JP6268014B2 - サラシノールの製造に有用な化合物およびそれらの製造法、サラシノールの製造法、ジオール基の保護方法および脱保護方法、並びにジオール基の保護剤 - Google Patents

サラシノールの製造に有用な化合物およびそれらの製造法、サラシノールの製造法、ジオール基の保護方法および脱保護方法、並びにジオール基の保護剤 Download PDF

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Description

本発明は、サラシノールの製造に有用な化合物およびそれらの製造法に関する。さらに、本発明は、サラシノールの製造法、ジオール基の保護方法および脱保護方法、並びにジオール基の保護剤に関する。
インドの伝統医学ではサラシア属（Ｓａｌａｃｉａ）に属するツル性樹木であるサラシア・レティキュラータ（Ｓａｌａｃｉａ ｒｅｔｉｃｕｌａｔａ）が糖尿病の治療に用いられている。サラシノールは、サラシア・レティキュラータなどのサラシア属植物に含まれる成分であり、強いα−グルコシダーゼ阻害活性を有する（非特許文献１）。サラシノールは、たとえば、サラシア属植物の抽出物より得られる（特許文献１）。しかし、サラシア属植物は供給量が少なく、容易に入手することが難しい。そのため、サラシノールおよびその類縁体の合成による製造法が種々検討されている（特許文献２、３および４）。
特許文献２には、ベンジリデン基で保護された環状硫酸エステルにベンジル基で保護されたチオアラビニトール誘導体を反応させる製造法が記載されている。
特許文献３には、ベンジリデン基で保護された環状硫酸エステルにベンジル基で保護されたチオアラビニトール誘導体を反応させる製造法が記載されている。
特許文献４は、イソプロピリデン基で保護された環状硫酸エステルにチオ−Ｄ−アラビニトールを反応させる製造法が記載されている。
アミノ基、ヒドロキシ基またはカルボキシ基などの官能基を有する化合物を用いて有機合成を行う場合、その官能基が反応に影響を及ぼすことを防ぐために、通常、官能基を保護することが行われる。また、官能基が２以上ある場合、目的の官能基のみを選択的に反応させるため、他の官能基を保護することが行われる。
保護基は、対象とする官能基を安定に保護するだけでなく、必要に応じて、容易に除去されることが必要である。そのため、特定の官能基に結合した保護基のみを、適当な条件で脱保護することは、有機合成において重要である。
たとえば、アミノ基、ヒドロキシ基またはカルボキシ基の保護基として、種々の保護基が開発されている（非特許文献２）。また、１，２−ジオール基または１，３−ジオール基（以下、「ジオール基」と称することもある。）の保護基として、環状アセタール、環状ケタールおよび環状オルトエステルなどが知られている。
ジオール基の保護基として、アルコキシカルボニルエチリデン基が知られている（非特許文献３）。
一方、ｐ−トルエンスルホン酸の存在下、２−（ヒドロキシメチル）ヘプタノールにエトキシメチレンマロン酸ジエチルを反応させ、２−（５−ペンチル−１，３−ジオキサン−２−イル）マロン酸ジエチルを製造する方法が知られている（特許文献５）。
特許第３０３０００８号公報 特許第５０５３４９４号公報 特許第４９３９９３４号公報 特開２００２−１７９６７３号公報 ドイツ国特許ＤＥ１９５２５３１４号明細書
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ， Ｖｏｌ．３８， Ｎｏ．４８． ｐｐ．８３６７−８３７０（１９９７） Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，第４版，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，ＩＮＣ（２００７） Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．２， Ｎｏ．１８． ｐｐ．２８０９−２８１１（２０００）
特許文献２に記載の方法は、（１）収率が低い、（２）脱保護反応に水素添加反応を使用するため煩雑な操作が必要である、などの欠点を有する。この方法は、満足できるものではない。
特許文献３に記載の方法は、（１）反応溶媒として、人体に対して有害であり、環境負荷が大きいヘキサフルオロイソプロパノールを使用する、などの欠点を有する。この方法は、満足できるものではない。
特許文献４に記載の方法は、（１）収率が低い、（２）反応時間が長い、などの欠点を有する。この方法は、満足できるものではない。
また、非特許文献３にも記載の通り、たとえば、塩基の存在下、アルコキシカルボニルエチリデン基によってジオール基を保護することができる。しかし、脱保護反応は、（１）過剰の塩基が必要である、（２）加熱が必要である、などの欠点を有する。また、ヒドロキシ基の保護基に比べ、ジオール基の保護基の種類は少ない。
さらに、特許文献５において、得られた２−（５−ペンチル−１，３−ジオキサン−２−イル）マロン酸ジエチルは、引き続き、還元され、他の化合物に誘導される。この方法の目的は、ジオール基の保護ではない。
従来のサラシノールの製造法は、（１）収率が低い、（２）煩雑な操作が必要である、（３）人体に対して有害であり、環境負荷が大きい溶媒を使用する、（４）反応時間が長い、などの問題点を有する。そのため、サラシノールのさらに優れた工業的製造法が強く求められている。さらに、ジオール基の保護方法および脱保護方法が強く求められている。
本発明の課題は、サラシノールの製造に有用な新規化合物およびサラシノールの新規な製造法を提供することである。
また、本発明の課題は、サラシノールの製造などに有用な、ジオール基の保護方法、保護剤および脱保護方法を提供することである。
このような状況下において、本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、一般式（１）で表される化合物および一般式（７ａ）で表される化合物が、サラシノールの製造のための有用な中間体であることを見出した。さらに本発明者らは、一般式（１ａ）で表される化合物および一般式（７ａ）で表される化合物から、サラシノールを工業的に製造することができることを見出した。さらに本発明者らは、サラシノールの製造などに有用な、ジオール基の保護方法および脱保護方法を見出し、本発明を完成させた。
本発明は、下記を提供する。
［１］ 一般式（１）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａおよびＲ１ｂは、同一または異なって、水素原子またはカルボキシ保護基であり；Ｒ２は、ヒドロキシ基であり、且つ、Ｒ３は、ヒドロキシ基であるか；Ｒ２は、一般式（２）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂおよびＲ４ｃは、同一または異なって、水素原子またはヒドロキシ保護基であり；＊は、結合位置である。）で表される基であり、且つ、Ｒ３は、式（３）
Figure 0006268014
 （式中、＊は、前記と同様な意味を有する。）で表される基であるか；または、Ｒ２およびＲ３は、一緒になって、一般式（４）
Figure 0006268014
 （式中、Ｘ１は、一般式（５）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ５は、置換されてもよいアリール基であり；＊は、前記と同様な意味を有する。）で表される基または式（６）
Figure 0006268014
 （式中、＊は、前記と同様な意味を有する。）で表される基であり；＊は、前記と同様な意味を有する。）で表される基である。）で表される化合物。
［２］ Ｒ１ａおよびＲ１ｂが、同一または異なって、カルボキシ保護基である、［１］に記載の化合物。
［３］ Ｒ２およびＲ３が、ヒドロキシ基である、［１］または［２］に記載の化合物。
［４］ Ｒ２が、一般式（２）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ４ｃおよび＊は、前記と同様な意味を有する。）で表される基であり；Ｒ３が、式（３）
Figure 0006268014
 （式中、＊は、前記と同様な意味を有する。）で表される基である、［１］または［２］に記載の化合物。
［５］ Ｒ２およびＲ３が、一緒になって、一般式（４）
Figure 0006268014
 （式中、Ｘ１および＊は、前記と同様な意味を有する。）で表される基である、［１］または［２］に記載の化合物。
［６］ Ｒ５が、置換されてもよいフェニル基である［１］、［２］または［５］に記載の化合物。
［７］ 化合物が、ジメチル ２−（（４ａＳ，８ａＲ）−６−フェニルテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３］ジオキシン−２−イル）マロナート、ジメチル ２−（（４Ｒ，５Ｓ）−５−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）−１，３−ジオキサン−２−イル）マロナート、ジメチル ２−（（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン−６−イル）マロナート、（４Ｓ，５Ｓ）−４−（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル−２−（１，３−ジメトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート、（４Ｓ，５Ｓ）−４−（（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ビス（ベンジルオキシ）−２−（（ベンジルオキシ）メチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル）−２−（１，３−ジメトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート、（４Ｓ，５Ｓ）−４−（（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ビス（（４−メトキシベンジル）オキシ）−２−（（（４−メトキシベンジル）オキシ）メチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル）−２−（１，３−ジメトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート、ジエチル ２−（（４ａＳ，８ａＲ）−６−フェニルテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３］ジオキシン−２−イル）マロナート、ジエチル ２−（（４Ｒ，５Ｓ）−５−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）−１，３−ジオキサン−２−イル）マロナート、ジエチル ２−（（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン−６−イル）マロナートおよび（４Ｓ，５Ｓ）−２−（１，３−ジエトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−４−（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファートから選択される化合物である、［１］に記載の化合物。
［８］ 一般式（１ａ）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａおよびＲ１ｂは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を、一般式（７）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂおよびＲ４ｃは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式（１ｂ）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂおよびＲ４ｃは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ｂ）で表される化合物を脱保護反応させることを特徴とする、サラシノールの製造法。
［９］ Ｒ１ａおよびＲ１ｂが、カルボキシ保護基であり；Ｒ４ａ、Ｒ４ｂおよびＲ４ｃが、水素原子である、［８］に記載の製造法。
［１０］ 一般式（８）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ５は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を、一般式（９）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ６は、置換されてもよいＣ１−６アルキル基であり；Ｒ１ａおよびＲ１ｂは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式（１ｃ）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＲ５は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ｃ）で表される化合物を、脱保護反応させ、一般式（１ｄ）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａおよびＲ１ｂは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ｄ）で表される化合物を、硫黄含有化合物と反応させ、必要に応じて酸化反応させ、一般式（１ａ）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａおよびＲ１ｂは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ａ）で表される化合物を、一般式（７）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂおよびＲ４ｃは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式（１ｂ）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂおよびＲ４ｃは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ｂ）で表される化合物を脱保護反応させることを特徴とする、サラシノールの製造法。
［１１］ Ｒ５が、置換されてもよいフェニル基である、［１０］に記載の製造法。
［１２］ Ｒ１ａおよびＲ１ｂが、カルボキシ保護基であり；Ｒ４ａ、Ｒ４ｂおよびＲ４ｃが、水素原子である、［１０］または［１１］に記載の製造法。
［１３］ 一般式（７ａ）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ４ｂａは、ｐ−トルオイル基である。）で表される化合物。
［１４］ 一般式（１０）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ７は、置換されてもよいＣ１−３アルキル基である。）で表される化合物を、一般式（１１）
Figure 0006268014
 （式中、Ｌ１は、脱離基であり；Ｒ４ｂａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式（１２）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ４ｂａおよびＲ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１２）で表される化合物を、酸と反応させた後、還元反応させ、一般式（７ａ）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ４ｂａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（７ａ）で表される化合物を、脱保護反応させることを特徴とする、式（７ｂ）
Figure 0006268014
 で表される化合物の製造法。
