JP6633165B2 - ソフトパック電池の負極耳と正極耳の製造方法 - Google Patents
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Description
銅箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化10のステップにて、プラズマを利用して気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において銅箔基板11の任意の1つの表面に対して清浄化処理(油汚れと不純物の除去)を施すと同時に、銅箔基板11の表面粗さを高め、本発明の好適な実施例において、本ステップの操作時間を5分に設定し、作用圧力を5ミリトル(mtorr)に設定し、その中、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも1種であり、水素ガスが選定された時、その流量を5sccm(standard−state cubic centimeter per minute,立方センチメートル毎分)に設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を20sccmに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を20sccmに設定する。前記銅箔基板11の表面粗化を経た後の断面図の詳細は、図5に示す態様で表示される。
アルミ箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化70のステップにて、プラズマを利用して気体分子(窒素ガスあるいはアルゴンガス)をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温においてアルミ箔基板71の任意の1つの表面に対して清浄化処理(油汚れと不純物の除去)を施すと同時に、前記アルミ箔基板71の表面粗さを高める。本ステップの操作時間を5分に設定し、作用圧力を5ミリトル(mtorr)に設定し、その中、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも1種であり、水素ガスが選定された時、その流量を5sccmに設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を20sccmに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を20sccmに設定する。前記アルミ箔基板71の表面粗化を経た後の断面図の詳細は、図5に示す態様で表示される。
11:銅箔基板
20:ニッケル膜のめっき
21:ニッケル膜
30:ニッケル膜に対して実行する清浄化と表面粗化
40:不動態化金属膜のめっき
41:不動態化金属膜
50:不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化
60:接着剤付け
61:接着剤層
62:絶縁テープ
70:アルミ箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化
71:アルミ箔基板
80:不動態化金属膜のめっき
81:不動態化金属膜
90:不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化
100:接着剤付け
101:接着剤層
102:絶縁テープ
Claims (18)
- 下記のステップを含むソフトパック電池の負極耳の製造方法であって、
プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において銅箔基板11の少なくとも1つの表面に対して清浄化処理を施すと同時に、前記銅箔基板11の表面粗さを高める銅箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化10のステップと、
真空スパッタリング法により前記銅箔基板11の粗面にニッケル膜21をめっきして、前述した銅箔基板11の表面粗化により前記ニッケル膜21と前記銅箔基板11との付着強度を高めるニッケル膜のめっき20のステップと、
プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において前記ニッケル膜21の表面に対して清浄化処理を施すと同時に、前記ニッケル膜21の表面粗さを高めるニッケル膜に対して実行する清浄化と表面粗化30のステップと、
本ステップは、主に前記ニッケル膜21上に真空スパッタリング法によりさらに主に前記負極耳の電解液による侵食を防止して前記負極耳が溶解されないように保護するための不動態化金属膜41をめっきして、前述したニッケル膜21の表面粗化により前記不動態化金属膜41と前記ニッケル膜21との付着強度を高める不動態化金属膜のめっき40のステップと、
プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において前記不動態化金属膜41の表面に対して清浄化処理を施すと同時に、前記不動態化金属膜41の表面粗さを高める不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化50のステップとを含むことを特徴とする、ソフトパック電池の負極耳の製造方法。 - 前記銅箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化10、前記ニッケル膜のめっき20、前記ニッケル膜に対して実行する清浄化と表面粗化30、前記不動態化金属膜のめっき40、や前記不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化50などのステップを、それぞれ順次に前記銅箔基板11の異なる両面に同時に実行することを特徴とする、請求項1に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
- 前記負極耳の構造上に接着剤層61を部分環状に設置して、前記接着剤層61の異なる両面上にそれぞれ絶縁テープ62を貼合する接着剤付け60のステップをさらに含むことを特徴とする、請求項1または請求項2に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
- 前記不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化50のステップにおいて、選定された気体が酸素ガスである場合、これにより前記不動態化金属膜41上にさらに金属酸化膜が形成されることを特徴とする、請求項3に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
- 前記不動態化金属膜のめっき40のステップにおいて、スパッタリングのために選定された金属がクロムであり、前記金属酸化膜のために選定された材料が三酸化二クロムであることを特徴とする、請求項4に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
- 前記銅箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化10のステップにおいて、その操作時間を5分に設定し、作用圧力を5ミリトル(mtorr)に設定し、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも1種であり、水素ガスが選定された時、その流量を5sccm(standard−state cubic centimeter per minute,立方センチメートル毎分)に設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を20sccmに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を20sccmに設定することを特徴とする、請求項5に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
