JP2003303797A - 研磨装置 - Google Patents

研磨装置

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JP2003303797A JP2002104988A JP2002104988A JP2003303797A JP 2003303797 A JP2003303797 A JP 2003303797A JP 2002104988 A JP2002104988 A JP 2002104988A JP 2002104988 A JP2002104988 A JP 2002104988A JP 2003303797 A JP2003303797 A JP 2003303797A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 研磨工具のドレッシング作業を手作業による
ことなく実施することができる研磨装置を提供する。 【解決手段】 被加工物を保持するチャックテーブル
と、該チャックテーブルに保持された被加工物を研磨す
るための研磨工具を備えた研磨ユニットとを具備する研
磨装置であって、研磨工具をドレッシングするためのド
レッサーボードを保持し、該ドレッサーボードをチャッ
クテーブルとチャックテーブルから離間した待機位置と
に搬送するドレッサーボード搬送機構を備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、チャックテーブル
に保持された半導体ウエーハ等の被加工物を研磨する研
磨工具をドレッシングすることができる研磨装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイス製造工程においては、略
円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列さ
れたストリートと呼ばれる切断ラインによって多数の矩
形領域を区画し、該矩形領域の各々に半導体回路を形成
する。このように多数の半導体回路が形成された半導体
ウエーハをストリートに沿って分離することにより、個
々の半導体チップを形成する。半導体チップの小型化お
よび軽量化を図るために、通常、半導体ウエーハをスト
リートに沿って切断して個々の矩形領域を分離するのに
先立って、半導体ウエーハの裏面を研削して所定の厚さ
に形成している。半導体ウエーハの裏面の研削は、通
常、ダイヤモンド砥粒をレジンボンドの如き適宜のボン
ドで固着して形成した研削工具を、高速回転せしめなが
ら半導体ウエーハの裏面に押圧せしめることによって遂
行されている。このような研削方式によって半導体ウエ
ーハの裏面を研削すると、半導体ウエーハの裏面に所謂
加工歪が生成され、これによって個々に分割された半導
体チップの抗折強度が相当低減される。この研削された
半導体ウエーハの裏面に生成される加工歪を除去する対
策として、研削された半導体ウエーハの裏面を硝酸およ
び弗化水素酸を含むエンチング液を使用して化学的エッ
チングするウエットエッチング法やエッチングガスを用
いるドライエッチング法が使用されている。また、研削
された半導体ウエーハの裏面を遊離砥粒を使用してポリ
ッジングするポリッジング法も実用化されている。
【0003】しかしながら、上述したウエットエッチン
グ法、ドライエッチング法およびポリッジング法は、生
産性が悪いとともに、廃液が環境汚染の原因となる。こ
のような問題を解決するために本出願人は、フエルトに
砥粒を分散させ適宜のボンド剤で固定したフエルト砥石
からなる研磨工具を用いて、研削された半導体ウエーハ
の裏面を研磨し、研削歪みを取り除く技術を特願200
1−93397として提案した。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】而して、特願2001
−93397として提案したフエルト砥石からなる研磨
工具を用いる研磨法は、被加工物を乾式で研磨するた
め、研磨工具の研磨面には目詰まりが生じ易く、従っ
て、研磨工具の研磨面を頻繁にドレッシングする必要が