［１５］ 一般式（１５）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を、一般式（１４）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ８は、置換されてもよいＣ１−３アルキルスルホニル基または置換されてもよいアリールスルホニル基であり；Ｌ２は、脱離基である。）で表される化合物と反応させ、一般式（１５）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ７およびＲ８は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１５）で表される化合物を、一般式（１６）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ９は、置換されてもよいアシル基である。）で表される化合物と反応させ、一般式（１７）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１７）で表される化合物を、塩基と反応させ、一般式（１８）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ７およびＲ８は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１８）で表される化合物を、脱保護反応させ、一般式（１０）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ７は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１０）で表される化合物を、一般式（１１）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ４ｂａおよびＬ１は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式（１２）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ４ｂａおよびＲ７は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１２）で表される化合物を、酸と反応させた後、還元反応させ、一般式（７ａ）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ４ｂａは、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（７ａ）で表される化合物を、脱保護反応させることを特徴とする、式（７ｂ）
Figure 0006268014
 で表される化合物の製造法。
［１６］ １，２−ジオール基または１，３−ジオール基に、塩基の存在下、一般式（１９）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基を反応させることを特徴とする、１，２−ジオール基または１，３−ジオール基の保護方法。
［１７］ 一般式（２０）
Figure 0006268014
 （式中、Ｙ１は、置換されてもよいＣ２−３アルキレン基である。）で表される化合物の、１，２−ジオール基または１，３−ジオール基に、塩基の存在下、一般式（９）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＲ６は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を反応させ、一般式（２１）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＹ１は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を製造することを特徴とする、１，２−ジオール基または１，３−ジオール基の保護方法。
［１８］ 一般式（９）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＲ６は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を含有する、１，２−ジオール基または１，３−ジオール基の保護剤。
［１９］ 一般式（１９）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基によって保護された、１，２−ジオール基または１，３−ジオール基に、塩基を反応させることを特徴とする、保護された１，２−ジオール基または１，３−ジオール基の脱保護方法。
［２０］ 一般式（２１）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＹ１は、上記と同様な意味を有する。）で表される、１，２−ジオール基または１，３−ジオール基が保護された化合物に、塩基を反応させ、一般式（２０）
Figure 0006268014
 （式中、Ｙ１は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を製造することを特徴とする、保護された１，２−ジオール基または１，３−ジオール基の脱保護方法。
本発明の化合物は、サラシノールを製造するための中間体として有用である。本発明の製造法は、サラシノールの製造法として有用である。さらに本発明のジオール基の保護基は、新規な保護基であり、本発明の保護剤および方法は、ジオール基の保護基、保護方法および脱保護方法として有用である。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において、特にことわらない限り、％は、質量百分率を意味する。
本発明において、特にことわらない限り、各用語は、次の意味を有する。
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を意味する。
Ｃ１−３アルキル基とは、メチル、エチル、プロピルまたはイソプロピル基を意味する。
Ｃ１−６アルキル基とは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチルおよびヘキシル基などの直鎖状または分岐状のＣ１−６アルキル基を意味する。
Ｃ２−６アルケニル基とは、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、１，３−ブタジエニル、ペンテニルおよびヘキセニル基などの直鎖状または分岐鎖状のＣ２−６アルケニル基を意味する。
Ｃ２−３アルキレン基とは、エチレンまたはプロプレン基を意味する。
アリール基とは、フェニルまたはナフチル基などを意味する。
アルＣ１−６アルキル基とは、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル、フェネチルおよびナフチルメチル基などのアルＣ１−６アルキル基を意味する。
Ｃ１−６アルコキシ基とは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシおよびヘキシルオキシ基などの直鎖状または分岐鎖状のＣ１−６アルコキシ基を意味する。
Ｃ１−６アルコキシＣ１−６アルキル基とは、メトキシメチルおよび１−エトキシエチル基などのＣ１−６アルコキシＣ１−６アルキル基を意味する。
Ｃ２−６アルカノイル基とは、アセチル、プロピオニル、バレリル、イソバレリルおよびピバロイル基などの直鎖状または分岐鎖状のＣ２−６アルカノイル基を意味する。
アロイル基とは、ベンゾイルまたはナフトイル基などを意味する。
アシル基とは、ホルミル基、Ｃ２−６アルカノイル基またはアロイル基などを意味する。
Ｃ１−６アルコキシカルボニル基とは、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルおよび１，１−ジメチルプロポキシカルボニル基などの直鎖状または分岐鎖状のＣ２−６アルキルオキシカルボニル基を意味する。
アリールオキシカルボニル基とは、フェニルオキシカルボニルまたはナフチルオキシカルボニル基などを意味する。
Ｃ１−６アルキルアミノ基とは、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、ｓｅｃ−ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ペンチルアミノおよびヘキシルアミノ基などの直鎖状または分岐鎖状のＣ１−６アルキルアミノ基を意味する。
ジ（Ｃ１−６アルキル）アミノ基とは、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）アミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ、（エチル）（メチル）アミノおよび（メチル）（プロピル）アミノ基などの直鎖状または分岐鎖状のジ（Ｃ１−６アルキル）アミノ基を意味する。
Ｃ１−６アルキルチオ基とは、メチルチオ、エチルチオおよびプロピルチオ基などのＣ１−６アルキルチオ基を意味する。
Ｃ１−３アルキルスルホニル基とは、メチルスルホニルおよびエチルスルホニル基などのＣ１−３アルキルスルホニル基を意味する。
Ｃ１−６アルキルスルホニル基とは、メチルスルホニル、エチルスルホニルおよびプロピルスルホニル基などのＣ１−６アルキルスルホニル基を意味する。
アリールスルホニル基とは、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルまたはナフタレンスルホニル基などを意味する。
Ｃ１−６アルキルスルホニルオキシ基とは、メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシおよびプロピルスルホニルオキシ基などのＣ１−６アルキルスルホニルオキシ基を意味する。
アリールスルホニルオキシ基とは、ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシまたはナフタレンスルホニルオキシ基などを意味する。
単環の含窒素複素環式基とは、アゼチジニル、ピロリジニル、ピロリニル、ピロリル、ピペリジル、テトラヒドロピリジル、ピリジル、ホモピペリジニル、オクタヒドロアゾシル、ピラゾリル、ピペラジニル、ピラジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ホモピペラジニル、トリアゾリルおよびテトラゾリル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子のみを含む単環の含窒素複素環式基を意味する。
単環の含酸素複素環式基とは、テトラヒドロフラニル、フラニル、テトラヒドロピラニルまたはピラニル基などを意味する。
単環の含硫黄複素環式基とは、チエニル基などを意味する。
単環の含窒素・酸素複素環式基とは、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オイサジアゾリルおよびモルホリニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および酸素原子のみを含む単環の含窒素・酸素複素環式基を意味する。
単環の含窒素・硫黄複素環式基とは、チアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、チオモルホリニル、１−オキシドチオモルホリニルおよび１，１−ジオキシドチオモルホリニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子のみを含む単環の含窒素・硫黄複素環式基を意味する。
単環の複素環式基とは、単環の含窒素複素環式基、単環の含酸素複素環式基、単環の含硫黄複素環式基、単環の含窒素・酸素複素環式基または単環の含窒素・硫黄複素環式基などを意味する。
二環式の含窒素複素環式基とは、インドリニル、インドリル、イソインドリニル、イソインドリル、ベンズイミダゾリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル、キノリル、テトラヒドロキノリニル、キノリル、テトラヒドロイソキノリニル、イソキノリニル、キノリジニル、シンノリニル、フラタジニル、キナゾリニル、ジヒドロキノキサリニル、キノキサリニル、ナフチリジニル、プリニル、プテリジニルおよびキヌクリジニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子のみを含む二環式複素環式基を意味する。
二環式の含酸素複素環式基とは、２，３−ジヒドロベンゾフラニル、ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、１，３−ベンゾジオキサニルおよび１，４−ベンゾジオキサニル基などの該環を形成する異項原子として酸素原子のみを含む二環式の含酸素複素環式基を意味する。
二環式の含硫黄複素環式基とは、２，３−ジヒドロベンゾチエニルおよびベンゾチエニル基などの該環を形成する異項原子として硫黄原子のみを含む二環式の含硫黄複素環式基を意味する。
二環式の含窒素・酸素複素環式基とは、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾモルホリニル、ジヒドロピラノピリジル、ジヒドロジオキシノピリジルおよびジヒドロピリドオキサジニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および酸素原子のみを含む二環式の含窒素・酸素複素環式基を意味する。
二環式の含窒素・硫黄複素環式基とは、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリルおよびベンゾチアジアゾリル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子のみを含む二環式の含窒素・硫黄複素環式基を意味する。
二環式の複素環式基とは、二環式の含窒素複素環式基、二環式の含酸素複素環式基、二環式の含硫黄複素環式基、二環式の含窒素・酸素複素環式基または二環式の含窒素・硫黄複素環式基などを意味する。
複素環式基とは、単環の複素環式基または二環式の複素環式基を意味する。
Ｃ３−８シクロアルキル環とは、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタンまたはシクロオクタン環を意味する。
Ｃ５−８シクロアルキル環とは、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタンまたはシクロオクタン環を意味する。
非芳香族含窒素複素環とは、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、ホモピペリジン、ピペラジンおよびホモピペラジン環などの該環を形成する異項原子として窒素原子のみを含む非芳香族含窒素複素環を意味する。
非芳香族含酸素複素環とは、オキセタン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキサンおよび１，４−ジオキサン環などの該環を形成する異項原子として酸素原子のみを含む非芳香族含酸素複素環を意味する。
非芳香族含硫黄複素環とは、テトラヒドロチオフェン環などを意味する。
非芳香族含窒素・酸素複素環とは、モルホリンおよびオキサゼパン環などの該環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子のみを含む非芳香族含窒素・酸素複素環を意味する。
非芳香族含窒素・硫黄複素環とは、チオモルホリン環などを意味する。
非芳香族複素環とは、非芳香族含窒素複素環、非芳香族含酸素複素環、非芳香族含硫黄複素環、非芳香族含窒素・酸素複素環または非芳香族含窒素・硫黄複素環を意味する。
シリル基とは、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、トリブチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルまたはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基などを意味する。
脱離基とは、ハロゲン原子、Ｃ１−６アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基を意味する。これらの基は、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
ヒドロキシ保護基としては、通常のヒドロキシ基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、16〜366頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons, INC.）に記載されている基が挙げられる。
具体例としては、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ2-6アルケニル基、アルＣ1-6アルキル基、Ｃ 1-6 アルコキシ基、アシル基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基またはシリル基などが挙げられる。これらの基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
アミノ保護基としては、通常のアミノ基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、696〜926頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons, INC.）に記載されている基が挙げられる。