- 前記ニッケル膜のめっき20のステップにおいて、スパッタリング環境下に水素ガスとアルゴンガスとを同時に加え、前記水素ガスの流量を5sccmに設定して、アルゴンガスの流量を25sccmに設定することを特徴とする、請求項6に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
- 前記ニッケル膜に対して実行する清浄化と表面粗化30のステップにおいて、その操作時間を1分30秒に設定して、作用圧力を2ミリトル(mtorr)に設定し、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも1種であり、水素ガスが選定された時、その流量を5sccmに設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を20sccmに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を20sccmに設定することを特徴とする、請求項7に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
- 前記不動態化金属膜のめっき40のステップにおいて、さらにスパッタリング環境下に水素ガスとアルゴンガスとを同時に加え、前記水素ガスの流量を5sccmに設定して、アルゴンガスの流量を20sccmに設定することを特徴とする、請求項8に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
- 前記不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化50のステップにおいて、その操作時間を1分30秒に設定して、作用圧力を2ミリトル(mtorr)に設定し、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも1種であり、水素ガスが選定された時、その流量を5sccmに設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を20sccmに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を20sccmに設定することを特徴とする、請求項9に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
- 下記のステップを含むソフトパック電池の正極耳の製造方法であって、
プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温においてアルミ箔基板71の少なくとも1つの表面に対して清浄化処理を施すと同時に、前記アルミ箔基板71の表面粗さを高めるアルミ箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化70のステップと、
本ステップは、主に前記アルミ箔基板71の表面粗化を経た一面上に真空スパッタリング法により主に正極耳の電解液による侵食を防止して前記正極耳が溶解されないように保護するための不動態化金属膜81をめっきして、表面粗化を経た後の前記アルミ箔基板71により前記不動態化金属膜81と前記アルミ箔基板71との付着強度を高める不動態化金属膜のめっき80のステップと、
プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において前記不動態化金属膜81の表面に対して清浄化処理を施し、前記不動態化金属膜81の表面を清浄化する以外と共に、前記不動態化金属膜81の表面粗さを高める不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化90のステップとを含むことを特徴とする、ソフトパック電池の正極耳の製造方法。 - 前記アルミ箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化70、前記不動態化金属膜のめっき80、や前記不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化90などのステップを、それぞれ順次に前記アルミ箔基板71の異なる両面に同時に実行することを特徴とする、請求項11に記載のソフトパック電池の正極耳の製造方法。
- 前記正極耳の構造上に接着剤層101を部分環状に設置して、前記接着剤層101の異なる両面上にそれぞれ絶縁テープ102を貼合する接着剤付け100のステップをさらに含むことを特徴とする、請求項12に記載のソフトパック電池の正極耳の製造方法。
- 前記不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化90のステップにおいて、選定された気体が酸素ガスである場合、これにより前記不動態化金属膜81上にさらに金属酸化膜が形成されることを特徴とする、請求項11〜13のいずれか1項に記載のソフトパック電池の正極耳の製造方法。
- 前記不動態化金属膜のめっき80のステップにおいて、スパッタリングのために選定された金属がクロムであり、前記金属酸化膜のために選定された材料が三酸化二クロムであることを特徴とする、請求項14に記載のソフトパック電池の正極耳の製造方法。
- 前記アルミ箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化70のステップにおいて、その操作時間を5分に設定し、作用圧力を5ミリトル(mtorr)に設定し、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも1種であり、水素ガスが選定された時、その流量を5sccm(standard−state cubic centimeter per minute,立方センチメートル毎分)に設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を20sccmに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を20sccmに設定することを特徴とする、請求項15に記載のソフトパック電池の正極耳の製造方法。
- 前記不動態化金属膜のめっき80のステップにおいて、さらにスパッタリング環境下に水素ガスとアルゴンガスとを同時に加え、前記水素ガスの流量を5sccmに設定して、アルゴンガスの流量を20sccmに設定することを特徴とする、請求項16に記載のソフトパック電池の正極耳の製造方法。
- 前記不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化90のステップにおいて、その操作時間を1分30秒に設定して、作用圧力を2ミリトル(mtorr)に設定し、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも1種であり、水素ガスが選定された時、その流量を5sccmに設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を20sccmに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を20sccmに設定することを特徴とする、請求項17に記載のソフトパック電池の正極耳の製造方法。
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