ある。このため、オペレータは作業を中断してドレッサ
ーボードをチャックテーブル上に手作業で載置し、該チ
ャックテーブル上に載置されたドレッサーボードに研磨
工具の研磨面を接触させつつ回転することによりドレッ
シング作業を行っており、その作業が面倒であるととも
に、生産効率を低下させる原因にもなっている。
【0005】本発明は上記事実に鑑みてなされたもので
あり、その主たる技術課題は、研磨工具のドレッシング
作業を手作業によることなく実施することができる研磨
装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記主たる技術課題を解
決するため、本発明によれば、被加工物を保持するチャ
ックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加
工物を研磨するための研磨工具を備えた研磨ユニット
と、を具備する研磨装置において、該研磨工具をドレッ
シングするためのドレッサーボードを保持し、該ドレッ
サーボードを該チャックテーブルと該チャックテーブル
から離間した待機位置とに搬送するドレッサーボード搬
送機構を備えている、ことを特徴とする研磨装置が提供
される。
【0007】上記ドレッサーボードは、上面に砥石部を
備えた本体と、該本体の下面から突出して形成された円
形状の嵌合部とを備えており、上記ドレッサーボード搬
送機構は、ドレッサーボードの嵌合部の厚さより小さい
厚さ寸法を有し嵌合部と嵌合する環状の保持部を備えた
ドレッサーボード保持アームと、該ドレッサーボード保
持アームを上下方向に移動する上下移動手段と、ドレッ
サーボード保持アームをチャックテーブルと待機位置に
搬送する搬送移動手段とを具備している。上記ドレッサ
ーボードの嵌合部の外周面は下方に向けて径が小さくな
るテーパ面に形成されており、上記ドレッサーボード保
持アームの環状の保持部の内周面はドレッサーボードの
嵌合部の外周面と対応するテーパ面に形成されているこ
とが望ましい。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明に従って構成された
研磨装置の好適な実施形態について、添付図面を参照し
て詳細に説明する。
【0009】図1には本発明による研磨装置の斜視図が
示されている。研磨装置は、全体を番号2で示す装置ハ
ウジングを具備している。装置ハウジング2は、細長く
延在する直方体形状の主部21と、該主部21の後端部
(図1において右上端)に設けられ実質上鉛直に上方に
延びる直立壁22とを有している。直立壁22の前面に
は、上下方向に延びる一対の案内レール221、221
が設けられている。この一対の案内レール221、22
1に研磨ユニット3が上下方向に移動可能に装着されて
いる。
【0010】研磨ユニット3は、移動基台31と該移動
基台31に装着されたスピンドルユニット32を具備し
ている。移動基台31は、後面両側に上下方向に延びる
一対の脚部311、311が設けられており、この一対
の脚部311、311に上記一対の案内レール221、
221と摺動可能に係合する被案内溝312、312が
形成されている。このように直立壁22に設けられた一
対の案内レール221、221に摺動可能に装着された
移動基台31の前面には前方に突出した支持部313が
設けられている。この支持部313にスピンドルユニッ
ト32が取り付けられる。
【0011】スピンドルユニット32は、支持部313
に装着されたスピンドルハウジング321と、該スピン
ドルハウジング321に回転自在に配設された回転スピ
ンドル322と、該回転スピンドル322を回転駆動す
るための駆動源としてのサーボモータ323とを具備し
ている。回転スピンドル322の下端部はスピンドルハ
ウジング321の下端を越えて下方に突出せしめられて
おり、その下端には円板形状の工具装着部材324が設
けられている。なお、工具装着部材324には、周方向
に間隔をおいて複数のボルト挿通孔(図示していない)
が形成されている。この工具装着部材324の下面に研
磨工具325が装着される。研磨工具325は、図2お
よび図3に図示する如く、円板形状の支持部材326と
