JP6630789B2 - サラシノールの製造に有用な化合物およびそれらの製造法、サラシノールの製造法、ジオール基の保護方法および脱保護方法、並びにジオール基の保護剤 - Google Patents
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Description
特許文献3には、ベンジリデン基で保護された環状硫酸エステルにベンジル基で保護されたチオアラビニトール誘導体を反応させる製造法が記載されている。
特許文献4は、イソプロピリデン基で保護された環状硫酸エステルにチオ−D−アラビニトールを反応させる製造法が記載されている。
保護基は、対象とする官能基を安定に保護するだけでなく、必要に応じて、容易に除去されることが必要である。そのため、特定の官能基に結合した保護基のみを、適当な条件で脱保護することは、有機合成において重要である。
たとえば、アミノ基、ヒドロキシ基またはカルボキシ基の保護基として、種々の保護基が開発されている(非特許文献2)。また、1,2−ジオール基または1,3−ジオール基(以下、「ジオール基」と称することもある。)の保護基として、環状アセタール、環状ケタールおよび環状オルトエステルなどが知られている。
ジオール基の保護基として、アルコキシカルボニルエチリデン基が知られている(非特許文献3)。
一方、p−トルエンスルホン酸の存在下、2−(ヒドロキシメチル)ヘプタノールにエトキシメチレンマロン酸ジエチルを反応させ、2−(5−ペンチル−1,3−ジオキサン−2−イル)マロン酸ジエチルを製造する方法が知られている(特許文献5)。
特許文献3に記載の方法は、(1)反応溶媒として、人体に対して有害であり、環境負荷が大きいヘキサフルオロイソプロパノールを使用する、などの欠点を有する。この方法は、満足できるものではない。
特許文献4に記載の方法は、(1)収率が低い、(2)反応時間が長い、などの欠点を有する。この方法は、満足できるものではない。
また、非特許文献3にも記載の通り、たとえば、塩基の存在下、アルコキシカルボニルエチリデン基によってジオール基を保護することができる。しかし、脱保護反応は、(1)過剰の塩基が必要である、(2)加熱が必要である、などの欠点を有する。また、ヒドロキシ基の保護基に比べ、ジオール基の保護基の種類は少ない。
さらに、特許文献5において、得られた2−(5−ペンチル−1,3−ジオキサン−2−イル)マロン酸ジエチルは、引き続き、還元され、他の化合物に誘導される。この方法の目的は、ジオール基の保護ではない。
また、本発明の課題は、サラシノールの製造などに有用な、ジオール基の保護方法、保護剤および脱保護方法を提供することである。
[1] 一般式(1)
本発明において、特にことわらない限り、%は、質量百分率を意味する。
本発明において、特にことわらない限り、各用語は、次の意味を有する。
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を意味する。
C1−3アルキル基とは、メチル、エチル、プロピルまたはイソプロピル基を意味する。
C1−6アルキル基とは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチルおよびヘキシル基などの直鎖状または分岐状のC1−6アルキル基を意味する。
C2−6アルケニル基とは、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、1,3−ブタジエニル、ペンテニルおよびヘキセニル基などの直鎖状または分岐鎖状のC2−6アルケニル基を意味する。
アリール基とは、フェニルまたはナフチル基などを意味する。
アルC1−6アルキル基とは、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル、フェネチルおよびナフチルメチル基などのアルC1−6アルキル基を意味する。
C1−6アルコキシC1−6アルキル基とは、メトキシメチルおよび1−エトキシエチル基などのC1−6アルコキシC1−6アルキル基を意味する。
アロイル基とは、ベンゾイルまたはナフトイル基などを意味する。
アシル基とは、ホルミル基、C2−6アルカノイル基またはアロイル基などを意味する。
アリールオキシカルボニル基とは、フェニルオキシカルボニルまたはナフチルオキシカルボニル基などを意味する。
ジ(C1−6アルキル)アミノ基とは、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジ(tert−ブチル)アミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ、(エチル)(メチル)アミノおよび(メチル)(プロピル)アミノ基などの直鎖状または分岐鎖状のジ(C1−6アルキル)アミノ基を意味する。
C1−3アルキルスルホニル基とは、メチルスルホニルおよびエチルスルホニル基などのC1−3アルキルスルホニル基を意味する。
C1−6アルキルスルホニル基とは、メチルスルホニル、エチルスルホニルおよびプロピルスルホニル基などのC1−6アルキルスルホニル基を意味する。
アリールスルホニル基とは、ベンゼンスルホニル、p−トルエンスルホニルまたはナフタレンスルホニル基などを意味する。
C1−6アルキルスルホニルオキシ基とは、メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシおよびプロピルスルホニルオキシ基などのC1−6アルキルスルホニルオキシ基を意味する。
アリールスルホニルオキシ基とは、ベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシまたはナフタレンスルホニルオキシ基などを意味する。
単環の含酸素複素環式基とは、テトラヒドロフラニル、フラニル、テトラヒドロピラニルまたはピラニル基などを意味する。
単環の含硫黄複素環式基とは、チエニル基などを意味する。
単環の含窒素・酸素複素環式基とは、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オイサジアゾリルおよびモルホリニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および酸素原子のみを含む単環の含窒素・酸素複素環式基を意味する。
単環の含窒素・硫黄複素環式基とは、チアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、チオモルホリニル、1−オキシドチオモルホリニルおよび1,1−ジオキシドチオモルホリニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子のみを含む単環の含窒素・硫黄複素環式基を意味する。
単環の複素環式基とは、単環の含窒素複素環式基、単環の含酸素複素環式基、単環の含硫黄複素環式基、単環の含窒素・酸素複素環式基または単環の含窒素・硫黄複素環式基などを意味する。
二環式の含酸素複素環式基とは、2,3−ジヒドロベンゾフラニル、ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、1,3−ベンゾジオキサニルおよび1,4−ベンゾジオキサニル基などの該環を形成する異項原子として酸素原子のみを含む二環式の含酸素複素環式基を意味する。
二環式の含硫黄複素環式基とは、2,3−ジヒドロベンゾチエニルおよびベンゾチエニル基などの該環を形成する異項原子として硫黄原子のみを含む二環式の含硫黄複素環式基を意味する。
