JP6655645B2 - 精製ガスの製造装置および精製ガスの製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明に係る精製ガスを製造するための装置構成の一例を示す概略図である。精製ガスの製造装置100は、原料ガス中の少なくとも水分および酸素を除去し、精製ガスを得るための精製塔(第1精製塔1および第2精製塔2)を備える。精製塔は、第1領域(1A,2A)および第2領域(1B,2B)を含む。第1領域(1A,2A)は、原料ガス中の少なくとも水分を吸着除去するための領域である。第2領域(1B,2B)は、第1領域(1A,2A)を経た原料ガス中の少なくとも酸素を除去し、精製ガスを得るための領域である。
第1精製塔1は、第1領域1Aおよび第2領域1Bを含む。第1領域1Aは、原料ガス中の少なくとも水分を吸着除去するための領域である。第2領域1Bは、第1領域1Aを経た原料ガス中の少なくとも酸素を除去し、精製ガスを得るための領域である。
原料ガスは、不純物として少なくとも水分および酸素を含む。原料ガスは、主成分として、たとえば窒素(N2)および希ガス等を含んでもよい。本明細書において「主成分」とは、原料ガスを構成する成分(ガス)のうち、最も体積含有量が多い成分(ガス)を意味し、「希ガス」とは、ヘリウム(He)、ネオン(Ne)、アルゴン(Ar)、クリプトン(Kr)、およびキセノン(Xe)のいずれかを示す。原料ガスは、上記のガスを複数含んでもよい。
第1領域1Aは、原料ガス中の少なくとも水分を吸着するための領域である。第1領域1Aは、脱湿剤を含むことが望ましい。第1領域1Aが脱湿剤を含むことにより、原料ガス中の少なくとも水分がより効果的に吸着されるものと考えられる。
第2領域1Bは、第1領域1Aを経た原料ガス中の少なくとも酸素を除去し、精製ガスを得るための領域である。第2領域1Bは、ゲッター剤を含むことが望ましい。第2領域1Bがゲッター剤を含むことにより、第1領域1Aを経た原料ガス中の酸素がより効果的に除去されるものと考えられる。また、第1領域1Aにおいて原料ガス中の水分が吸着除去されているため、第2領域1Bがゲッター剤を含んでいても、精製ガス中に微量の水素が含まれることが抑制されると期待される。
2Cu+O2 → 2CuO ・・・(1)
CuO+H2 → Cu+H2O ・・・(2)
原料ガスは、反応器(図示せず)より導入されるガスであってもよい。また、精製ガスは、反応器(図示せず)に導出されるガスであってもよい。すなわち本発明に係る精製ガスの製造装置100は、反応器と第1精製塔1とを接続するための接続路であって、反応器から第1精製塔1へ原料ガスを導入するための第1接続路(図示せず)を有してもよい。また、反応器(図示せず)と第1精製塔1とを接続するための接続路であって、第1精製塔1から導出される精製ガスを反応器(図示せず)へ戻すための第2接続路(図示せず)を更に有してもよい。
本発明に係る精製ガスの製造装置100は、第1領域1Aおよび第2領域1Bを再生するための再生ガスを供給するための、再生ガス供給路L1を含むことが望ましい。再生ガスは、加熱された窒素、および水素を含むことが望ましい。加熱された窒素により、第1領域1Aが再生され得る。水素により、第2領域1Bが再生され得る。精製ガスの製造装置100は、窒素を加熱するためのヒータ60を備えることが望ましい。水素は、加熱された窒素と混合され、昇温され得る。
本発明に係る精製ガスの製造方法は、原料ガスを第1領域および第2領域を含む精製塔に導入すること(原料ガス導入工程)を含む。第1領域において、原料ガス中の少なくとも水分が吸着除去される(水分吸着除去工程)。第2領域において、第1領域にて水分が吸着除去された原料ガス中の少なくとも酸素が除去される(酸素除去工程)。第2領域にて酸素が除去された原料ガスは、精製ガスとして導出される(精製ガス導出工程)。以下図1を参照して、第1精製塔1が使用されていると仮定し、精製ガスの製造方法の各工程について説明する。