円板形状の研磨部材327とから構成されている。支持
部材326には周方向に間隔をおいてその上面から下方
に延びる複数の盲ねじ穴326aが形成されている。支
持部材326の下面は円形支持面を構成しており、研磨
部材327はエポキシ樹脂系接着剤の如き適宜の接着剤
によって支持部材326の円形支持面に接合されてい
る。研磨部材327は、図示の実施形態においてはフエ
ルトに砥粒を分散させ適宜のボンド剤で固定したフエル
ト砥石が用いられている。このフエルト砥石からなる研
磨部材327自体の構成についての詳細な説明は、本出
願人が既に提案した特願2001−93397の明細書
および図面に詳細に説明されているのでかかる記載に委
ね、本明細書においては説明を省略する。上記回転スピ
ンドル322の下端に固定されている工具装着部材32
4の下面に研磨工具325を位置付け、工具装着部材3
24に形成されている貫通孔を通して研磨工具325の
支持部材326に形成されている盲ねじ孔326aに締
結ボルト328を螺着することによって、工具装着部材
324に研磨工具325が装着される。
【0012】図1に戻って説明を続けると、図示の実施
形態における研磨装置は、上記研磨ユニット3を上記一
対の案内レール221、221に沿って上下方向(後述
するチャックテーブルの載置面と垂直な方向)に移動せ
しめる研磨ユニット送り機構4を備えている。この研磨
ユニット送り機構4は、直立壁22の前側に配設され実
質上鉛直に延びる雄ねじロッド41を具備している。こ
の雄ねじロッド41は、その上端部および下端部が直立
壁22に取り付けられた軸受部材42および43によっ
て回転自在に支持されている。上側の軸受部材42には
雄ねじロッド41を回転駆動するための駆動源としての
パルスモータ44が配設されており、このパルスモータ
44の出力軸が雄ねじロッド41に伝動連結されてい
る。移動基台31の後面にはその幅方向中央部から後方
に突出する連結部(図示していない)も形成されてお
り、この連結部には鉛直方向に延びる貫通雌ねじ穴が形
成されており、この雌ねじ穴に上記雄ねじロッド41が
螺合せしめられている。従って、パルスモータ44が正
転すると移動基台31即ち研磨ユニット3が下降即ち前
進せしめられ、パルスモータ44が逆転すると移動基台
31即ち研磨ユニット3が上昇即ち後退せしめられる。
【0013】図1を参照して説明を続けると、ハウジン
グ2の主部21の後半部上には略矩形状の没入部211
が形成されており、この没入部211にはチャックテー
ブル機構5が配設されている。チャックテーブル機構5
は、支持基台51とこの支持基台51に実質上鉛直に延
びる回転中心軸線を中心として回転自在に配設された円
板形状のチャックテーブル52とを含んでいる。支持基
台51は、上記没入部211上に前後方向(直立壁22
の前面に垂直な方向)である矢印23aおよび23bで
示す方向に延在する図示しない一対の案内レールに摺動
自在に装着されており、図示しないチャックテーブル移
動機構によって矢印23aおよび23bで示す方向に被
加工物搬入・搬出域24と上記スピンドルユニット32
を構成する研磨工具325の研磨部材327と対向する
研磨域25との間で移動せしめられる。なお、支持基台
51は、研磨域25においては図示しないチャックテー
ブル移動機構によって往復動せしめられる。チャックテ
ーブル52は、多孔質セラミッックスの如き適宜の多孔
性材料から構成されており、図示しない吸引手段に接続
されている。従って、チャックテーブル52を図示しな
い吸引手段に選択的に連通することにより、その上面に
載置された被加工物を吸引保持する。
【0014】上記チャックテーブル機構5を構成する支
持基台51の移動方向両側には、図1に示すように横断
面形状が逆チャンネル形状であって、図示しないチャッ
クテーブル移動機構を覆っている蛇腹手段53および5
4が付設されている。蛇腹手段53および54はキャン
パス布の如き適宜の材料から形成することができる。蛇
腹手段53の前端は没入部211の前面壁に固定され、
後端はチャックテーブル機構5の支持基台51の前端面