二環式の含窒素・酸素複素環式基とは、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾモルホリニル、ジヒドロピラノピリジル、ジヒドロジオキシノピリジルおよびジヒドロピリドオキサジニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および酸素原子のみを含む二環式の含窒素・酸素複素環式基を意味する。
二環式の含窒素・硫黄複素環式基とは、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリルおよびベンゾチアジアゾリル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子のみを含む二環式の含窒素・硫黄複素環式基を意味する。
二環式の複素環式基とは、二環式の含窒素複素環式基、二環式の含酸素複素環式基、二環式の含硫黄複素環式基、二環式の含窒素・酸素複素環式基または二環式の含窒素・硫黄複素環式基などを意味する。
複素環式基とは、単環の複素環式基または二環式の複素環式基を意味する。
C5−8シクロアルキル環とは、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタンまたはシクロオクタン環を意味する。
非芳香族含酸素複素環とは、オキセタン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,3−ジオキサンおよび1,4−ジオキサン環などの該環を形成する異項原子として酸素原子のみを含む非芳香族含酸素複素環を意味する。
非芳香族含硫黄複素環とは、テトラヒドロチオフェン環などを意味する。
非芳香族含窒素・酸素複素環とは、モルホリンおよびオキサゼパン環などの該環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子のみを含む非芳香族含窒素・酸素複素環を意味する。
非芳香族含窒素・硫黄複素環とは、チオモルホリン環などを意味する。
非芳香族複素環とは、非芳香族含窒素複素環、非芳香族含酸素複素環、非芳香族含硫黄複素環、非芳香族含窒素・酸素複素環または非芳香族含窒素・硫黄複素環を意味する。
具体例としては、C1−6アルキル基、C2−6アルケニル基、アルC1−6アルキル基、C1−6アルコキシ基、アシル基、C1−6アルコキシカルボニル基、C1−6アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基またはシリル基などが挙げられる。これらの基は、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
具体例としては、アルC1−6アルキル基、C1−6アルコキシC1−6アルキル基、C1−6アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、C1−6アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはシリル基などがあげあれる。これらの基は、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
具体例としては、C1−6アルキル基、C2−6アルケニル基、アリール基、アルC1−6アルキル基、C1−6アルコキシ基またはシリル基などが挙げられる。これらの基は、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
置換基群A:ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいヒドロキシ基、保護されてもよいカルボキシ基、置換基群Bから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルキル基、置換基群Bから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Bから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルコキシ基、置換基群Bから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルキルアミノ基、置換基群Bから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいジ(C1−6アルキル)アミノ基、置換基群Bから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルキルチオ基。
ハロゲン化炭化水素類としては、塩化メチレン、クロロホルムまたは1,2−ジクロロエタンなどが挙げられる。
アルコール類としては、メタノール、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、ブタノールまたは2−メチル−2−プロパノールなどが挙げられる。
エーテル類としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルまたはジエチレングリコールジエチルエーテルなどが挙げられる。
エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピルまたは酢酸ブチルなどが挙げられる。
ケトン類としては、アセトン、2−ブタノンまたは4−メチル−2−ペンタノンなどが挙げられる。
ニトリル類としては、アセトニトリルなどが挙げられる。
アミド類としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドまたはN−メチルピロリドンなどが挙げられる。
スルホキシド類としては、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。
芳香族炭化水素類としては、ベンゼン、トルエンまたはキシレンなどが挙げられる。
尿素類としては、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンなどが挙げられる。
有機酸としては、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フタル酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸またはカンファースルホン酸などを意味する。
酸とは、無機酸または有機酸を意味する。
無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウム、tert−ブトキシカリウム、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシドまたは水素化ナトリウムなどを意味する。
有機塩基としては、プロピルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、2,6−ルチジン、4−ジメチルアミノピリジン、水酸化テトラエチルアンモニウム、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン、グアニジン、N−メチルイミダゾール、モルホリンまたはN−メチルモルホリンなどが挙げられる。
塩基とは、無機塩基または有機塩基を意味する。
R6のC1−6アルキル基は、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