具体例としては、アルＣ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシＣ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、Ｃ１−６アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはシリル基などがあげあれる。これらの基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
カルボキシ保護基としては、通常のカルボキシ基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、533〜646頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons, INC.）に記載されている基が挙げられる。
具体例としては、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ2-6アルケニル基、アリール基、アルＣ1-6アルキル基、Ｃ 1-6 アルコキシ基またはシリル基などが挙げられる。これらの基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
本明細書において、各置換基群は、次の意味を有する。
置換基群Ａ：ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいヒドロキシ基、保護されてもよいカルボキシ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルコキシ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキルアミノ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいジ（Ｃ１−６アルキル）アミノ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキルチオ基。
置換基群Ｂ：ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されてもよいＣ１−６アルキル基、ハロゲン原子で置換されてもよいアリール基、ハロゲン原子で置換されてもよいＣ１−６アルコキシ基。
脂肪族炭化水素類としては、ペンタン、ヘキサンまたはシクロヘキサンなどが挙げられる。
ハロゲン化炭化水素類としては、塩化メチレン、クロロホルムまたは１，２−ジクロロエタンなどが挙げられる。
アルコール類としては、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノールまたは２−メチル−２−プロパノールなどが挙げられる。
エーテル類としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルまたはジエチレングリコールジエチルエーテルなどが挙げられる。
エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピルまたは酢酸ブチルなどが挙げられる。
ケトン類としては、アセトン、２−ブタノンまたは４−メチル−２−ペンタノンなどが挙げられる。
ニトリル類としては、アセトニトリルなどが挙げられる。
アミド類としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドまたはＮ−メチルピロリドンなどが挙げられる。
スルホキシド類としては、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。
芳香族炭化水素類としては、ベンゼン、トルエンまたはキシレンなどが挙げられる。
尿素類としては、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどが挙げられる。
無機酸としては、塩酸、臭化水素酸、硝酸、リン酸、硫酸、ホウ酸またはフッ化水素酸などを意味する。
有機酸としては、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フタル酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸またはカンファースルホン酸などを意味する。
酸とは、無機酸または有機酸を意味する。
無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウム、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシドまたは水素化ナトリウムなどを意味する。
有機塩基としては、プロピルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、２，６−ルチジン、４−ジメチルアミノピリジン、水酸化テトラエチルアンモニウム、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン、グアニジン、Ｎ−メチルイミダゾール、モルホリンまたはＮ−メチルモルホリンなどが挙げられる。
塩基とは、無機塩基または有機塩基を意味する。
Ｒ５のアリール基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
Ｒ６のＣ１−６アルキル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
Ｒ７のＣ１−３アルキル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
Ｒ８のＣ１−３アルキルスルホニル基およびアリールスルホニル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
Ｒ９のアシル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
Ｙ１のＣ２−３アルキレン基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
一般式（１）で表される化合物において、好ましい化合物としては、以下の化合物が挙げられる。
Ｒ１ａおよびＲ１ｂが、カルボキシ保護基である化合物が好ましい。
Ｒ１ａおよびＲ１ｂのカルボキシ保護基としては、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ２−６アルケニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１−６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルコキシＣ１−６アルキル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基が好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキル基がより好ましく、Ｃ１−６アルキル基がさらに好ましく、Ｃ１−３アルキル基が特に好ましくい。
Ｒ２およびＲ３が、ヒドロキシ基である化合物が好ましい。
Ｒ２が、一般式（２）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ４ｃおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基であり、Ｒ３が式（３）
Figure 0006268014
 （式中、＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基である化合物が好ましい。
Ｒ４ａ、Ｒ４ｂおよびＲ４ｃが、水素原子、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ２−６アルケニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１−６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルコキシＣ１−６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキルスルホニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールスルホニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基である化合物が好ましく、水素原子、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１−６アルキル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基である化合物がより好ましく、水素原子またはアシル基である化合物がさらに好ましく、水素原子である化合物が特に好ましい。
Ｒ２およびＲ３が、一緒になって、一般式（４）
Figure 0006268014
 （式中、Ｘ１および＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基である化合物が好ましい。
Ｒ５が、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基である化合物が好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいフェニル基である化合物がより好ましく、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいフェニル基である化合物がさらに好ましい。
本発明の製造法において、好ましい製造法としては以下の製造法が挙げられる。
Ｒ１ａおよびＲ１ｂが、カルボキシ保護基である化合物を用いる製造法が好ましい。
Ｒ１ａおよびＲ１ｂのカルボキシ保護基としては、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ２−６アルケニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１−６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルコキシＣ１−６アルキル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基が好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキル基がより好ましく、Ｃ１−６アルキル基がさらに好ましく、Ｃ１−３アルキル基が特に好ましくい。
Ｒ４ａ、Ｒ４ｂおよびＲ４ｃが、水素原子、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ２−６アルケニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１−６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルコキシＣ１−６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキルスルホニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールスルホニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基である化合物を用いる製造法が好ましく、水素原子、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１−６アルキル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、水素原子またはアシル基である化合物を用いる製造法がさらに好ましく、水素原子である化合物を用いる製造法が特に好ましい。
Ｒ５が、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基である化合物を用いる製造法が好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいフェニル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいフェニル基である化合物を用いる製造法がさらに好ましい。
Ｒ６が、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキル基である化合物を用いる製造法が好ましく、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、Ｃ１−６アルキル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、Ｃ１−３アルキル基である化合物を用いる製造法がさらに好ましい。
Ｒ７が、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−３アルキル基である化合物を用いる製造法が好ましく、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−３アルキル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、Ｃ１−３アルキル基である化合物を用いる製造法がさらに好ましい。
Ｒ８が、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−３アルキルスルホニル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールスルホニル基である化合物を用いる製造法が好ましく、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−３アルキルスルホニル基または置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールスルホニル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールスルホニル基である化合物を用いる製造法さらに好ましい。
Ｒ９が、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基である化合物を用いる製造法が好ましく、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ２−６アルカノイル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、Ｃ２−６アルカノイル基である化合物を用いる製造法がさらに好ましい。
次に本発明の製造法について説明する。
製造法１
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ４ｃ、Ｒ５およびＲ６は、上記と同様な意味を有する。）
（１−１）
一般式（９）で表される化合物としては、たとえば、メトキシメチレンマロン酸ジメチルが知られている。
一般式（１ｃ）で表される化合物は、塩基の存在下、一般式（８）で表される化合物を一般式（９）で表される化合物と反応させることにより、製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、エーテル類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（８）で表される化合物に対して、1〜50倍量（v/w）であればよく、1〜15倍量（v/w）が好ましい。
この反応に使用される塩基としては、無機塩基が挙げられ、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム、ナトリウムエトキシドおよびナトリウムメトキシドが好ましく、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウムがより好ましい。
塩基の使用量は、一般式（８）で表される化合物に対して0.01〜5倍モル、好ましくは、0.02〜2倍モル、より好ましくは、0.03〜1倍モルである。
一般式（９）で表される化合物の使用量は、一般式（８）で表される化合物に対して1.0〜2.0倍モル、好ましくは、1.0〜1.5倍モル、より好ましくは、1.0〜1.2倍モルである。
反応温度は、-20〜100℃であればよく、-10〜80℃が好ましく、-5〜60℃がより好ましい。
反応時間は、5分間〜50時間であればよく、5分間〜24時間が好ましく、5分間〜6時間がより好ましい。
（１−２）
一般式（１ｄ）で表される化合物は、一般式（１ｃ）で表される化合物を脱保護反応させることにより、製造することができる。
脱保護反応としては、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、第299〜366頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載の方法などが挙げられる。
具体的には、たとえば、触媒を用いる水素添加反応および酸を用いる加水分解反応などが挙げられる。