に固定されている。蛇腹手段54の前端はチャックテー
ブル機構5の支持基台51の後端面に固定され、後端は
装置ハウジング2の直立壁22の前面に固定されてい
る。チャックテーブル機構5が矢印23aで示す方向に
移動せしめられる際には蛇腹手段53が伸張されて蛇腹
手段54が収縮され、チャックテーブル機構5が矢印2
3bで示す方向に移動せしめられる際には蛇腹手段53
が収縮されて蛇腹手段54が伸張せしめられる。
【0015】図1に基づいて説明を続けると、装置ハウ
ジング2の主部21における研磨域25の側方には、研
磨域25においてチャックテーブル52上に保持された
被加工物と上記研磨部材327との接触部に冷却エアー
を噴出する冷却エアーノズル6が配設されている。この
冷却エアーノズル6は、図示しない冷却用エアー供給手
段に接続されている。
【0016】図示の実施形態における研磨装置は、研磨
域52に位置せしめられているチャックテーブル機構5
とともに、チャックテーブル52上に保持された被加工
物に押圧せしめらている研磨工具325を囲繞する防塵
カバー7を具備している。この防塵カバー7は全体とし
て箱形状であり、上壁71、前壁72および両側壁7
3、73を有する。防塵カバー7の両側壁73、73は
上下方向中間に下方を向いた肩面73a、73aを有
し、両側壁73、73の下半部は上記没入部211の両
側面に密接せしめられ、肩面73a、73aがハウジン
グ2の主部21の両側縁部の上面に載置せしめられる。
防塵カバー7の前壁72にはチャックテーブル機構5の
通過を許容するための矩形開口72aが形成されてい
る。防塵カバー7の上壁71には、研磨工具325の通
過を許容するための円形開口71aが形成されている。
また、防塵カバー7の上壁71には、円形開口71aの
周縁から上方に延びる円筒部材74が設けられている。
防塵カバー7の上壁71の一部には、開閉自在な保守点
検用の扉75が配設されている。更に、防塵カバー7の
上壁71には、防塵カバー7内を排気するための排気ダ
クト76が付設されている。排気ダクト76は適宜の排
気手段(図示していない)に接続されており、研磨工具
325によって被加工物を研磨する際には、防塵カバー
7によって囲繞されている研磨域25における研磨粉等
の粉塵が排気される。
【0017】図1に基づいて説明を続けると、装置ハウ
ジング2の主部21における前半部上には、第1のカセ
ット11と、第2のカセット12と、被加工物仮載置手
段13と、洗浄手段14と、被加工物搬送手段15と、
被加工物搬入手段16および被加工物搬出手段17が配
設されている。第1のカセット11は研磨加工前の被加
工物を収納し、装置ハウジング2の主部21におけるカ
セット搬入域に載置される。第2のカセット12は装置
ハウジング2の主部21におけるカセット搬出域に載置
され、研磨加工後の被加工物を収納する。被加工物仮載
置手段13は第1のカセット11と被加工物搬入・搬出
域24との間に配設され、研磨加工前の被加工物を仮載
置する。洗浄手段14は被加工物搬入・搬出域24と第
2のカセット12との間に配設され、研磨加工後の被加
工物を洗浄する。被加工物搬送手段15第1のカセット
11と第2のカセット12との間に配設され、第1のカ
セット11内に収納された被加工物を被加工物仮載置手
段13に搬出するとともに洗浄手段14で洗浄された被
加工物を第2のカセット12に搬送する。被加工物搬入
手段16は被加工物仮載置手段13と被加工物搬入・搬
出域24との間に配設され、被加工物仮載置手段13上
に載置された研磨加工前の被加工物を被加工物搬入・搬
出域24に位置付けられたチャックテーブル機構5のチ
ャックテーブル52上に搬送する。被加工物搬出手段1
7は被加工物搬入・搬出域24と洗浄手段14との間に
配設され、被加工物搬入・搬出域24に位置付けられた
チャックテーブル52上に載置されている研磨加工後の
被加工物を洗浄手段14に搬送する。また、図示の実施
形態における研磨装置は、装置ハウジング2の主部21
における中央部に上記チャックテーブル52を洗浄する
洗浄水噴射ノズル18を備えている。この洗浄水噴射ノ
ズル18は、チャックテーブル機構5が被加工物搬入・