R7のC1−3アルキル基は、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
R9のアシル基は、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
R1aおよびR1bのカルボキシ保護基としては、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルキル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC2−6アルケニル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルC1−6アルキル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルキル基または置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基が好ましく、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルキル基がより好ましく、C1−6アルキル基がさらに好ましく、C1−3アルキル基が特に好ましくい。
R4a、R4bおよびR4cが、水素原子、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルキル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC2−6アルケニル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルC1−6アルキル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルキル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルコキシカルボニル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルキルスルホニル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールスルホニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基または置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基である化合物が好ましく、水素原子、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルC1−6アルキル基または置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基である化合物がより好ましく、水素原子またはアシル基である化合物がさらに好ましく、水素原子である化合物が特に好ましい。
R1aおよびR1bが、カルボキシ保護基である化合物を用いる製造法が好ましい。
R1aおよびR1bのカルボキシ保護基としては、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルキル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC2−6アルケニル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルC1−6アルキル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルキル基または置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基が好ましく、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルキル基がより好ましく、C1−6アルキル基がさらに好ましく、C1−3アルキル基が特に好ましくい。
一般式(9)で表される化合物としては、たとえば、メトキシメチレンマロン酸ジメチルが知られている。
一般式(1c)で表される化合物は、塩基の存在下、一般式(8)で表される化合物を一般式(9)で表される化合物と反応させることにより、製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、エーテル類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(8)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。
塩基の使用量は、一般式(8)で表される化合物に対して0.01〜5倍モル、好ましくは、0.02〜2倍モル、より好ましくは、0.03〜1倍モルである。
反応時間は、5分間〜50時間であればよく、5分間〜24時間が好ましく、5分間〜6時間がより好ましい。
一般式(1d)で表される化合物は、一般式(1c)で表される化合物を脱保護反応させることにより、製造することができる。
脱保護反応としては、たとえば、W.グリーン(W.Greene)ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス(Protective Groups in Organic Synthesis)第4版、第299〜366頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社(John Wiley & Sons,INC.)に記載の方法などが挙げられる。
具体的には、たとえば、触媒を用いる水素添加反応および酸を用いる加水分解反応などが挙げられる。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、アルコール類およびエステル類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(1c)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。
触媒の使用量は、一般式(1c)で表される化合物に対して0.001〜10%、好ましくは、0.01〜0.2%、より好ましくは、0.05〜0.1%である。
反応時間は、5分間〜50時間であればよく、5分間〜24時間が好ましく、5分間〜6時間がより好ましい。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、ニトリル類および水が挙げられ、アルコール類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(1c)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。
この反応に使用される酸としては、無機酸および有機酸が挙げられ、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸およびp−トルエンスルホン酸が好ましい。
酸の使用量は、一般式(1c)で表される化合物に対して、0.001〜2倍モル、好ましくは、0.005〜1.5倍モル、より好ましくは、0.01〜1倍モルである。
反応時間は、5分間〜50時間であればよく、5分間〜24時間が好ましく、5分間〜6時間がより好ましい。
さらに、一般式(19)で表されるジオール基の保護基は、一般式(A)で表されるジオール基の保護基を脱保護する工程(たとえば、触媒を用いる水素添加反応および酸の存在下の加水分解反応)において、安定である。