水素添加反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、アルコール類およびエステル類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１ｃ）で表される化合物に対して、1〜50倍量（v/w）であればよく、1〜15倍量（v/w）が好ましい。
この反応に使用される触媒としては、たとえば、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白金およびニッケル触媒が挙げられ、ラネーニッケル、パラジウム−炭素（Pd/C）、ロジウム−炭素（Rh/C）、アダムス触媒（Adams' catalyst:PtO2）およびパールマン触媒（Paarlman's catalyst: Pd(OH)2）が好ましく、パラジウム−炭素およびパールマン触媒がより好ましい。
触媒の使用量は、一般式（１ｃ）で表される化合物に対して0.001〜10％、好ましくは、0.01〜0.2％、より好ましくは、0.05〜0.1％である。
反応温度は、-20〜100℃であればよく、-10〜80℃が好ましく、-5〜60℃がより好ましい。
反応時間は、5分間〜50時間であればよく、5分間〜24時間が好ましく、5分間〜6時間がより好ましい。
加水分解反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、ニトリル類および水が挙げられ、アルコール類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１ｃ）で表される化合物に対して、1〜50倍量（v/w）であればよく、1〜15倍量（v/w）が好ましい。
この反応に使用される酸としては、無機酸および有機酸が挙げられ、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸およびｐ−トルエンスルホン酸が好ましい。
酸の使用量は、一般式（１ｃ）で表される化合物に対して、0.001〜2倍モル、好ましくは、0.005〜1.5倍モル、より好ましくは、0.01〜1倍モルである。
反応温度は、-20〜100℃であればよく、-10〜80℃が好ましく、-5〜60℃がより好ましい。
反応時間は、5分間〜50時間であればよく、5分間〜24時間が好ましく、5分間〜6時間がより好ましい。
一般式（６）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ５は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物の１，３−ジオール基を一般式（１９）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基で保護する方法は、一般式（Ａ）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ５および＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される１，３−ジオール基の保護基を分解することなく、一般式（１ｃ）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＲ５は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を製造することができる。
さらに、一般式（１９）で表されるジオール基の保護基は、一般式（Ａ）で表されるジオール基の保護基を脱保護する工程（たとえば、触媒を用いる水素添加反応および酸の存在下の加水分解反応）において、安定である。
ジオール基の保護基として、一般式（１９）で表される基を用いることにより、分子内に２以上のジオール基が存在する場合においても、選択的にジオール基の保護および脱保護が可能になった。
（１−３）
一般式（１ａ）で表される化合物は、一般式（１ｄ）で表される化合物を、塩基の存在下、硫黄含有化合物と反応させ、必要に応じて酸化反応させることにより、製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、ハロゲン化炭化水素類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられ、ハロゲン化炭化水素類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１ｃ）で表される化合物に対して、1〜50倍量（v/w）であればよく、1〜15倍量（v/w）が好ましい。
この反応に使用される塩基としては、有機塩基が挙げられ、トリエチルアミンおよびジイソプロピルアミンが好ましい。
塩基の使用量は、一般式（１ｄ）で表される化合物に対して0.8〜5倍モル、好ましくは、1〜3倍モル、より好ましくは、1.2〜2倍モルである。
この反応に使用される硫黄含有化合物としては、たとえば、二塩化硫黄、塩化チオニル、塩化スルフリルおよび三酸化硫黄が挙げられ、塩化チオニルが好ましい。
硫黄含有化合物の使用量は、一般式（１ｄ）で表される化合物に対して0.8〜5倍モル、好ましくは、0.9〜3倍モル、より好ましくは、1〜2倍モルである。
反応温度は、-20〜100℃であればよく、-15〜70℃が好ましく、-10〜40℃がより好ましい。
反応時間は、5分間〜50時間であればよく、5分間〜24時間が好ましく、5分間〜6時間がより好ましい。
硫黄含有化合物として、二塩化硫黄および塩化チオニルを用いる場合、酸化反応させることが好ましい。
酸化反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、ハロゲン化炭化水素類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられ、ハロゲン化炭化水素類およびニトリル類がより好ましい。
酸化反応に用いられる酸化剤としては、特に限定されないが、過マンガン酸カリウム、四酸化ルテニウムおよび塩化ルテニウム（III）−過ヨウ素酸ナトリウムなどが好ましい。
酸化剤の使用量は、一般式（１ｄ）で表される化合物に対して0.005〜0.2倍モル、好ましくは、0.01〜0.1倍モル、より好ましくは、0.02〜0.05倍モルである。
反応温度は、-20〜100℃であればよく、-10〜80℃が好ましく、-5〜60℃がより好ましい。
反応時間は、5分間〜50時間であればよく、5分間〜24時間が好ましく、5分間〜6時間がより好ましい。
（１−４）
一般式（７）で表される化合物として、たとえば、（２Ｒ，４Ｓ）−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロチオフェン−３，４−ジオールが知られている。
一般式（１ｂ）で表される化合物は、塩基の存在下、一般式（１ａ）で表される化合物を一般式（７）で表される化合物と反応させることにより、製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、ケトン類、ニトリル類およびスルホキシド類が挙げられ、ケトン類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１ａ）で表される化合物に対して、1〜50倍量（v/w）であればよく、1〜15倍量（v/w）が好ましい。
この反応に使用される塩基としては、無機塩基および有機塩基が挙げられ、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、ピリジン、２，６−ルチジンおよび４−ジメチルアミノピリジンが好ましく、２，６−ルチジンがより好ましい。
塩基の使用量は、一般式（１ａ）で表される化合物に対して0.01〜5倍モル、好ましくは、0.02〜2倍モル、より好ましくは、0.03〜1倍モルである。
一般式（７）で表される化合物の使用量は、一般式（１ａ）で表される化合物に対して0.5〜2倍モル、好ましくは、0.7〜1.2倍モル、より好ましくは、0.8〜1.1倍モルである。
反応温度は、0〜150℃であればよく、10〜100℃が好ましく、25〜80℃がより好ましい。
反応時間は、5分間〜72時間であればよく、30分間〜50時間が好ましく、1時間〜24時間がより好ましい。
一般式（１ｂ）で表される化合物には、異性体（トランス体（１ｂ−１）およびシス体（１ｂ−２））が存在する。
Figure 0006268014
 本発明者らは、一般式（１ｂ−２）で表される化合物を加熱することにより、一般式（１ｂ−１）で表される化合物に変換されることを見出した。そのため、これらの異性体は、単離して次の反応に用いてもよいが、単離せずにそのまま次の反応に用いることが好ましい。
（１−５）
サラシノールは、塩基の存在下、一般式（１ｂ）で表される化合物を脱保護反応させることにより、製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類および水が挙げられ、アルコール類、エーテル類、エステル類および水がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１ｂ）で表される化合物に対して、1〜50倍量（v/w）であればよく、1〜15倍量（v/w）が好ましい。
この反応に使用される塩基としては、無機塩基または有機塩基が挙げられ、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、プロピルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、２，６−ルチジン、４−ジメチルアミノピリジン、水酸化テトラエチルアンモニウム、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン、グアニジンおよびモルホリンが好ましく、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、プロピルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジンおよびモルホリンがより好ましい。
塩基の使用量は、一般式（１ｂ）で表される化合物に対して0.1〜5倍モル、好ましくは、0.5〜2倍モル、より好ましくは、0.8〜1.5倍モルである。
反応温度は、0〜150℃であればよく、10〜100℃が好ましく、25〜80℃がより好ましい。
反応時間は、5分間〜72時間であればよく、30分間〜50時間が好ましく、1時間〜24時間がより好ましい。
一般式（１９）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）で表されるジオール基の保護基は、塩基により、容易に脱保護される。一方、ジオール基の保護基として汎用されるメチレン基、イロプロピリデン基（アセトニド）およびベンジリデン基などは、塩基により脱保護されにくい。
ジオール基の保護基として、一般式（１９）で表される基を用いることにより、分子内に２以上のジオール基が存在する場合においても、選択的にジオール基の保護および脱保護が可能になった。
一般式（１ｂ−２）で表される化合物を用いて反応を行った場合、サラシノールの異性体が生成する場合がある。
Figure 0006268014
 このような場合は、サラシノールの異性体は、単離せずに、そのまま加熱処理を行ってサラシノールに変換することが好ましい。
製造法２
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ４ｂａ、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｌ１およびＬ２は、上記と同様な意味を有する。）
（２−１）
一般式（１３）で表される化合物としては、たとえば、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−２−（ヒドロキシメチル）−５−メトキシテトラヒドロフラン−３，４−ジオールが知られている。また、一般式（１３）で表される化合物は、系内で調製してもよい。
一般式（１４）で表される化合物としては、たとえば、ｐ−トルエンスルホニルクロリドが知られている。
一般式（１５）で表される化合物は、一般式（１３）で表される化合物を、塩基の存在下で、一般式（１４）で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、ニトリル類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１３）で表される化合物に対して、1〜50倍量（v/w）であればよく、1〜15倍量（v/w）が好ましい。
この反応に使用される塩基としては、有機塩基が挙げられ、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンおよびＮ−メチルイミダゾールが好ましい。
塩基の使用量は、一般式（１３）で表される化合物に対して2.7〜10倍モル、好ましくは、2.8〜6倍モル、より好ましくは、2.9〜4倍モルである。
一般式（１４）で表される化合物の使用量は、一般式（１３）で表される化合物に対して2.7〜10倍モル、好ましくは、3〜6倍モル、より好ましくは、3〜4倍モルである。
反応温度は、-10〜60℃であればよく、0〜50℃が好ましく、10〜40℃がより好ましい。
反応時間は、30分間〜24時間であればよく、1時間〜12時間が好ましく、1.5時間〜8時間がより好ましい。
（２−２）
一般式（１６）で表される化合物としては、たとえば、チオ酢酸Ｓ−カリウムが知られている。
一般式（１７）で表される化合物は、一般式（１５）で表される化合物を、一般式（１６）で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、アミド類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１５）で表される化合物に対して、1〜50倍量（v/w）であればよく、1〜15倍量（v/w）が好ましい。
一般式（１６）で表される化合物の使用量は、一般式（１５）で表される化合物に対して0.8〜5倍モル、好ましくは、0.9〜4倍モル、より好ましくは、1〜3倍モルである。
反応温度は、10〜200℃であればよく、20〜150℃が好ましく、30〜100℃がより好ましい。
反応時間は、30分間〜24時間であればよく、1時間〜18時間が好ましく、1.5時間〜12時間がより好ましい。
（２−３）
一般式（１８）で表される化合物は、一般式（１７）で表される化合物を塩基と反応させることにより製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類およびスルホキシド類が挙げられ、アルコール類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１７）で表される化合物に対して、1〜50倍量（v/w）であればよく、1〜15倍量（v/w）が好ましい。
この反応に使用される塩基としては、無機塩基および有機塩基が挙げられ、炭酸カリウム、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム、トリエチルアミンおよびピリジンが好ましい。
塩基の使用量は、一般式（１７）で表される化合物に対して0.9〜5倍モル、好ましくは、0.95〜3倍モル、より好ましくは、1〜2倍モルである。
反応温度は、10〜200℃であればよく、20〜150℃が好ましく、30〜100℃がより好ましい。
反応時間は、30分間〜12時間であればよく、1時間〜8時間が好ましく、1.5時間〜4時間がより好ましい。
一般式［１８］で表される化合物は、単離して次の反応に用いてもよいが、単離せずにそのまま次の反応に用いることが好ましい。
（２−４）
一般式（１０）で表される化合物は、一般式（１８）で表される化合物を脱保護反応させることにより製造することができる。
脱保護反応としては、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、第272〜279頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載の方法などが挙げられる。
具体的には、たとえば、塩基を用いる加水分解反応などが挙げられる。
加水分解反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類および水が挙げられ、アルコール類および水の混合溶媒がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１８）で表される化合物に対して、1〜50倍量（v/w）であればよく、1〜15倍量（v/w）が好ましい。
加水分解反応に使用される塩基としては、無機塩基が挙げられ、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムが好ましい。
塩基の使用量は、一般式（１８）で表される化合物に対して1〜20倍モル、好ましくは、1〜15倍モル、より好ましくは、1〜10倍モルである。
反応温度は、10〜200℃であればよく、20〜150℃が好ましく、30〜100℃がより好ましい。
反応時間は、10分間〜12時間であればよく、20分間〜8時間が好ましく、30分間〜4時間がより好ましい。