搬出域24に位置付けられた状態において、チャックテ
ーブル52に向けて洗浄水を噴出する。
【0018】上記第1のカセット11に収容される被加
工物は、環状のフレームに保護テープを介して表面側が
装着された半導体ウエーハ(従って、半導体ウエーハは
裏面が上側に位置する)、或いは支持基板(サブストレ
ート)上に表面側が装着された半導体ウエーハ(従っ
て、半導体ウエーハは裏面が上側に位置する)でよい。
このような被加工物である半導体ウエーハを収容した第
1のカセット11は、装置ハウジング2の主部21にお
ける所定のカセット搬入域に載置される。そして、カセ
ット搬入域に載置された第1のカセット11に収容され
ていた研磨加工前の半導体ウエーハが全て搬出される
と、空のカセット11に代えて複数個の半導体ウエーハ
を収容した新しいカセット11が手動でカセット搬入域
に載置される。一方、装置ハウジング2の主部21にお
ける所定のカセット搬出域に載置された第2のカセット
12に所定数の研磨加工後の半導体ウエーハが搬入され
ると、かかる第2のカセット12が手動で搬出され、新
しい空の第2のカセット12が載置される。
【0019】次に、上述した研磨装置の加工処理動作に
ついて、簡単に説明する。第1のカセット11に収容さ
れた研磨加工前の被加工物としての半導体ウエーハは被
加工物搬送手段15の上下動作および進退動作により搬
送され、被加工物仮載置手段13に載置される。被加工
物仮載置手段13に載置された半導体ウエーハは、ここ
で中心合わせが行われた後に被加工物搬入手段16の旋
回動作によって被加工物搬入・搬出域24に位置せしめ
られているチャックテーブル機構5のチャックテーブル
52上に載置される。チャックテーブル52上に載置さ
れた被加工物は、図示しない吸引手段によってチャック
テーブル52上に吸引保持される。
【0020】チャックテーブル52上に半導体ウエーハ
を吸引保持したならば、図示しないチャックテーブル移
動機構を作動してチャックテーブル機構5を矢印23a
で示す方向に移動し、研磨域25の研磨開始位置に位置
付ける。研磨域25の研磨開始位置おいては、半導体ウ
エーハWを保持したチャックテーブル52を例えば30
0rpm程度で回転し、上記サーボモータ323を駆動
して研磨工具325を4000〜7000rpmで回転
するとともに、上記研磨ユニット送り機構4のパルスモ
ータ44を正転駆動して研磨ユニット3を下降即ち前進
せしめる。そして、研磨工具325の研磨部材327を
チャックテーブル52上の半導体ウエーハの裏面に所定
の荷重で押圧する。次に、図示しないチャックテーブル
移動機構を一方向に作動しチャックテーブル機構5を矢
印23aで示す方向に所定の研磨終了位置まで移動す
る。このとき、チャックテーブル機構5の移動速度は、
例えば100〜200mm/分に設定されている。そし
て、チャックテーブル52が研磨終了位置迄移動した
ら、図示しないチャックテーブル移動機構を他方向に作
動してチャックテーブル機構5を矢印23bで示す方向
に移動して研磨開始位置に戻し、上記動作を繰り返し実
行する。この研削動作を予め設定された時間、またはチ
ャックテーブル機構5の往復動を設定された回数実行す
ることにより、研磨部材327の作用によって半導体ウ
エーハの裏面が所定量乾式研磨され、残留加工歪が除去
される。
【0021】なお、図示の実施形態においては、研磨工
具325の研磨部材327による乾式研磨時において
は、研磨域25の側方に配設された冷却エアーノズル6
から研磨部材327と半導体ウエーハとの接触部に冷却
用エアーが噴射されるので、研削面327eと半導体ウ
エーハとの接触面をより冷却することができる。なお、
上述した乾式研磨作用によって研磨粉が飛散するが、こ
の際には図示しない排気手段が作動せしめられていて、
防塵カバー7内に飛散した粉塵は排気ダクト76を通し
て排気される。
【0022】上述したようにして研磨が終了すると、研
磨工具325が半導体ウエーハの裏面から上方に離隔さ
れ、チャックテーブル機構5が矢印23bで示す方向に
被加工物搬入・搬出域24まで移動せしめられる。しか