ジオール基の保護基として、一般式(19)で表される基を用いることにより、分子内に2以上のジオール基が存在する場合においても、選択的にジオール基の保護および脱保護が可能になった。
一般式(1a)で表される化合物は、一般式(1d)で表される化合物を、塩基の存在下、硫黄含有化合物と反応させ、必要に応じて酸化反応させることにより、製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、ハロゲン化炭化水素類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられ、ハロゲン化炭化水素類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(1c)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。
塩基の使用量は、一般式(1d)で表される化合物に対して0.8〜5倍モル、好ましくは、1〜3倍モル、より好ましくは、1.2〜2倍モルである。
硫黄含有化合物の使用量は、一般式(1d)で表される化合物に対して0.8〜5倍モル、好ましくは、0.9〜3倍モル、より好ましくは、1〜2倍モルである。
反応時間は、5分間〜50時間であればよく、5分間〜24時間が好ましく、5分間〜6時間がより好ましい。
酸化反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、ハロゲン化炭化水素類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられ、ハロゲン化炭化水素類およびニトリル類がより好ましい。
酸化反応に用いられる酸化剤としては、特に限定されないが、過マンガン酸カリウム、四酸化ルテニウムおよび塩化ルテニウム(III)−過ヨウ素酸ナトリウムなどが好ましい。
酸化剤の使用量は、一般式(1d)で表される化合物に対して0.005〜0.2倍モル、好ましくは、0.01〜0.1倍モル、より好ましくは、0.02〜0.05倍モルである。
反応時間は、5分間〜50時間であればよく、5分間〜24時間が好ましく、5分間〜6時間がより好ましい。
一般式(7)で表される化合物として、たとえば、(2R,4S)−2−(ヒドロキシメチル)テトラヒドロチオフェン−3,4−ジオールが知られている。
一般式(1b)で表される化合物は、塩基の存在下、一般式(1a)で表される化合物を一般式(7)で表される化合物と反応させることにより、製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、ケトン類、ニトリル類およびスルホキシド類が挙げられ、ケトン類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(1a)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。
塩基の使用量は、一般式(1a)で表される化合物に対して0.01〜5倍モル、好ましくは、0.02〜2倍モル、より好ましくは、0.03〜1倍モルである。
反応時間は、5分間〜72時間であればよく、30分間〜50時間が好ましく、1時間〜24時間がより好ましい。
サラシノールは、塩基の存在下、一般式(1b)で表される化合物を脱保護反応させることにより、製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類および水が挙げられ、アルコール類、エーテル類、エステル類および水がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(1b)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。
塩基の使用量は、一般式(1b)で表される化合物に対して0.1〜5倍モル、好ましくは、0.5〜2倍モル、より好ましくは、0.8〜1.5倍モルである。
反応時間は、5分間〜72時間であればよく、30分間〜50時間が好ましく、1時間〜24時間がより好ましい。
ジオール基の保護基として、一般式(19)で表される基を用いることにより、分子内に2以上のジオール基が存在する場合においても、選択的にジオール基の保護および脱保護が可能になった。
一般式(13)で表される化合物としては、たとえば、(2R,3S,4S)−2−(ヒドロキシメチル)−5−メトキシテトラヒドロフラン−3,4−ジオールが知られている。また、一般式(13)で表される化合物は、系内で調製してもよい。
一般式(14)で表される化合物としては、たとえば、p−トルエンスルホニルクロリドが知られている。
一般式(15)で表される化合物は、一般式(13)で表される化合物を、塩基の存在下で、一般式(14)で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、ニトリル類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(13)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。
塩基の使用量は、一般式(13)で表される化合物に対して2.7〜10倍モル、好ましくは、2.8〜6倍モル、より好ましくは、2.9〜4倍モルである。
反応時間は、30分間〜24時間であればよく、1時間〜12時間が好ましく、1.5時間〜8時間がより好ましい。
一般式(16)で表される化合物としては、たとえば、チオ酢酸S−カリウムが知られている。
一般式(17)で表される化合物は、一般式(15)で表される化合物を、一般式(16)で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、アミド類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(15)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。
反応時間は、30分間〜24時間であればよく、1時間〜18時間が好ましく、1.5時間〜12時間がより好ましい。
一般式(18)で表される化合物は、一般式(17)で表される化合物を塩基と反応させることにより製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類およびスルホキシド類が挙げられ、アルコール類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(17)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。
塩基の使用量は、一般式(17)で表される化合物に対して0.9〜5倍モル、好ましくは、0.95〜3倍モル、より好ましくは、1〜2倍モルである。
反応時間は、30分間〜12時間であればよく、1時間〜8時間が好ましく、1.5時間〜4時間がより好ましい。
一般式[18]で表される化合物は、単離して次の反応に用いてもよいが、単離せずにそのまま次の反応に用いることが好ましい。
一般式(10)で表される化合物は、一般式(18)で表される化合物を脱保護反応させることにより製造することができる。
脱保護反応としては、たとえば、W.グリーン(W.Greene)ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス(Protective Groups in Organic Synthesis)第4版、第272〜279頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社(John Wiley & Sons,INC.)に記載の方法などが挙げられる。