本工程は、原料ガスを第1領域1Aおよび第2領域1Bを含む第1精製塔1に導入する工程である。原料ガスは、少なくとも水分および酸素を含む限り、特に限定されない。原料ガスは、主成分として、たとえば窒素および希ガス等を含んでもよい。主成分および希ガスの定義は、上述の通りである。原料ガスは、反応器(図示せず)から導出されるガスであってもよい。原料ガスは、昇圧機(図示せず)により所定の圧力まで昇圧されてから第1精製塔1に導入されてもよい。原料ガスは、減圧弁(図示せず)により所定の圧力まで減圧されてから第1精製塔1に導入されてもよい。
本工程は、第1領域1Aにおいて原料ガス導入工程により導入された原料ガス中の少なくとも水分を吸着除去する工程である。原料ガス中の水分は、たとえば第1領域1Aに含まれる脱湿剤により吸着除去され得る。用い得る脱湿剤は、上述の通りである。本工程は、たとえば0.1MaG以上0.9MPaG以下の圧力で行われてもよく、たとえば10℃以上40℃以下の温度で行われてもよい。
本工程は、第1領域1Aにて水分が吸着除去された原料ガス中の少なくとも酸素を第2領域1Bにおいて除去する工程である。原料ガス中の酸素は、たとえば第2領域1Bに含まれるゲッター剤により除去され得る。用い得るゲッター剤およびゲッター剤による酸素除去のメカニズムは、上述の通りである。水分が吸着除去された原料ガス中の少なくとも酸素が除去されることにより、精製ガスが製造される。また、水分吸着除去工程において原料ガス中の水分が吸着除去されているため、ゲッター剤を用いた精製ガスの製造の際に、精製ガス中に微量の水素が含まれることが抑制されると期待される。
本工程は、酸素除去工程により製造された精製ガスを導出する工程である。精製ガスは、要求される使用圧力に応じて昇圧機(図示せず)により所定の圧力まで昇圧されてもよい。精製ガスは、要求される使用圧力に応じて減圧弁(図示せず)により所定の圧力まで減圧されてもよい。精製ガスは、たとえば反応器に導入されてもよい。
第1精製塔1および第2精製塔2は、再生ガスにより再生し得る。以下、第2精製塔2の再生方法について説明する。第2精製塔2の再生方法は、脱圧工程、加熱工程、加熱再生工程、冷却工程、パージ工程、復圧工程、および両塔運転工程を含むことが望ましい。以下、各工程について説明する。第2精製塔2の再生で操作するバルブはV21〜V25、V60、およびV61である。なお、第1精製塔1のバルブは、V11およびV15が開(OPEN)とされ、V12〜V14が閉(CLOSE)とされている。
本工程は、V24を開とし、その他のバルブを閉とすることにより、第2精製塔2内のガスをベントに放出し、第2精製塔2内の圧力を大気圧近くまで脱圧する工程である。第2精製塔2が大気圧近くまで脱圧されることにより、第1領域2Aに吸着された水分の脱着が容易になることに加え、後述の工程において再生ガスを第2精製塔2に導入する際に、再生ガスの昇圧手段を省略し得る。たとえば、第2精製塔2内の圧力が略大気圧に達するまでを脱圧工程としてもよい。
本工程は、脱圧工程の後に行われる工程である。本工程においては、V23、V24、およびV60を開とし、その他のバルブを閉とし、ヒータ60により加熱された窒素ガスを第2精製塔2に流通させ、第2精製塔2を加熱する工程である。ヒータ60出口の窒素ガスの温度は、たとえば120℃以上220℃以下であってもよい。たとえば、第1領域2Aおよび第2領域2Bの温度が約120℃〜220℃に達するまでを加熱工程としてもよい。