る後に、チャックテーブル52上の研磨加工された半導
体ウエーハの吸引保持が解除され、吸引保持が解除され
た半導体ウエーハは被加工物搬出手段17により搬出さ
れて洗浄手段14に搬送される。洗浄手段14に搬送さ
れた半導体ウエーハは、ここで洗浄された後に被加工物
搬送手段15よって第2のカセット12の所定位置に収
納される。
【0023】上述した研磨装置においては、研磨時に研
磨工具325を構成する研磨部材327の研磨面327
aには研磨粉が付着し目詰まりが発生する。この目詰ま
りした研磨面327aをドレッシングする必要があり、
図1に示す研磨装置においては装置ハウジング2の主部
21における上記チャックテーブル52の近傍に配設さ
れ、研磨工具325をドレッシングするためのドレッサ
ーボード8を保持し、該ドレッサーボード8をチャック
テーブル52と待機位置とに搬送するドレッサーボード
搬送機構9を備えている。以下、ドレッサーボード8お
よびドレッサーボード搬送機構9について、図4および
図5を参照して説明する。
【0024】図4および図5に示すドレッサーボード8
は、円盤状の本体81と、該本体81の下面から突出し
て形成された円形状の嵌合部82とからなっている。本
体81はアルミニウムによって形成され、その上面に砥
石部811が設けられている。本体81に砥石部811
を設けるには、例えば周知の電鋳法によって形成するこ
とができる。即ち、アルミニウム材からなる本体81を
砥石形成部を残してマスキングし、硫酸ニッケル液にダ
イヤモンド砥粒を混入せしめたメッキ液中でニッケルメ
ッキすることにより、本体81の砥石形成部に複合メッ
キ層からなる砥石部811を形成することができる。ド
レッサーボード8を構成する嵌合部82は本体81と一
体に形成され、その外径が本体81の外径より小径に形
成されている。嵌合部82の外周面821は、図4に示
すように下方に向けて径が小さくなるテーパ面に形成さ
れている。
【0025】次に、ドレッサーボード搬送機構9につい
て説明する。図4および図5に示すドレッサーボード搬
送機構9は、上記ドレッサーボード8を保持するドレッ
サーボード保持アーム91と、該ドレッサーボード保持
アーム91を上下方向に移動する上下移動手段92と、
該ドレッサーボード保持アーム91をチャックテーブル
52と、該チャックテーブル52から離間した位置に設
定された図1において実線で示す待機位置に搬送する搬
送移動手段93とを具備している。ドレッサーボード保
持アーム91は、その先端部に円環状の保持部911を
備えている。この円環状の保持部911の内周面911
aは図4に示すように上記ドレッサーボード8の嵌合部
82の外周面821を形成するテーパ面と対応するテー
パ面に形成されている。即ち、円環状の保持部911の
内周面911aは上端から下端に向けて径が小さくなる
テーパ面に形成されており、該保持部911の内周面9
11aと嵌合部82の外周面821とが全面において接
触するように構成されている。また、円環状の保持部9
11の厚さは、図5に誇張して示すように上記ドレッサ
ーボード8の嵌合部82の厚さより小さい寸法に形成さ
れている。このように形成された円環状の保持部911
にドレッサーボード8の嵌合部82が嵌合することによ
り、図5に示すようにドレッサーボード8の本体81の
下面が保持部911の上面に保持される。そして、保持
部911の内周面911aを形成するテーパ面とドレッ
サーボード8の嵌合部82の外周面821を形成するテ
ーパ面とが接触することによって、ドレッサーボード8
は円環状の保持部911の中心位置に保持される。この
ようにドレッサーボード保持アーム91の保持部911
に保持されたドレッサーボード8は、その嵌合部82の
下面が保持部911の下面より下方に突出して位置付け
られる。
【0026】上記のように構成された円環状の保持部9
11を備えたドレッサーボード保持アーム91の基端部
912は、作動軸94に取り付けられる。作動軸94は
装置ハウジング2の主部21に回転可能でかつ上下方向
に移動可能に支持されている。この作動軸94は、上下
移動手段92および搬送移動手段93によって上下方向