（２−５）
一般式（１１）で表される化合物としては、たとえば、ｐ−トルオイルクロリドが知られている。
一般式（１２）で表される化合物は、一般式（１０）で表される化合物を、塩基の存在下、一般式（１１）で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類および芳香族炭化水素類が挙げられ、エステル類および芳香族炭化水素類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１０）で表される化合物に対して、1〜50倍量（v/w）であればよく、1〜15倍量（v/w）が好ましい。
この反応に使用される塩基としては、無機塩基および有機塩基が挙げられ、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、トリエチルアミンおよびピリジンが好ましい。
塩基の使用量は、一般式（１０）で表される化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜5倍モル、より好ましくは、1〜3倍モルである。
一般式（１１）で表される化合物の使用量は、一般式（１０）で表される化合物に対して0.9〜5倍モル、好ましくは、0.95〜3倍モル、より好ましくは、1〜2倍モルである。
反応温度は、-10〜60℃であればよく、0〜50℃が好ましく、10〜40℃がより好ましい。
反応時間は、30分間〜12時間であればよく、1時間〜8時間が好ましく、1.5時間〜4時間がより好ましい。
（２−６）
一般式（７ａ）で表される化合物は、一般式（１２）で表される化合物を、酸と反応させた後、還元反応させることにより製造することができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類および水が挙げられ、エーテル類および水の混合溶媒がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１２）で表される化合物に対して、1〜50倍量（v/w）であればよく、1〜15倍量（v/w）が好ましい。
この反応に使用される酸としては、無機酸および有機酸が挙げられ、塩酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸およびカンファースルホン酸が好ましい。
酸の使用量は、一般式（１２）で表される化合物に対して1〜5倍モル、好ましくは、1〜3倍モル、より好ましくは、1〜2倍モルである。
この反応に使用される還元剤としては、たとえば、水素化アルミニウムリチウム、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化シアノホウ素ナトリウムおよび水素化ホウ素ナトリウムなどの水素化錯化合物；ボラン；ナトリウムならびにナトリウムアマルガムが挙げられる。また、銅または白金を陰極に用いた電解還元；ラネーニッケル、酸化白金またはパラジウム黒を用いる接触還元ならびに「亜鉛−酸」を用いる還元などを用いることもできる。
好ましい還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウムが挙げられる。水素化ホウ素ナトリウムの固体または水素化ホウ素ナトリウムの溶液を使用することができる。
還元剤の使用量は、一般式（１２）で表される化合物に対して1〜5倍モル、好ましくは、1〜4倍モル、より好ましくは、1〜3倍モルである。
酸との反応の温度は、0〜150℃であればよく、10〜100℃が好ましく、20〜80℃がより好ましい。
酸との反応の時間は、10分間〜12時間であればよく、20分間〜8時間が好ましく、30分間〜4時間がより好ましい。
還元反応の温度は、-10〜60℃であればよく、0〜50℃が好ましく、10〜40℃がより好ましい。
還元反応の時間は、10分間〜12時間であればよく、20分間〜8時間が好ましく、30分間〜4時間がより好ましい。
（２−７）
式（７ｂ）で表される化合物は、一般式（７ａ）で表される化合物を脱保護反応させることにより製造することができる。
脱保護反応としては、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、第255〜265頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載の方法などが挙げられる。
具体的には、たとえば、塩基を用いる加水分解反応が挙げられる。
加水分解反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類および水が挙げられ、アルコール類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（７ａ）で表される化合物に対して、1〜50倍量（v/w）であればよく、1〜15倍量（v/w）が好ましい。
加水分解反応に使用される塩基としては、無機塩基および有機塩基が挙げられ、水酸化ナトリウム、炭酸カリウムおよびナトリウムメトキシドが好ましい。
塩基の使用量は、一般式（７ａ）で表される化合物に対して0.001〜3倍モル、好ましくは、0.005〜1倍モル、より好ましくは、0.01〜0.5倍モルである。
反応温度は、-10〜80℃であればよく、0〜60℃が好ましく、10〜40℃がより好ましい。
反応時間は、10分間〜24時間であればよく、20分間〜12時間が好ましく、30分間〜8時間がより好ましい。
製造法３
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）
１，２−ジオール基または１，３−ジオール基に、塩基の存在下、一般式（１９）で表される基を反応させることにより、ジオール基を保護することができる。
具体的には、一般式（２０）で表される化合物に、塩基の存在下、一般式（９）で表される化合物を反応させ、一般式（２１）で表される化合物を製造することにより、ジオール基を保護することができる。即ち、一般式（９）で表される化合物は、１，２−ジオール基または１，３−ジオール基の保護剤として有用である。
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ６およびＹ１は、上記と同様な意味を有する。）
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、エーテル類がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（２０）で表される化合物に対して、1〜50倍量（v/w）であればよく、1〜15倍量（v/w）が好ましい。
この反応に使用される一般式（２０）で表される化合物としては、分子内にジオール基を有していれば、特に限定されない。
具体的には、一般式（２０）で表される化合物は、たとえば、一般式（２０ａ）
Figure 0006268014
 （式中、ｍは、０または１であり；ＲＡ、ＲＢおよびＲＣは、同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、保護されるアミノ基、保護されるヒドロキシ基、保護されるカルボキシ基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ２−６アルケニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルコキシ基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキルアミノ基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいジ（Ｃ１−６アルキル）アミノ基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキルチオ基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキルスルホニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールスルホニル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい複素環式基であり；または、ＲＡおよびＲＢは、それらが結合する炭素原子と一緒になって、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ３−８シクロアルキル環または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい非芳香族複素環を形成してもよい。）で表すことができる。
ＲＡ、ＲＢおよびＲＣが、同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、保護されるアミノ基、保護されるヒドロキシ基、保護されるカルボキシ基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい複素環式基である化合物が好ましい。
ＲＡおよびＲＢが、それらが結合する炭素原子と一緒になって、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ５−８シクロアルキル環または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい非芳香族複素環である化合物が好ましい。
一般式（９）で表される化合物としては、以下の化合物が好ましい。
Ｒ１ａおよびＲ１ｂが、カルボキシ保護基である化合物が好ましい。
Ｒ１ａおよびＲ１ｂのカルボキシ保護基としては、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ２−６アルケニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１−６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルコキシＣ１−６アルキル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基が好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキル基がより好ましく、Ｃ１−６アルキル基がさらに好ましく、Ｃ１−３アルキル基が特に好ましくい。
Ｒ６のＣ１−６アルキル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
Ｒ６が、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１−６アルキル基である化合物が好ましく、Ｃ１−６アルキル基である化合物がより好ましく、Ｃ１−３アルキル基である化合物がさらに好ましい。
一般式（９）で表される化合物の使用量は、一般式（２０）で表される化合物に対して、1.0〜2.0倍モル、好ましくは、1.0〜1.5倍モル、より好ましくは、1.0〜1.2倍モルである。
この反応に使用される塩基としては、無機塩基が挙げられ、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム、ナトリウムエトキシドおよびナトリウムメトキシドが好ましく、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウムがより好ましい。
塩基の使用量は、一般式（２０）で表される化合物に対して、0.01〜5倍モル、好ましくは、0.02〜2倍モル、より好ましくは、0.03〜1倍モルである。
反応温度は、-20〜100℃であればよく、-10〜80℃が好ましく、-5〜60℃がより好ましい。
反応時間は、5分間〜50時間であればよく、5分間〜24時間が好ましく、5分間〜6時間がより好ましい。
製造法４
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）
一般式（１９）で表される基によって保護された、１，２−ジオール基または１，３−ジオール基に、塩基を反応させることにより、保護されたジオール基を脱保護することができる。
具体的には、一般式（２１）で表される化合物に、塩基を反応させ、一般式（２０）で表される化合物を製造することにより、保護されたジオール基を脱保護することができる。
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＹ１は、上記と同様な意味を有する。）
この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類および水が挙げられ、アルコール類、エーテル類、エステル類および水がより好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（２１）で表される化合物に対して、1〜50倍量（v/w）であればよく、1〜15倍量（v/w）が好ましい。
この反応に使用される塩基としては、無機塩基または有機塩基が挙げられ、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、プロピルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、２，６−ルチジン、４−ジメチルアミノピリジン、水酸化テトラエチルアンモニウム、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン、グアニジンおよびモルホリンが好ましく、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、プロピルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジンおよびモルホリンがより好ましい。
塩基の使用量は、一般式（２１）で表される化合物に対して0.1〜5倍モル、好ましくは、0.5〜2倍モル、より好ましくは、0.8〜1.5倍モルである。
反応温度は、0〜150℃であればよく、10〜100℃が好ましく、25〜80℃がより好ましい。
反応時間は、5分間〜72時間であればよく、30分間〜50時間が好ましく、1時間〜24時間がより好ましい。
一般式（１９）
Figure 0006268014
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）で表されるジオール基の保護基は、塩基により、容易に脱保護される。一方、一般式（１９）で表されるジオール基の保護基は、ジオール基の保護基として汎用されるベンジリデン基などを脱保護する工程（たとえば、触媒を用いる水素添加反応および酸の存在下の加水分解反応など）において、脱保護されない。
ジオール基の保護基として、一般式（１９）で表される基を用いることにより、分子内に２以上のジオール基が存在する場合においても、選択的にジオール基の保護および脱保護が可能になった。
上記の製造法によって得られる化合物は、抽出、晶出、蒸留またはカラムクロマトグラフィーなどの通常の方法によって、単離精製することができる。また、上記の製造によって得られる化合物は、単離せずにそのまま次の反応に使用してもよい。
上記の製造法によって得られる化合物に、結晶多形、水和物または溶媒和物が存在する場合、本発明は、すべての結晶形、水和物または溶媒和物を使用することができる。
次に、本発明を参考例および実施例を挙げて説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
特に記載のない場合、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにおける担体は、YAMAZEN社、FR-260 Hi-FlashTM Columnまたは和光純薬工業社、Wakogel C-200を使用した。
溶離液における混合比は、容量比である。たとえば、「ヘキサン/酢酸エチル＝90/10〜50/50」は、90％ヘキサン／10％酢酸エチルの溶離液を最終的に50％ヘキサン／50％酢酸エチルの溶離液へ変化させたことを意味する。
NMRスペクトルは、内部基準としてテトラメチルシランを用い、Bruker AV300（Bruker社）またはJNM-AL400型（JEOL社）を用いて測定し、全δ値をppmで示した。
各実施例において各略号は、以下の意味を有する。
Ａｃ：アセチル
Ｂｎ：ベンジル
Ｅｔ：エチル
Ｍｅ：メチル
Ｐｈ：フェニル
ＰＭＢ：４−メトキシベンジル
Ｔｏｌ：ｐ−トルオイル
Ｔｓ：４−メチルベンゼンスルホニル
ＤＭＳＯ−Ｄ６：重ジメチルスルホキシド
ｐｙｒｉｄｉｎｅ−Ｄ５：重ピリジン
ＨＰＬＣ：高速液体クロマトグラフィー
参考例１
Figure 0006268014
