともに被加工物と非接触の真空吸着孔部分
    は閉塞することなく露出状態にあることを特徴とする請
    求項2記載の被加工物の真空吸着装置。
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