具体的には、たとえば、塩基を用いる加水分解反応などが挙げられる。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類および水が挙げられ、アルコール類および水の混合溶媒がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(18)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。
塩基の使用量は、一般式(18)で表される化合物に対して1〜20倍モル、好ましくは、1〜15倍モル、より好ましくは、1〜10倍モルである。
反応時間は、10分間〜12時間であればよく、20分間〜8時間が好ましく、30分間〜4時間がより好ましい。
一般式(11)で表される化合物としては、たとえば、p−トルオイルクロリドが知られている。
一般式(12)で表される化合物は、一般式(10)で表される化合物を、塩基の存在下、一般式(11)で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類および芳香族炭化水素類が挙げられ、エステル類および芳香族炭化水素類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(10)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。
塩基の使用量は、一般式(10)で表される化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜5倍モル、より好ましくは、1〜3倍モルである。
反応時間は、30分間〜12時間であればよく、1時間〜8時間が好ましく、1.5時間〜4時間がより好ましい。
一般式(7a)で表される化合物は、一般式(12)で表される化合物を、酸と反応させた後、還元反応させることにより製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類および水が挙げられ、エーテル類および水の混合溶媒がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(12)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。
酸の使用量は、一般式(12)で表される化合物に対して1〜5倍モル、好ましくは、1〜3倍モル、より好ましくは、1〜2倍モルである。
好ましい還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウムが挙げられる。水素化ホウ素ナトリウムの固体または水素化ホウ素ナトリウムの溶液を使用することができる。
還元剤の使用量は、一般式(12)で表される化合物に対して1〜5倍モル、好ましくは、1〜4倍モル、より好ましくは、1〜3倍モルである。
酸との反応の時間は、10分間〜12時間であればよく、20分間〜8時間が好ましく、30分間〜4時間がより好ましい。
還元反応の時間は、10分間〜12時間であればよく、20分間〜8時間が好ましく、30分間〜4時間がより好ましい。
式(7b)で表される化合物は、一般式(7a)で表される化合物を脱保護反応させることにより製造することができる。
脱保護反応としては、たとえば、W.グリーン(W.Greene)ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス(Protective Groups in Organic Synthesis)第4版、第255〜265頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社(John Wiley & Sons,INC.)に記載の方法などが挙げられる。
具体的には、たとえば、塩基を用いる加水分解反応が挙げられる。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類および水が挙げられ、アルコール類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(7a)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。
塩基の使用量は、一般式(7a)で表される化合物に対して0.001〜3倍モル、好ましくは、0.005〜1倍モル、より好ましくは、0.01〜0.5倍モルである。
反応時間は、10分間〜24時間であればよく、20分間〜12時間が好ましく、30分間〜8時間がより好ましい。
具体的には、一般式(20)で表される化合物に、塩基の存在下、一般式(9)で表される化合物を反応させ、一般式(21)で表される化合物を製造することにより、ジオール基を保護することができる。即ち、一般式(9)で表される化合物は、1,2−ジオール基または1,3−ジオール基の保護剤として有用である。
好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、エーテル類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(20)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。
具体的には、一般式(20)で表される化合物は、たとえば、一般式(20a)
RAおよびRBが、それらが結合する炭素原子と一緒になって、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC5−8シクロアルキル環または置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい非芳香族複素環である化合物が好ましい。
R1aおよびR1bが、カルボキシ保護基である化合物が好ましい。
R1aおよびR1bのカルボキシ保護基としては、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルキル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC2−6アルケニル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルC1−6アルキル基、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルコキシC1−6アルキル基または置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基が好ましく、置換基群Aから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルキル基がより好ましく、C1−6アルキル基がさらに好ましく、C1−3アルキル基が特に好ましくい。
R6が、置換基群Bから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいC1−6アルキル基である化合物が好ましく、C1−6アルキル基である化合物がより好ましく、C1−3アルキル基である化合物がさらに好ましい。
一般式(9)で表される化合物の使用量は、一般式(20)で表される化合物に対して、1.0〜2.0倍モル、好ましくは、1.0〜1.5倍モル、より好ましくは、1.0〜1.2倍モルである。