 （２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロチオフェン−３，４−ジオール1.50gのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド15mL溶液に、0℃で60％水素化ナトリウム2.00gを加え、5℃以下で1時間攪拌した後、0℃で臭化ベンジル4.50mLを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=95/5〜86/14）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ビス（ベンジルオキシ）−２−（（ベンジルオキシ）メチル）テトラヒドロチオフェン2.31gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.90(1H,dd,J=4.8,11.4Hz),3.04(1H,dd,J=5.0,11.4Hz),3.47-3.59(2H,m),3.69(1H,t,J=7.8Hz),4.10-4.21(2H,m),4.45-4.61(6H,m),7.25-7.35(15H,m)
参考例２
Figure 0006268014
 （２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロチオフェン−３，４−ジオール1.12gのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド10mL溶液に、0℃で60％水素化ナトリウム1.49gを加え、5℃以下で30分攪拌した後、0℃で４−メトキシベンジルクロリド3.86mLを加え、25℃で6時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=95/5〜86/14）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ビス（（４−メトキシベンジル）オキシ）−２−（（（４−メトキシベンジル）オキシ）メチル）テトラヒドロチオフェン1.93gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.86(1H,dd,J=4.8,11.4Hz),3.03(1H,dd,J=5.2,11.4Hz),3.42-3.52(2H,m),3.64(1H,dd,J=7.2,8.1Hz),3.79-3.81(9H,m),4.03-4.16(2H,m),4.39-4.52(6H,m),6.84-6.87(6H,m),7.18-7.25(6H,m)
実施例１
Figure 0006268014
 （４Ｓ，５Ｒ）−４−（ヒドロキシメチル）−２−フェニル−１，３−ジオキサン−５−オール20.0gおよびメトキシメチレンマロン酸ジメチル18.2gのテトラヒドロフラン200mL溶液に、25℃でｔｅｒｔ−ブトキシカリウム1.1gを加え、25℃で1時間攪拌した。反応混合物にトルエンを加え、テトラヒドロフランを減圧留去した後、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をメタノールから再結晶し、白色固体のジメチル ２−（（４ａＳ，８ａＲ）−６−フェニルテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３］ジオキシン−２−イル）マロナート21.3gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.75-3.81(11H,m),4.23-4.31(2H,m),5.30(1H,d,J=7.8Hz),5.60(1H,s),7.35-7.39(3H,m),7.44-7.50(2H,m)
実施例２
Figure 0006268014
 ジメチル ２−（（４ａＳ，８ａＲ）−６−フェニルテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３］ジオキシン−２−イル）マロナート20.4gの酢酸エチル70mL溶液に、25℃で20%水酸化パラジウム/炭素1.24gを加え、水素雰囲気下（5MPa）で4時間攪拌した。不溶物を濾去した後、溶媒を減圧留去し、無色油状物のジメチル ２−（（４Ｒ，５Ｓ）−５−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）−１，３−ジオキサン−２−イル）マロナート15.7gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.40(1H,s),2.70(1H,s),3.44-3.56(2H,m),3.68(1H,d,J=7.2Hz),3.76-3.85(9H,m),4.11-4.21(1H,m),5.15(1H,d,J=7.2Hz)
実施例３
Figure 0006268014
 ジメチル ２−（（４Ｒ，５Ｓ）−５−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）−１，３−ジオキサン−２−イル）マロナート53.0gの塩化メチレン800mL溶液に、-5℃以下でトリエチルアミン112mL加えた後、塩化チオニル21.8mLの塩化メチレン500mL溶液を-5℃以下で滴下した。5℃以下で20分攪拌した後、反応混合物に水を加えた。有機層を分取し、1mol/L塩酸、水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄し、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物の塩化メチレン265mLおよびアセトニトリル265mL混合溶液を、過ヨウ素酸ナトリウム159gおよび塩化ルテニウム(III)n水和物1.25gの水530mL溶液に、0℃で滴下し、20分攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、水、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムおよびシリカゲルを加え、5分攪拌した。不溶物を濾去した後、溶媒を減圧留去し、得られた残留物をメタノールおよび水から再結晶し、白色固体のジメチル ２−（（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン−６−イル）マロナート42.3gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.70(1H,d,J=7.8Hz),3.77(3H,s),3.78(3H,s),3.82(1H,d,J=10.5Hz),4.01-4.11(1H,m),4.31(1H,dd,J=5.0,10.5Hz),4.56(1H,dd,J=5.0,10.5Hz),4.54-4.75(2H,m),5.27(1H,d,J=7.8Hz)
実施例４
Figure 0006268014
 （２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロチオフェン−３，４−ジオール500mgおよびジメチル ２−（（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン−６−イル）マロナート1.14gのアセトン1.5mL溶液に、25℃で２，６−ルチジン31μLを加え、70℃で13時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、アセトンを加え、固形物を濾取し、白色固体の（４Ｓ，５Ｓ）−４−（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル−２−（１，３−ジメトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート1.20gを得た。
1H-NMRおよびHPLCを測定した結果、トランス／シス比は78/22であった。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値：3.56-3.63(2H,m),3.62-3.73(8H,m),3.42-4.08(6H,m),4.14(1H,dd,J=5.3,10.2Hz),4.22-4.29(2H,m),4.47-4.53(1H,m),5.21(1H,d,J=7.5Hz),5.57(2H,s),6.13(2H,m)
実施例５
Figure 0006268014
 （５−１）
（４Ｓ，５Ｓ）−４−（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル−２−（１，３−ジメトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート（トランス/シス=78/22）2.90gの水14.5mLおよび酢酸エチル14.5mL混合溶液に、25℃でジエチルアミン756μLを加え、25℃で50分攪拌した。水層を分取し、酢酸エチルで洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をメタノールから再結晶し、白色固体の（２Ｓ，３Ｓ）−４−（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）−１，３−ジヒドロキシブタン−２−イル サルファート（サラシノール）1.05gを得た。
1H-NMR(pyridine-D5)δ値：4.32-4.39(3H,m),4.51-4.66(5H,m),4.75-4.82(1H,m),4.91-5.05(1H,m),5.09-5.14(2H,m),5.23-5.27(1H,m)
（５−２）
（４Ｓ，５Ｓ）−４−（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル−２−（１，３−ジメトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート（トランス/シス=78/22）500mgの水2.5mLおよびメタノール2.5mL混合溶液に、25℃でトリエチルアミン220μLを加え、25℃で5時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えた。水層を分取し、酢酸エチルで洗浄し、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物のHPLCを測定した結果、サラシノールの生成が確認され、反応率は97％であった。
（５−３）
（４Ｓ，５Ｓ）−４−（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル−２−（１，３−ジメトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート（トランス/シス=78/22）500mgの水2.5mLおよびトルエン2.5mL混合溶液に、25℃でプロピルアミン220μLを加え、25℃で1時間攪拌した。反応混合物にトルエンを加えた。水層を分取し、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物のHPLCを測定した結果、サラシノールの生成が確認され、反応率は96％であった。
（５−４）
（４Ｓ，５Ｓ）−４−（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル−２−（１，３−ジメトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート（トランス/シス=78/22）500mgの水2.5mLおよびトルエン2.5mL混合溶液に、25℃でジブチルアミン212μLを加え、25℃で4時間攪拌した。反応混合物にトルエンを加えた。水層を分取し、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物のHPLCを測定した結果、サラシノールの生成が確認され、反応率は85％であった。
（５−５）
（４Ｓ，５Ｓ）−４−（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル−２−（１，３−ジメトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート（トランス/シス=78/22）1gの水10mL溶液を70℃で8時間攪拌した後、溶媒を減圧留去した。得られた油状物の水5mLおよびメタノール5mL混合溶液に、25℃でピリジン203μLおよびアニリン287μLを加え、50℃で13時間攪拌した。反応混合物にトルエンを加えた。水層を分取し、酢酸エチルで洗浄し、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物をメタノールから再結晶し、白色固体のサラシノール485mgを得た。
実施例６
Figure 0006268014
 （２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ビス（ベンジルオキシ）−２−（（ベンジルオキシ）メチル）テトラヒドロチオフェン1.24gおよびジメチル ２−（（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン−６−イル）マロナート1.01gのアセトン1.5mL溶液に、25℃で２，６−ルチジン31μLを加え、70℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（クロロホルム/メタノール=99/1〜95/5）で精製し、無色油状物の（４Ｓ，５Ｓ）−４−（（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ビス（ベンジルオキシ）−２−（（ベンジルオキシ）メチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル）−２−（１，３−ジメトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート1.32gを得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値：3.56-3.66(7H,m),3.72-3.76(2H,m),3.88-4.16(7H,m),4.24-4.38(2H,m),4.51-4.64(7H,m),4.76-4.79(1H,m),5.17(1H,d,J=7.2Hz),7.33-7.37(15H,m)
実施例７
Figure 0006268014
 （４Ｓ，５Ｓ）−４−（（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ビス（ベンジルオキシ）−２−（（ベンジルオキシ）メチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル）−２−（１，３−ジメトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート440mgのメタノール4.4mL溶液に、25℃でジエチルアミン73μLを加え、25℃で1時間攪拌した。反応混合物の溶媒を減圧留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（クロロホルム/メタノール=100/0〜92/8）で精製し、白色固体の（２Ｓ，３Ｓ）−４−（（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ビス（ベンジルオキシ）−２−（（ベンジルオキシ）メチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）−１，３−ジヒドロキシブタン−２−イル サルファート240mgを得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値：3.61-3.65(2H,m),3.74-4.05(6H,m),4.09-4.14(1H,m),4.17-4.23(1H,m),4.36-4.41(1H,m),4.50-4.80(9H,m)6.01(1H,d,J=6.0Hz),7.23-7.39(15H,m)
実施例８
Figure 0006268014
 （２Ｓ，３Ｓ）−４−（（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ビス（ベンジルオキシ）−２−（（ベンジルオキシ）メチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）−１，３−ジヒドロキシブタン−２−イル サルファート240mgの酢酸1mL溶液に、25℃で20%水酸化パラジウム/炭素24mgを加え、水素雰囲気下、50℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、不溶物を濾去した。
1H-NMRおよびHPLCを測定した結果、原料の消失およびサラシノールの生成が確認された。
実施例９
Figure 0006268014