本工程は、加熱工程の後に行われる工程である。本工程においては、V23、V24、V60、およびV61を開とし、その他のバルブを閉とし、ヒータ60により加熱された窒素ガス、および水素ガス(すなわち、再生ガス)を第2精製塔2に流通させ、第1領域2Aおよび第2領域2Bを再生する工程である。本工程中の第1領域2Aおよび第2領域2Bの温度は、約120℃〜220℃に保たれることが望ましい。ヒータ60により加熱された窒素ガスにより、第1領域2Aが再生されると考えられる。V61を介して導入された水素ガスにより、第2領域2Bが再生されると考えられる。たとえば、再生ガスを第2精製塔2に導入してから0.5時間〜3時間が経過するまでを加熱再生工程としてもよい。加熱再生工程に要する時間は、原料ガス中の水分量、原料ガス中の酸素量、第2精製塔2の容量、および再生ガスの温度等に応じて適宜調整され得る。
本工程は、加熱再生工程の後に行われる工程である。本工程においては、V23、V24、およびV60を開とし、その他のバルブを閉とし、常温の窒素ガスを第2精製塔2に流通させ、第2精製塔2を冷却する工程である。たとえば、第1領域2Aおよび第2領域2Bの温度が常温に達するまでを冷却工程としてもよい。
本工程は、冷却工程の後に行われる工程である。本工程においては、V22およびV24を開とし、その他のバルブを閉とし、精製ガスを第1精製塔1から第2精製塔2に導入し、第2精製塔2を精製ガスにてパージする工程である。たとえば、精製ガスによる第2精製塔2のパージを開始してから5分〜20分が経過するまでをパージ工程としてもよい。パージ工程に要する時間は、第2精製塔2の容量により適宜調整され得る。
本工程は、パージ工程の後に行われる工程である。本工程においては、V22を開とし、その他のバルブを閉とし、精製ガスを第1精製塔1から第2精製塔2に導入し、第2精製塔2を昇圧する工程である。たとえば、第2精製塔2の圧力が第2精製塔2の運転圧力に達するまでを復圧工程としてもよい。第2精製塔2の運転圧力は、たとえば0.1MaG以上0.9MPaG以下であってもよい。
本工程は、復圧工程の後に行われる工程である。本工程においては、V21およびV25を開とし、その他のバルブを閉とし、第1精製塔1および第2精製塔2により精製ガスを製造する工程である。本工程は、たとえば5分〜20分行われてもよい。両塔運転工程を経た後、第2精製塔2を用いた精製ガスの製造が行い得る。第1精製塔1は、前述の脱圧工程、加熱工程、加熱再生工程、冷却工程、パージ工程、復圧工程、および両塔運転工程により再生され得る。
《実施例1》
図1に記載の構成を有する装置が用意された。下記の条件にて主成分としてヘリウムを含有する原料ガス中に含まれる水分および酸素を除去し、精製ガスが製造された。その後、精製ガス中の酸素、水分、および水素量が測定された。なお、[NL]は、標準状態に換算したガスの体積[L]を表している。
原料ガス流量:300NL/min、
原料ガス中の酸素濃度:10vol.ppm、
原料ガスの露点:−20℃、
精製塔吸着圧力:0.2MPaG、
精製塔吸着温度:20℃、
ゲッター剤:[酸化亜鉛:酸化アルミニウム:酸化銅=約45:約12:約43(質量比)]、
脱湿剤:商品名:「F−9」(東ソー(株)より入手)。
反応器から導出されたガスが原料ガスとして第1精製塔1に導入された。第1精製塔1内の第1領域1Aにおいて、原料ガス中の水分が脱湿剤により吸着除去された。第1領域1Aを経た原料ガスに含まれる酸素が、第2領域1Bにおいてゲッター剤により除去された。これにより、精製ガスが製造された。精製ガスは、上記反応器に導入された。
下記表1に示されるように、原料ガスの主成分、原料ガス中の酸素濃度、および原料ガスの露点等が変更されたことを除いては、実施例1と同様に精製ガスが製造された。なお、実施例3〜実施例6においては、シミュレーション値である。当該シミュレーション値と実機において採取されるデータとは、ほぼ一致するものと考えられる。