塩基の使用量は、一般式(20)で表される化合物に対して、0.01〜5倍モル、好ましくは、0.02〜2倍モル、より好ましくは、0.03〜1倍モルである。
反応時間は、5分間〜50時間であればよく、5分間〜24時間が好ましく、5分間〜6時間がより好ましい。
具体的には、一般式(21)で表される化合物に、塩基を反応させ、一般式(20)で表される化合物を製造することにより、保護されたジオール基を脱保護することができる。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類および水が挙げられ、アルコール類、エーテル類、エステル類および水がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(21)で表される化合物に対して、1〜50倍量(v/w)であればよく、1〜15倍量(v/w)が好ましい。
塩基の使用量は、一般式(21)で表される化合物に対して0.1〜5倍モル、好ましくは、0.5〜2倍モル、より好ましくは、0.8〜1.5倍モルである。
反応時間は、5分間〜72時間であればよく、30分間〜50時間が好ましく、1時間〜24時間がより好ましい。
ジオール基の保護基として、一般式(19)で表される基を用いることにより、分子内に2以上のジオール基が存在する場合においても、選択的にジオール基の保護および脱保護が可能になった。
上記の製造法によって得られる化合物に、結晶多形、水和物または溶媒和物が存在する場合、本発明は、すべての結晶形、水和物または溶媒和物を使用することができる。
溶離液における混合比は、容量比である。たとえば、「ヘキサン/酢酸エチル=90/10〜50/50」は、90%ヘキサン/10%酢酸エチルの溶離液を最終的に50%ヘキサン/50%酢酸エチルの溶離液へ変化させたことを意味する。
Ac:アセチル
Bn:ベンジル
Et:エチル
Me:メチル
Ph:フェニル
PMB:4−メトキシベンジル
Tol:p−トルオイル
Ts:4−メチルベンゼンスルホニル
DMSO−D6:重ジメチルスルホキシド
pyridine−D5:重ピリジン
HPLC:高速液体クロマトグラフィー
1H-NMR(CDCl3)δ値:2.90(1H,dd,J=4.8,11.4Hz),3.04(1H,dd,J=5.0,11.4Hz),3.47-3.59(2H,m),3.69(1H,t,J=7.8Hz),4.10-4.21(2H,m),4.45-4.61(6H,m),7.25-7.35(15H,m)
1H-NMR(CDCl3)δ値:2.86(1H,dd,J=4.8,11.4Hz),3.03(1H,dd,J=5.2,11.4Hz),3.42-3.52(2H,m),3.64(1H,dd,J=7.2,8.1Hz),3.79-3.81(9H,m),4.03-4.16(2H,m),4.39-4.52(6H,m),6.84-6.87(6H,m),7.18-7.25(6H,m)
1H-NMR(CDCl3)δ値:3.75-3.81(11H,m),4.23-4.31(2H,m),5.30(1H,d,J=7.8Hz),5.60(1H,s),7.35-7.39(3H,m),7.44-7.50(2H,m)
1H-NMR(CDCl3)δ値:2.40(1H,s),2.70(1H,s),3.44-3.56(2H,m),3.68(1H,d,J=7.2Hz),3.76-3.85(9H,m),4.11-4.21(1H,m),5.15(1H,d,J=7.2Hz)
得られた残留物の塩化メチレン265mLおよびアセトニトリル265mL混合溶液を、過ヨウ素酸ナトリウム159gおよび塩化ルテニウム(III)n水和物1.25gの水530mL溶液に、0℃で滴下し、20分攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、水、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムおよびシリカゲルを加え、5分攪拌した。不溶物を濾去した後、溶媒を減圧留去し、得られた残留物をメタノールおよび水から再結晶し、白色固体のジメチル 2−((4aR,8aS)−2,2−ジオキシドテトラヒドロ[1,3]ジオキシノ[5,4−d][1,3,2]ジオキサチイン−6−イル)マロナート42.3gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値:3.70(1H,d,J=7.8Hz),3.77(3H,s),3.78(3H,s),3.82(1H,d,J=10.5Hz),4.01-4.11(1H,m),4.31(1H,dd,J=5.0,10.5Hz),4.56(1H,dd,J=5.0,10.5Hz),4.54-4.75(2H,m),5.27(1H,d,J=7.8Hz)
1H-NMRおよびHPLCを測定した結果、トランス/シス比は78/22であった。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値:3.56-3.63(2H,m),3.62-3.73(8H,m),3.42-4.08(6H,m),4.14(1H,dd,J=5.3,10.2Hz),4.22-4.29(2H,m),4.47-4.53(1H,m),5.21(1H,d,J=7.5Hz),5.57(2H,s),6.13(2H,m)
(4S,5S)−4−(((2R,3S,4S)−3,4−ジヒドロキシ−2−(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ−1H−チオフェン−1−イウム−1−イル)メチル−2−(1,3−ジメトキシ−1,3−ジオキソプロパン−2−イル)−1,3−ジオキサン−5−イル サルファート(トランス/シス=78/22)2.90gの水14.5mLおよび酢酸エチル14.5mL混合溶液に、25℃でジエチルアミン756μLを加え、25℃で50分攪拌した。水層を分取し、酢酸エチルで洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をメタノールから再結晶し、白色固体の(2S,3S)−4−((1S,2R,3S,4S)−3,4−ジヒドロキシ−2−(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ−1H−チオフェン−1−イウム−1−イル)−1,3−ジヒドロキシブタン−2−イル サルファート(サラシノール)1.05gを得た。
1H-NMR(pyridine-D5)δ値:4.32-4.39(3H,m),4.51-4.66(5H,m),4.75-4.82(1H,m),4.91-5.05(1H,m),5.09-5.14(2H,m),5.23-5.27(1H,m)
(4S,5S)−4−(((2R,3S,4S)−3,4−ジヒドロキシ−2−(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ−1H−チオフェン−1−イウム−1−イル)メチル−2−(1,3−ジメトキシ−1,3−ジオキソプロパン−2−イル)−1,3−ジオキサン−5−イル サルファート(トランス/シス=78/22)500mgの水2.5mLおよびメタノール2.5mL混合溶液に、25℃でトリエチルアミン220μLを加え、25℃で5時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えた。水層を分取し、酢酸エチルで洗浄し、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物のHPLCを測定した結果、サラシノールの生成が確認され、反応率は97%であった。