 （２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ビス（（４−メトキシベンジル）オキシ）−２−（（（４−メトキシベンジル）オキシ）メチル）テトラヒドロチオフェン1.00gおよびジメチル ２−（（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン−６−イル）マロナート671mgのアセトン1mL溶液に、25℃で２，６−ルチジン18μLを加え、70℃で13時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（クロロホルム/メタノール=90/10）で精製し、白色固体の（４Ｓ，５Ｓ）−４−（（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ビス（（４−メトキシベンジル）オキシ）−２−（（（４−メトキシベンジル）オキシ）メチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル）−２−（１，３−ジメトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート1.10gを得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値：3.52-4.17(25H,m),4.21-4.28(2H,m),4.41-4.58(7H,m),4.64-4.69(1H,m),5.16(1H,d,J=7.5Hz),6.88-6.93(6H,m),7.16-7.28(6H,m)
実施例１０
Figure 0006268014
 （４Ｓ，５Ｓ）−４−（（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ビス（（４−メトキシベンジル）オキシ）−２−（（（４−メトキシベンジル）オキシ）メチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル）−２−（１，３−ジメトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート500mgのメタノール5.0mL溶液に、25℃でジエチルアミン74μLを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物の溶媒を減圧留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（クロロホルム/メタノール=100/0〜94/6）で精製し、白色固体の（２Ｓ，３Ｓ）−４−（（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ビス（（４−メトキシベンジル）オキシ）−２−（（（４−メトキシベンジル）オキシ）メチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）−１，３−ジヒドロキシブタン−２−イル サルファート300mgを得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値：3.49-3.99(17H,m),4.06-4.21(2H,m),4.28-4.31(1H,m),4.38-4.66(8H,m),4.76-4.79(1H,m),6.00(1H,d,J=6.0Hz),6.30-6.93(6H,m),7.16-7.28(6H,m)
実施例１１
Figure 0006268014
 （２Ｓ，３Ｓ）−４−（（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ビス（（４−メトキシベンジル）オキシ）−２−（（（４−メトキシベンジル）オキシ）メチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）−１，３−ジヒドロキシブタン−２−イル サルファート300mgのトリフルオロ酢酸1.2mLおよび水0.2mL混合溶液を25℃で2時間攪拌した。
1H-NMRおよびHPLCを測定した結果、原料の消失およびサラシノールの生成が確認された。
実施例１２
Figure 0006268014
 （４Ｓ，５Ｒ）−４−（ヒドロキシメチル）−２−フェニル−１，３−ジオキサン−５−オール5.00gおよびエトキシメチレンマロン酸ジエチル5.7gのテトラヒドロフラン50mL溶液に、25℃でｔｅｒｔ−ブトキシカリウム267mgを加え、25℃で1時間攪拌した。反応混合物にトルエンを加え、テトラヒドロフランを減圧留去した後、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=16/84〜33/67）で精製し、白色固体のジエチル ２−（（４ａＳ，８ａＲ）−６−フェニルテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３］ジオキシン−２−イル）マロナート3.54gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.24-1.31(6H,m),3.65(1H,d,J=7.8Hz),3.65-3.82(4H,m)4.19-4.27(6H,m),5.30(1H,d,J=7.8Hz),5.61(1H,s),7.35-7.39(3H,m),7.45-7.49(2H,m)
実施例１３
Figure 0006268014
 ジエチル ２−（（４ａＳ，８ａＲ）−６−フェニルテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３］ジオキシン−２−イル）マロナート3.54gのメタノール18mL溶液に、25℃で0.5mol/L塩酸／メタノール溶液800μLを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物にトリエチルアミン50μLを加え、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=33/67〜0/100）で精製し、無色油状物のジエチル ２−（（４Ｒ，５Ｓ）−５−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）−１，３−ジオキサン−２−イル）マロナート2.45gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.24-1.30(6H,m),2.37(1H,s),2.75(1Hs),3.44-3.56(2H,m),3.63(1H,d,J=7.5Hz),3.78-3.86(3H,m),4.16-4.26(5H,m),5.15(1H,d,J=7.5Hz)
実施例１４
Figure 0006268014
 ジエチル ２−（（４Ｒ，５Ｓ）−５−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）−１，３−ジオキサン−２−イル）マロナート2.45gの塩化メチレン40mL溶液に、-5℃以下でトリエチルアミン4.44mLを加えた後、塩化チオニル913μLの塩化メチレン21mL溶液を、-5℃で滴下した。5℃以下で20分攪拌した後、反応混合物に水を加えた。有機層を分取し、1mol/L塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物の塩化メチレン10mLおよびアセトニトリル10mL混合溶液を、過ヨウ素酸ナトリウム6.64gおよび塩化ルテニウム(III)n水和物52.2mgの水25mL溶液に、0℃で滴下し、20分攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、水、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムおよびシリカゲルを加え、5分攪拌した。不溶物を濾去した後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=84/16〜60/40）で精製し、白色固体のジエチル ２−（（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン−６−イル）マロナート2.10gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.25-1.30(6H,m),3.65(1H,d,J=7.8Hz),3.80(1H,dd,J=10.5,10.5Hz),4.02-4.11(1H,m),4.18-4.35(5H,m),4.52-4.57(1H,m),4.63-4.72(2H,m),5.26(1H,d,J=7.8Hz)
実施例１５
Figure 0006268014
 （２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロチオフェン−３，４−ジオール500mgおよびジエチル ２−（（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン−６−イル）マロナート1.24gのアセトン1.5mL溶液に、25℃で２，６−ルチジン31μLを加え、70℃で13時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、アセトンを加え、固形物を濾取し、白色固体の（４Ｓ，５Ｓ）−２−（１，３−ジエトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−４−（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート1.01gを得た。
1H-NMRを測定した結果、トランス／シス比は81/19であった。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値：1.19(6H,dd,J=7.0,13.6Hz),3.54-4.21(17H,m),4.45-4.51(1H,m),5.20(1H,m),5.68-5.71(1H,m),6.12-6.14(2H,m)
実施例１６
Figure 0006268014
 （４Ｓ，５Ｓ）−２−（１，３−ジエトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−４−（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート（トランス/シス=81/19）500mgの水2.5mLおよび酢酸エチル2.5mL混合溶液に、25℃でジエチルアミン123μLを加え、25℃で9時間攪拌した。水層を分取し、酢酸エチルで洗浄し、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物の1H-NMRおよびHPLCを測定した結果、サラシノールの生成が確認され、反応率は、97％であった。
実施例１７
Figure 0006268014
 （３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−５−(ヒドロキシメチル)テトラヒドロフラン−２,３,４−トリオール120gのメタノール840mL溶液に、10℃以下で、アセチルクロリド22.0mLを滴下し、20〜30℃で2時間攪拌した。反応混合物に28％ナトリウムメトキシド／メタノール溶液63mLを加え、メタノールを減圧留去し、アセトニトリル800mLおよびｐ−トルエンスルホニルクロリド480gを加えた。内温を25℃以下に保ちながらトリエチルアミン323mLおよびＮ−メチルイミダゾール25.2mLの混合物を滴下した後、30℃で2.5時間攪拌した。反応混合物に水900mLを加え、30℃で2時間攪拌し、酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、25％塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物にエタノール1.9Lを加え、加熱溶解し、冷却しながら晶析させた。内温35℃でメタノール800mLを加え、25℃で2時間攪拌した。固形物を濾取し、白色固体の（３Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）−２−メトキシ−５−（（（４−メチルフェニル）スルホニルオキシ）メチル）テトラヒドロフラン−３，４−ジイル ビス（４−メチルベンゼンスルホナート）47gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.77-7.64(6H,m),7.41-7.32(6H,m),5.04(0.26H,t,J=6.9Hz),4.79(0.74H,dd,J=1.2,6.0Hz),4.80-4.65(2H,m),4.43(0.74H,m),4.34(0.26H,m),4.25-4.19(0.26H,m),4.12-4.04(1.74H,m),3.21(0.78H,s),3.16(2.22H,s),2.48-2.45(3H,m).
実施例１８
Figure 0006268014
 （３Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）−２−メトキシ−５−（（（４−メチルフェニル）スルホニルオキシ）メチル）テトラヒドロフラン−３，４−ジイル ビス（４−メチルベンゼンスルホナート）200gのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド585mL溶液に窒素雰囲気下でチオ酢酸Ｓ−カリウム65.6gを加え、70℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水、25％塩化ナトリウム水溶液および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、7.5％炭酸水素ナトリウム水溶液、1mol/L塩酸および25％塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、活性炭3gで処理した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去し、赤褐色油状物のＳ−（（（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）−５−メトキシ−３，４−ビス（（４−メチルフェニル）スルホニルオキシ）テトラヒドロフラン−２−イル）メチル） エタンチオアート161.5gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.79-7.69(4H,m),7.40-7.32(4H,m),5.04-4.75(3H,m),4.33-4.26(1H,m),3.24(2.13H,s),3.22(0.87H,s),3.19-2.98(2H,m),2.75-2.45(6H,m),2.31(0.87H,s),2.29(2.13H,s).
実施例１９
Figure 0006268014
 Ｓ−（（（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）−５−メトキシ−３，４−ビス（（４−メチルフェニル）スルホニルオキシ）テトラヒドロフラン−２−イル）メチル） エタンチオアート119gのメタノール463mL溶液に窒素雰囲気下で炭酸カリウム30.2gを加え、25℃で1時間攪拌した後、60℃で1時間攪拌した。反応混合物を15℃に冷却し、25℃以下で50％水酸化ナトリウム水溶液170gを滴下した。反応混合物を60℃で1時間攪拌した後、10℃に冷却した。不溶物を濾去し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物にトルエンを加え、溶媒を減圧留去し、赤褐色油状物の（1Ｓ，４Ｓ，7Ｓ）−３−メトキシ−２−オキサ−５−チアビシクロ［２．２．１］ヘプタン−７−オール35.4gを得た。
得られた（1Ｓ，４Ｓ，7Ｓ）−３−メトキシ−２−オキサ−５−チアビシクロ［２．２．１］ヘプタン−７−オールに、トルエン213mL、テトラブチルアンモニウムクロリド1.82gおよび50％水酸化ナトリウム水溶液70.4gを加えた。混合物を10℃に冷却し、攪拌した後、ｐ−トルエンスルホニルクロリド37.1gを、内温15℃以下を保ちながら滴下した。混合物を25℃に昇温し、水およびトルエンを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物にトルエンおよび水を加えた。有機層を分取し、25％塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、活性炭3gで処理した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去し、橙色油状物の（1Ｓ，４Ｓ，7Ｓ）−３−メトキシ−２−オキサ−５−チアビシクロ［２．２．１］ヘプタン−７−イル ４−メチルベンゾアート38.6gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.94-7.89(2H,m),7.27-7.22(2H,m),5.58(0.37H,t)5.43(0.63H,t),5.34(0.63H,d,J=2.4Hz),4.97(0.37H,s),4.74-4.71(0.37H,m),4.67-4.65(0.63H,m),3.81(0.63H,t,J=2.4Hz),3.59(0.37H,d,J=2.4Hz),3.54(1.89H,s),3.40(1.11H,s),3.09(1.26H,d,J=1.5Hz)3.02-2.91(0.74H,m),2.41(3H,s).