に作動せしめられるとともに、回動せしめられる。上下
移動手段92は、正転・逆転可能なパルスモータおよび
該パルスモータによって駆動されるスクリュー機構を含
んでおり、パルスモータを正転駆動すると作動軸94を
上昇せしめ、パルスモータを逆転駆動すると作動軸94
を下降せしめる。搬送移動手段93は、正転・逆転可能
なパルスモータおよび該パルスモータによって駆動され
る駆動機構を含んでおり、パルスモータを正転駆動する
と作動軸94を一方向に回動せしめ、パルスモータを逆
転駆動すると作動軸94を他方向に回動せしめる。上記
上下移動手段92の駆動源としてのパルスモータおよび
搬送移動手段93の駆動源としてのパルスモータは、図
示しない制御手段によって制御されるようになってい
る。以上のように構成されたドレッサーボード搬送機構
9は、ドレッサーボード保持アーム91の保持部911
にドレッサーボード8を保持した状態で、図1に示す待
機位置に位置付けられている。
【0027】次に、上記研磨工具325を構成する研磨
部材327の研磨面327aをドレッシングするため
に、ドレッサーボード8をチャックテーブル52上に保
持せしめる動作について、図6および図7を参照して説
明する。図1に示す待機位置に位置付けられている状態
から搬送移動手段93を作動してドレッサーボード保持
アーム91を作動軸94を中心として旋回動し、ドレッ
サーボード保持アーム91に保持されたドレッサーボー
ド8を、図6に示すように研磨域25に位置付けられて
いるチャックテーブル52の上方位置に搬送する。次
に、上下移動手段92を下降作動してドレッサーボード
保持アーム91を下降せしめると、ドレッサーボード保
持アーム91に保持されたドレッサーボード8の嵌合部
82の下面がチャックテーブル52の上面に載置され
る。そして、更に上下移動手段92を僅かに下降作動し
てドレッサーボード保持アーム91を下降し、図7に示
すようにドレッサーボード保持アーム91の保持部91
1の下面がチャックテーブル52に接触しない位置で上
下移動手段92の作動を停止する。このようにして、ド
レッサーボード8の嵌合部82の下面がチャックテーブ
ル52の上面に載置されたら、図示しない吸引手段を作
動してチャックテーブル52上にドレッサーボード8を
吸引保持する。このように図示の実施形態においては、
ドレッサーボード8を手動操作によることなくチャック
テーブル52に載置することができるので、作業効率を
向上することができる。
【0028】上述したようにしてチャックテーブル52
上にドレッサーボード8を吸引保持したならば、従来と
同様にドレッシング動作を実行する。即ち、ドレッサー
ボード8を吸引保持したチャックテーブル52を例えば
300rpm程度で回転し、上記サーボモータ323を
駆動して研磨工具325を4000〜7000rpmで
回転するとともに、上記研磨ユニット送り機構4のパル
スモータ44を正転駆動して研磨ユニット3を下降即ち
前進せしめる。そして、研磨工具325の研磨部材32
7をチャックテーブル52上のドレッサーボード8の上
面に所定の荷重で押圧する。この結果、ドレッサーボー
ド8の上面に所定の荷重で押圧されつつ回転している研
磨工具325を構成する研磨部材327の研磨面327
aは、ドレッサーボード8の砥石部811によってドレ
ッシングされる。
【0029】以上のようにして研磨工具325を構成す
る研磨部材327の研磨面327aのドレッシングが終
了したならば、研磨ユニット送り機構4のパルスモータ
44を逆転駆動して研磨ユニット3を上昇せしめるとと
もに、サーボモータ323の駆動を停止して研磨工具3
25の回転を停止し、そして、チャックテーブル52の
回転を停止する。次に、チャックテーブル52上に吸引
保持されているドレッサーボード8の吸引保持を解除
し、ドレッサーボード搬送機構9の上下移動手段92を
上昇作動してドレッサーボード保持アーム91を上昇せ
しめ、ドレッサーボード保持アーム91の保持部911
の上面にドレッサーボード8を保持する。そして、搬送
移動手段93を作動してドレッサーボード8を保持した