(4S,5S)−4−(((2R,3S,4S)−3,4−ジヒドロキシ−2−(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ−1H−チオフェン−1−イウム−1−イル)メチル−2−(1,3−ジメトキシ−1,3−ジオキソプロパン−2−イル)−1,3−ジオキサン−5−イル サルファート(トランス/シス=78/22)500mgの水2.5mLおよびトルエン2.5mL混合溶液に、25℃でプロピルアミン220μLを加え、25℃で1時間攪拌した。反応混合物にトルエンを加えた。水層を分取し、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物のHPLCを測定した結果、サラシノールの生成が確認され、反応率は96%であった。
(4S,5S)−4−(((2R,3S,4S)−3,4−ジヒドロキシ−2−(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ−1H−チオフェン−1−イウム−1−イル)メチル−2−(1,3−ジメトキシ−1,3−ジオキソプロパン−2−イル)−1,3−ジオキサン−5−イル サルファート(トランス/シス=78/22)500mgの水2.5mLおよびトルエン2.5mL混合溶液に、25℃でジブチルアミン212μLを加え、25℃で4時間攪拌した。反応混合物にトルエンを加えた。水層を分取し、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物のHPLCを測定した結果、サラシノールの生成が確認され、反応率は85%であった。
(4S,5S)−4−(((2R,3S,4S)−3,4−ジヒドロキシ−2−(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ−1H−チオフェン−1−イウム−1−イル)メチル−2−(1,3−ジメトキシ−1,3−ジオキソプロパン−2−イル)−1,3−ジオキサン−5−イル サルファート(トランス/シス=78/22)1gの水10mL溶液を70℃で8時間攪拌した後、溶媒を減圧留去した。得られた油状物の水5mLおよびメタノール5mL混合溶液に、25℃でピリジン203μLおよびアニリン287μLを加え、50℃で13時間攪拌した。反応混合物にトルエンを加えた。水層を分取し、酢酸エチルで洗浄し、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物をメタノールから再結晶し、白色固体のサラシノール485mgを得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値:3.56-3.66(7H,m),3.72-3.76(2H,m),3.88-4.16(7H,m),4.24-4.38(2H,m),4.51-4.64(7H,m),4.76-4.79(1H,m),5.17(1H,d,J=7.2Hz),7.33-7.37(15H,m)
1H-NMR(DMSO-D6)δ値:3.61-3.65(2H,m),3.74-4.05(6H,m),4.09-4.14(1H,m),4.17-4.23(1H,m),4.36-4.41(1H,m),4.50-4.80(9H,m)6.01(1H,d,J=6.0Hz),7.23-7.39(15H,m)
1H-NMRおよびHPLCを測定した結果、原料の消失およびサラシノールの生成が確認された。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値:3.52-4.17(25H,m),4.21-4.28(2H,m),4.41-4.58(7H,m),4.64-4.69(1H,m),5.16(1H,d,J=7.5Hz),6.88-6.93(6H,m),7.16-7.28(6H,m)
1H-NMR(DMSO-D6)δ値:3.49-3.99(17H,m),4.06-4.21(2H,m),4.28-4.31(1H,m),4.38-4.66(8H,m),4.76-4.79(1H,m),6.00(1H,d,J=6.0Hz),6.30-6.93(6H,m),7.16-7.28(6H,m)
1H-NMRおよびHPLCを測定した結果、原料の消失およびサラシノールの生成が確認された。
1H-NMR(CDCl3)δ値:1.24-1.31(6H,m),3.65(1H,d,J=7.8Hz),3.65-3.82(4H,m)4.19-4.27(6H,m),5.30(1H,d,J=7.8Hz),5.61(1H,s),7.35-7.39(3H,m),7.45-7.49(2H,m)
1H-NMR(CDCl3)δ値:1.24-1.30(6H,m),2.37(1H,s),2.75(1Hs),3.44-3.56(2H,m),3.63(1H,d,J=7.5Hz),3.78-3.86(3H,m),4.16-4.26(5H,m),5.15(1H,d,J=7.5Hz)
得られた残留物の塩化メチレン10mLおよびアセトニトリル10mL混合溶液を、過ヨウ素酸ナトリウム6.64gおよび塩化ルテニウム(III)n水和物52.2mgの水25mL溶液に、0℃で滴下し、20分攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、水、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムおよびシリカゲルを加え、5分攪拌した。不溶物を濾去した後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=84/16〜60/40)で精製し、白色固体のジエチル 2−((4aR,8aS)−2,2−ジオキシドテトラヒドロ[1,3]ジオキシノ[5,4−d][1,3,2]ジオキサチイン−6−イル)マロナート2.10gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値:1.25-1.30(6H,m),3.65(1H,d,J=7.8Hz),3.80(1H,dd,J=10.5,10.5Hz),4.02-4.11(1H,m),4.18-4.35(5H,m),4.52-4.57(1H,m),4.63-4.72(2H,m),5.26(1H,d,J=7.8Hz)
1H-NMRを測定した結果、トランス/シス比は81/19であった。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値:1.19(6H,dd,J=7.0,13.6Hz),3.54-4.21(17H,m),4.45-4.51(1H,m),5.20(1H,m),5.68-5.71(1H,m),6.12-6.14(2H,m)
得られた残留物の1H-NMRおよびHPLCを測定した結果、サラシノールの生成が確認され、反応率は、97%であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値:7.77-7.64(6H,m),7.41-7.32(6H,m),5.04(0.26H,t,J=6.9Hz),4.79(0.74H,dd,J=1.2,6.0Hz),4.80-4.65(2H,m),4.43(0.74H,m),4.34(0.26H,m),4.25-4.19(0.26H,m),4.12-4.04(1.74H,m),3.21(0.78H,s),3.16(2.22H,s),2.48-2.45(3H,m).