実施例２０
Figure 0006268014
 （1Ｓ，４Ｓ，7Ｓ）−３−メトキシ−２−オキサ−５−チアビシクロ［２．２．１］ヘプタン−７−イル ４−メチルベンゾアート38.6gのテトラヒドロフラン386mL溶液に2mol/L塩酸77mLを加え、50℃で1時間攪拌した。反応混合物を5℃に冷却し、炭酸水素ナトリウム15.6gを加えた後、水素化ホウ素ナトリウム10.4gを内温を20℃以下に保ちながら加えた。同温度で10分攪拌した後、25℃で1.5時間攪拌した。反応混合物を5℃に冷却し、6mol/L塩酸75mLを内温を20℃以下に保ちながら滴下した。酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、25％塩化ナトリウム水溶液、7.5％炭酸水素ナトリウム水溶液および25％塩化ナトリウム水溶液の混合液ならびに25％塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物に酢酸エチル50mLを加え、加熱溶解した後、ヘキサン100mLを加えた。固形物を濾取し、白色固体の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロチオフェン−３−イル ４−メチルベンゾアート12.2gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.90(2H,d,J=7.8Hz),7.25(2H,d,J=7.8Hz),5.37(1H,t,J=2.7Hz),4.55-4.47(1H,m),4.15-4.06(1H,m),4.03-3.97(1H,m),3.79-3.73(1H,m),3.69-3.66(1H,m),3.34-3.28(1H,m),3.08-3.02(1H,m),2.91(1H,br),2.42(3H,s).
実施例２１
Figure 0006268014
 （２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロチオフェン−３−イル ４−メチルベンゾアート2.68gをメタノール15mLおよびテトラヒドロフラン10mLの混合液に溶解し、28％ナトリウムメトキシド／メタノール溶液58mgを加え、室温で4時間攪拌した。溶媒を減圧留去した。得られた残留物に酢酸エチルおよび水を加えた。水層を分取し、酢酸エチルで洗浄した。有機層を水で抽出した。水層および抽出液を併せ、減圧下で水を留去し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロチオフェン−３,４−ジオール1.48gを得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値：5.12(1H,d,J=4.5Hz),5.08(1H,d,J=4.5Hz),4.82(1H,t),3.99-3.92(1H,m),3.76-3.68(2H,m),3.39-3.31(1H,m),3.11-3.04(1H,m),2.91-2.84(1H,m),2.59-2.52(1H,m).
実施例２２
Figure 0006268014
 １−フェニルエタン−１，２−ジオール10ｇおよびメトキシメチレンマロン酸ジメチル10.2gのテトラヒドロフラン50mL溶液に、25℃でｔｅｒｔ−ブトキシカリウム2.4gを加え、25℃で5.5時間攪拌した。反応混合物にトルエン40mLを加え、テトラヒドロフランを減圧留去した後、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、水および１mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、無色油状物のジメチル ２−（４−フェニル−１，３−ジオキソラン−２−イル）マロナート6.2gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：
7.39-7.33(5H,m),5.90(0.5H,d,J=6.9Hz),5.73(0.5H,d,J=6.9Hz),5.11(1H,m),4.44-4.25(1H,m),3.80-3.78(6H,m),3.77-3.72(2H,m).
実施例２３
Figure 0006268014
 （２３−１）
ジメチル ２−（４−フェニル−１，３−ジオキソラン−２−イル）マロナート280mgの酢酸エチル2mLおよび水2mL溶液に、25℃でジエチルアミン146mgを加え、25℃で2時間攪拌した。有機層を分取し、水、１mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物の1H-NMRを測定した結果、１−フェニルエタン−１，２−ジオールの生成が確認され、反応率は96％であった。
（２３−２）
ジメチル ２−（４−フェニル−１，３−ジオキソラン−２−イル）マロナート280mgのメタノール2mL溶液に、25℃で28％ナトリウムメトキシド／メタノール溶液232mgを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、水、１mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物の1H-NMRを測定した結果、１−フェニルエタン−１，２−ジオールの生成が確認され、反応率は100％であった。
（２３−３）
ジメチル ２−（４−フェニル−１，３−ジオキソラン−２−イル）マロナート280mgのメタノール2mL溶液に、25℃で炭酸カリウム166mgを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、水、１mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物の1H-NMRを測定した結果、１−フェニルエタン−１，２−ジオールの生成が確認され、反応率は93％であった。
（２３−４）
ジメチル ２−（４−フェニル−１，３−ジオキソラン−２−イル）マロナート280mgのメタノール2mL溶液に、25℃で炭酸水素ナトリウム100mgを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、水、１mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。
得られた残留物の1H-NMRを測定した結果、１−フェニルエタン−１，２−ジオールの生成が確認され、反応率は92％であった。
本発明の化合物は、生理活性物質として有用なサラシノールを製造するための中間体として有用であり、本発明の製造法は、サラシノールの製造法として有用である。

Claims (12)

  1. 一般式（１）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、同一または異なって、水素原子、または置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数２〜６のアルケニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、または置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいシリル基からなる群から選択される少なくとも１種であるカルボキシ保護基であり；Ｒ2は、ヒドロキシ基であり、且つ、Ｒ3は、ヒドロキシ基であるか；Ｒ2は、一般式（２）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、同一または異なって、水素原子、または置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数２〜６アルケニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいアリールスルホニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいテトラヒドロフラニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいテトラヒドロピラニル基または置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいシリル基からなる群から選択される少なくとも１種であるヒドロキシ保護基であり；＊は、結合位置である。）で表される基であり、且つ、Ｒ3は、式（３）
    Figure 0006268014
     （式中、＊は、結合位置である。）で表される基であるか；または、Ｒ2およびＲ3は、一緒になって、一般式（４）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｘ1は、一般式（５）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｒ5は、置換されてもよいアリール基であり；＊は、結合位置である。）で表される基または式（６）
    Figure 0006268014
     （式中、＊は、結合位置である。）で表される基であり；＊は、結合位置である。）で表される基である。）で表される化合物。
    置換基群Ａ：
    ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキルアミノ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいジ（炭素数１〜６のアルキル）アミノ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキルチオ基
    置換基群Ｂ：
    ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子で置換されてもよいアリール基、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基
  2. Ｒ1aおよびＲ1bが、同一または異なって、前記カルボキシ保護基である、請求項１に記載の化合物。
  3. Ｒ2およびＲ3が、ヒドロキシ基である、請求項１または２に記載の化合物。
  4. Ｒ2が、一般式（２）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、同一または異なって、水素原子または前記ヒドロキシ保護基であり；＊は、結合位置である。）で表される基であり；
    Ｒ3が、式（３）
    Figure 0006268014
     （式中、＊は、結合位置である。）で表される基である、請求項１または２に記載の化合物。
  5. Ｒ2およびＲ3が、一緒になって、一般式（４）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｘ1は、一般式（５）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｒ5は、置換されてもよいアリール基であり；＊は、結合位置である。）で表される基または式（６）
    Figure 0006268014
     （式中、＊は、結合位置である。）で表される基であり；＊は、結合位置である。）で表される基である、請求項１または２に記載の化合物。
  6. Ｒ5が、置換されてもよいフェニル基である、請求項１、２または５に記載の化合物。
  7. 化合物が、
    ジメチル ２−（（４ａＳ，８ａＲ）−６−フェニルテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３］ジオキシン−２−イル）マロナート、ジメチル ２−（（４Ｒ，５Ｓ）−５−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）−１，３−ジオキサン−２−イル）マロナート、ジメチル ２−（（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン−６−イル）マロナート、（４Ｓ，５Ｓ）−４−（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル−２−（１，３−ジメトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート、（４Ｓ，５Ｓ）−４−（（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ビス（ベンジルオキシ）−２−（（ベンジルオキシ）メチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル）−２−（１，３−ジメトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート、（４Ｓ，５Ｓ）−４−（（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ビス（（４−メトキシベンジル）オキシ）−２−（（（４−メトキシベンジル）オキシ）メチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル）−２−（１，３−ジメトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファート、ジエチル ２−（（４ａＳ，８ａＲ）−６−フェニルテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３］ジオキシン−２−イル）マロナート、ジエチル ２−（（４Ｒ，５Ｓ）−５−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）−１，３−ジオキサン−２−イル）マロナート、ジエチル ２−（（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４−ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン−６−イル）マロナートおよび（４Ｓ，５Ｓ）−２−（１，３−ジエトキシ−１，３−ジオキソプロパン−２−イル）−４−（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−２−（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ−１Ｈ−チオフェン−１−イウム−１−イル）メチル）−１，３−ジオキサン−５−イル サルファートから選択される化合物である、請求項１に記載の化合物。
  8. 一般式（１ａ）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、同一または異なって、水素原子、または置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数２〜６のアルケニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、または置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいシリル基からなる群から選択される少なくとも１種であるカルボキシ保護基である。）で表される化合物を、一般式（７）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、同一または異なって、水素原子、または置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数２〜６アルケニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいアリールスルホニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいテトラヒドロフラニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいテトラヒドロピラニル基または置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいシリル基からなる群から選択される少なくとも１種であるヒドロキシ保護基である。）で表される化合物と反応させ、一般式（１ｂ）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｒ1a、Ｒ1b、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、前記と同一の意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ｂ）で表される化合物を脱保護反応させることを特徴とする、サラシノールの製造法。
    置換基群Ａ：
    ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキルアミノ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいジ（炭素数１〜６のアルキル）アミノ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキルチオ基
    置換基群Ｂ：
    ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子で置換されてもよいアリール基、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基
  9. Ｒ1aおよびＲ1bが、前記カルボキシ保護基であり；Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cが、水素原子である、請求項８に記載の製造法。
  10. 一般式（８）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｒ5は、置換されてもよいアリール基である。）で表される化合物を、一般式（９）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、同一または異なって、水素原子、または置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数２〜６のアルケニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、または置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいシリル基からなる群から選択される少なくとも１種であるカルボキシ保護基であり；Ｒ6は、置換されてもよいＣ1-6アルキル基である。）で表される化合物と反応させ、一般式（１ｃ）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよびＲ5は、前記と同一の意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ｃ）で表される化合物を、脱保護反応させ、一般式（１ｄ）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、前記と同一の意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ｄ）で表される化合物を、硫黄含有化合物と反応させ、必要に応じて酸化反応させ、一般式（１ａ）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、前記と同一の意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ａ）で表される化合物を、一般式（７）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、同一または異なって、水素原子、または置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数２〜６アルケニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいアリールスルホニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいテトラヒドロフラニル基、置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいテトラヒドロピラニル基または置換基群Ａから選ばれる１つ以上の置換基で置換されてもよいシリル基からなる群から選択される少なくとも１種であるヒドロキシ保護基である。）で表される化合物と反応させ、一般式（１ｂ）
    Figure 0006268014
     （式中、Ｒ1a、Ｒ1b、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、前記と同一の意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ｂ）で表される化合物を脱保護反応させることを特徴とする、サラシノールの製造法。
    置換基群Ａ：
    ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキルアミノ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいジ（炭素数１〜６のアルキル）アミノ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキルチオ基
    置換基群Ｂ：
    ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子で置換されてもよいアリール基、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基
  11. Ｒ5が、置換されてもよいフェニル基である、請求項１０に記載の製造法。
  12. Ｒ1aおよびＲ1bが、前記カルボキシ保護基であり；Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cが、水素原子である、請求項１０または１１に記載の製造法。
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