ドレッサーボード保持アーム91を、図1に示す待機位
置に搬送する。
【0030】
【発明の効果】本発明による研磨装置は、研磨工具をド
レッシングするためのドレッサーボードを保持し、該ド
レッサーボードをチャックテーブルと該チャックテーブ
ルから離間した待機位置とに搬送するドレッサーボード
搬送機構を備えているので、ドレッサーボードを手動操
作によることなくチャックテーブルに載置することがで
きるため、作業効率を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によって構成された研磨装置の一実施形
態を示す斜視図。
【図2】図1に示す研磨装置に装備される研磨ユニット
を構成する研磨工具を示す斜視図。
【図3】図2に示す研磨工具その下面側から見た状態を
示す斜視図。
【図4】図1に示す研磨装置に装備されるドレッサーボ
ードおよびドレッサーボード搬送機構の斜視図。
【図5】図4に示すドレッサーボード搬送機構にドレッ
サーボードを保持した状態を要部を破断して示す側面
図。
【図6】図4に示すドレッサーボード搬送機構に保持さ
れたドレッサーボードをチャックテーブルの上方位置に
搬送した状態を要部を破断して示す説明図。
【図7】図4に示すドレッサーボード搬送機構に保持さ
れたドレッサーボードをチャックテーブル上に載置した
状態を要部を破断して示す説明図。
【符号の説明】
2:装置ハウジング 3:研磨ユニット 31:移動基台 32:スピンドルユニット 321:スピンドルハウジング 322:回転スピンドル 323:サーボモータ 324:工具装着部材 325:研磨工具 326:支持部材 327:研磨部材 4:研磨ユニット送り機構 44:パルスモータ 5:チャックテーブル機構 51:支持基台 52:チャックテーブル 53、54:蛇腹手段 55:エアーノズル 6:冷却エアーノズル 7:防塵カバー 11:第1のカセット 12:第2のカセット 13:被加工物仮載置手段 14:洗浄手段 15:被加工物搬送手段 16:被加工物搬入手段 17:被加工物搬出手段 18:洗浄水噴射ノズル 8:ドレッサーボード 81:ドレッサーボードの本体 811:ドレッサーボードの砥石部 82:ドレッサーボードの嵌合部 9:ドレッサーボード搬送機構 91:ドレッサーボード保持アーム 911:ドレッサーボード保持アームの保持部 92:上下移動手段 93:搬送移動手段 94:作動軸

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被加工物を保持するチャックテーブル
    と、該チャックテーブルに保持された被加工物を研磨す
    るための研磨工具を備えた研磨ユニットと、を具備する
    研磨装置において、 該研磨工具をドレッシングするためのドレッサーボード
    を保持し、該ドレッサーボードを該チャックテーブルと
    該チャックテーブルから離間した待機位置とに搬送する
    ドレッサーボード搬送機構を備えている、 ことを特徴とする研磨装置。
  2. 【請求項2】該ドレッサーボードは、上面に砥石部を備
    えた本体と、該本体の下面から突出して形成された円形
    状の嵌合部とを備えており、 該ドレッサーボード搬送機構は、該ドレッサーボードの
    該嵌合部の厚さより小さい厚さ寸法を有し該嵌合部と嵌
    合する環状の保持部を備えたドレッサーボード保持アー
    ムと、該ドレッサーボード保持アームを上下方向に移動
    する上下移動手段と、該ドレッサーボード保持アームを
    チャックテーブルと該待機位置に搬送する搬送移動手段
    とを具備している、請求項1記載の研磨装置。
  3. 【請求項3】該ドレッサーボードの該嵌合部の外周面は
    下方に向けて径が小さくなるテーパ面に形成されてお
    り、該ドレッサーボード保持アームの該環状の保持部の
    内周面は該ドレッサーボードの該嵌合部の外周面と対応
    するテーパ面に形成されている、請求項2記載の研磨装
    置。
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