1H-NMR(CDCl3)δ値:7.79-7.69(4H,m),7.40-7.32(4H,m),5.04-4.75(3H,m),4.33-4.26(1H,m),3.24(2.13H,s),3.22(0.87H,s),3.19-2.98(2H,m),2.75-2.45(6H,m),2.31(0.87H,s),2.29(2.13H,s).
得られた(1S,4S,7S)−3−メトキシ−2−オキサ−5−チアビシクロ[2.2.1]ヘプタン−7−オールに、トルエン213mL、テトラブチルアンモニウムクロリド1.82gおよび50%水酸化ナトリウム水溶液70.4gを加えた。混合物を10℃に冷却し、攪拌した後、p−トルエンスルホニルクロリド37.1gを、内温15℃以下を保ちながら滴下した。混合物を25℃に昇温し、水およびトルエンを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物にトルエンおよび水を加えた。有機層を分取し、25%塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、活性炭3gで処理した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去し、橙色油状物の(1S,4S,7S)−3−メトキシ−2−オキサ−5−チアビシクロ[2.2.1]ヘプタン−7−イル 4−メチルベンゾアート38.6gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値:7.94-7.89(2H,m),7.27-7.22(2H,m),5.58(0.37H,t)5.43(0.63H,t),5.34(0.63H,d,J=2.4Hz),4.97(0.37H,s),4.74-4.71(0.37H,m),4.67-4.65(0.63H,m),3.81(0.63H,t,J=2.4Hz),3.59(0.37H,d,J=2.4Hz),3.54(1.89H,s),3.40(1.11H,s),3.09(1.26H,d,J=1.5Hz)3.02-2.91(0.74H,m),2.41(3H,s).
1H-NMR(CDCl3)δ値:7.90(2H,d,J=7.8Hz),7.25(2H,d,J=7.8Hz),5.37(1H,t,J=2.7Hz),4.55-4.47(1H,m),4.15-4.06(1H,m),4.03-3.97(1H,m),3.79-3.73(1H,m),3.69-3.66(1H,m),3.34-3.28(1H,m),3.08-3.02(1H,m),2.91(1H,br),2.42(3H,s).
1H-NMR(DMSO-D6)δ値:5.12(1H,d,J=4.5Hz),5.08(1H,d,J=4.5Hz),4.82(1H,t),3.99-3.92(1H,m),3.76-3.68(2H,m),3.39-3.31(1H,m),3.11-3.04(1H,m),2.91-2.84(1H,m),2.59-2.52(1H,m).
1H-NMR(CDCl3)δ値:
7.39-7.33(5H,m),5.90(0.5H,d,J=6.9Hz),5.73(0.5H,d,J=6.9Hz),5.11(1H,m),4.44-4.25(1H,m),3.80-3.78(6H,m),3.77-3.72(2H,m).
ジメチル 2−(4−フェニル−1,3−ジオキソラン−2−イル)マロナート280mgの酢酸エチル2mLおよび水2mL溶液に、25℃でジエチルアミン146mgを加え、25℃で2時間攪拌した。有機層を分取し、水、1mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物の1H-NMRを測定した結果、1−フェニルエタン−1,2−ジオールの生成が確認され、反応率は96%であった。
ジメチル 2−(4−フェニル−1,3−ジオキソラン−2−イル)マロナート280mgのメタノール2mL溶液に、25℃で28%ナトリウムメトキシド/メタノール溶液232mgを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、水、1mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物の1H-NMRを測定した結果、1−フェニルエタン−1,2−ジオールの生成が確認され、反応率は100%であった。
ジメチル 2−(4−フェニル−1,3−ジオキソラン−2−イル)マロナート280mgのメタノール2mL溶液に、25℃で炭酸カリウム166mgを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、水、1mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物の1H-NMRを測定した結果、1−フェニルエタン−1,2−ジオールの生成が確認され、反応率は93%であった。
ジメチル 2−(4−フェニル−1,3−ジオキソラン−2−イル)マロナート280mgのメタノール2mL溶液に、25℃で炭酸水素ナトリウム100mgを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、水、1mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物の1H-NMRを測定した結果、1−フェニルエタン−1,2−ジオールの生成が確認され、反応率は92%であった。
Claims (1)
- 一般式(21)
前記塩基が炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、プロピルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、2,6−ルチジン、4−ジメチルアミノピリジン、水酸化テトラエチルアンモニウム、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン、グアニジン又はモルホリンである、保護された1,2−ジオール基または1,3−ジオール基の脱保護方法。
置換基群A:
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、置換基群Bから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基群Bから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Bから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい炭素数1〜6のアルコキシ基、置換基群Bから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい炭素数1〜6のアルキルアミノ基、置換基群Bから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいジ(炭素数1〜6のアルキル)アミノ基、置換基群Bから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい炭素数1〜6のアルキルチオ基
置換基群B:
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子で置換されてもよいアリール基、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数1〜6のアルコキシ基
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