図1に示される第1精製塔1において、第1領域1Aと第2領域1Bとが入れ替えられた。反応器から導出されたガスが原料ガスとして第1精製塔1に導入された。第1精製塔1内の第2領域1Bにおいて、原料ガス中の酸素がゲッター剤により除去された。第2領域1Bを経た原料ガスに含まれる水分が、第1領域1Aにおいて脱湿剤により吸着除去された。これにより、精製ガスが製造された。
各実施例および各比較例において製造された精製ガスに含まれる酸素、水分、および水素量が、ガスクロマトグラフィー(商品名:「GC2014ATF」((株)島津製作所より入手)により測定された。結果は以下の表2に示されている。
上記表2に示されるように、実施例は精製ガス中の水素量が0.1vol.ppm以下に抑制されていた。対して、比較例1においては精製ガス中の水素量が0.5vol.ppmという高い値であった。すなわち、原料ガス中の少なくとも水分を吸着除去するための領域である第1領域と、第1領域を経た原料ガス中の少なくとも酸素を除去し精製ガスを得るための第2領域とを含む精製塔を備えた製造装置により製造された精製ガスは、水素含有量が抑制されていることが示された。
Claims (8)
- 原料ガス中の少なくとも水分および酸素を除去し、精製ガスを得るための精製塔を備え、
前記精製塔は、第1領域および第2領域を含み、
前記第1領域は、前記原料ガス中の少なくとも水分を吸着除去するための領域であり、
前記第2領域は、前記第1領域を経た前記原料ガス中の少なくとも酸素を除去し、精製ガスを得るための領域であり、
前記第2領域は、ゲッター剤を含み、
前記ゲッター剤は、銅を含み、
前記精製塔を再生ガスにより再生する際に、前記再生ガスは前記第1領域および前記第2領域をこの順で通過する、
精製ガスの製造装置。 - 前記第1領域は、脱湿剤を含む、
請求項1に記載の製造装置。 - 前記原料ガスは、窒素および希ガスからなる群より選択される一種以上のガスを含む、請求項1または請求項2に記載の製造装置。
- 反応器と、
前記反応器と前記精製塔とを接続するための接続路であって、前記反応器から前記精製塔へ前記原料ガスを導入するための第1接続路と、
前記反応器と前記精製塔とを接続するための接続路であって、前記精製塔から導出される前記精製ガスを前記反応器へ戻すための第2接続路と、を更に備える、
請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の製造装置。 - 原料ガスを、第1領域および第2領域を含む精製塔に導入すること、
前記第1領域において、前記原料ガス中の少なくとも水分を吸着除去すること、
前記第2領域において、前記第1領域にて水分が吸着除去された前記原料ガス中の少なくとも酸素を除去すること、
前記第2領域にて酸素が除去された前記原料ガスを、精製ガスとして導出すること、を含み、
前記第2領域は、ゲッター剤を含み、
前記ゲッター剤は、銅を含み、
前記精製塔を再生ガスにより再生する際に、前記再生ガスは前記第1領域および前記第2領域をこの順で通過する、
精製ガスの製造方法。 - 前記第1領域は、脱湿剤を含む、
請求項5に記載の製造方法。 - 前記原料ガスは、窒素および希ガスからなる群より選択される一種以上のガスを含む、請求項5または請求項6に記載の製造方法。
- 反応器から導出されたガスを、前記原料ガスとして前記精製塔に導入すること、
および、
前記精製塔から導出された前記精製ガスを、前記反応器に導入すること、
を更に含む、請求項5〜請求項7のいずれか1項に記載の製造方法。
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