JP6626732B2 - スパッタリングターゲット材 - Google Patents
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- 239000013077 target material Substances 0.000 title claims description 54
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 title claims description 53
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 25
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 36
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 7
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 4
- 238000013001 point bending Methods 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018657 Mn—Al Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- 229910020632 Co Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020678 Co—Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018669 Mn—Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018645 Mn—Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000001192 hot extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 1
- 238000002490 spark plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
- C22C1/04—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
- B22F3/12—Both compacting and sintering
- B22F3/14—Both compacting and sintering simultaneously
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C22/00—Alloys based on manganese
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C23/00—Alloys based on magnesium
- C22C23/02—Alloys based on magnesium with aluminium as the next major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C23/00—Alloys based on magnesium
- C22C23/04—Alloys based on magnesium with zinc or cadmium as the next major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C30/00—Alloys containing less than 50% by weight of each constituent
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2301/00—Metallic composition of the powder or its coating
- B22F2301/05—Light metals
- B22F2301/058—Magnesium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2998/00—Supplementary information concerning processes or compositions relating to powder metallurgy
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2998/00—Supplementary information concerning processes or compositions relating to powder metallurgy
- B22F2998/10—Processes characterised by the sequence of their steps
-
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- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
- B22F3/12—Both compacting and sintering
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- B22F3/15—Hot isostatic pressing
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
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Description
(1)Mnを含む粉末焼結体において、A群としてGa,Zn,Sn,Ge,Al,Coの1種または2種以上を合計で1.5〜75at%、B群としてFe,Ni,Cu,Ti,V,Cr,Si,Y,Zr,Nb,Mo,Ru,Rh,Pd,Ag,In,Ta,W,Re,Ir,Pt,Au,Bi,La,Ce,Nd,Sm,Gd,Tb,Dy,Hoの1種または2種以上を合計で0〜62at%、Mnを10〜98.5at%含有し、残部が不可避不純物である焼結体からなることを特徴とするスパッタリングターゲット材。
なお「上記のMnとの原子比にある1種以外のA群の元素(ただしこの元素は上記のMnとの原子比を満たす元素か満たさない元素かを問わない)の小計」とあるが、もしA群が1種しかない場合にはこの小計は0at%となる。
に記載のスパッタリングターゲット材。
(4)Mn相は、大きさが2μm以上の相が3000平方μm当たり1個以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1に記載のスパッタリングターゲット材。
(5)抗折強度100MPa以上、相対密度90%以上である焼結体からなることを特徴とする前記(1)〜(4)のいずれか1に記載のスパッタリングターゲット材にある。
A群:Ga,Zn,Sn,Ge,Al,Coの1種または2種以上を合計で1.5〜75at%
A群元素については、上記合計量を1.5〜75at%とした。しかし、1.5at%未満ではMnと存在する場合に靱性のあるスパッタリングターゲット材を十分得ることができない。また、75at%を超えるとその効果が飽和することから、その範囲とした。
B群元素は、それぞれ靱性を高めるために選択的に追加して添加できる元素である。このB群元素については、上記合計量を0〜62at%とした。しかし、62at%を超えるとMnとの存在下で靱性のあるスパッタリングターゲット材を得る、その効果が飽和することから上限を定めた。より効果を望む場合は0〜50at%、さらに望む場合は0〜45at%とする。
Mnは、靱性の高いスパッタリングターゲット材となる。しかし、10at%未満では、その効果が十分でなく、また、98.5at%を超えるとその効果を十分に発揮することができない。したがって、その範囲を10〜98.5at%とした。
のスパッタリングターゲット材である。
また、Mn相は、大きさが2μm以上の相が3000平方μm当たり1個以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1に記載のスパッタリングターゲット材である。
また、Mn相は、上記条件範囲で靱性のあるスパッタリングターゲット材を得ることができる。しかし、大きさが2μm未満、個数が3000μm2当たり1個未満、面積率が10%未満では十分な靱性のあるスパッタリングターゲット材を得ることができない。
スパッタリングターゲット材として用いるには抗折強度100MPa以上であることが必要である。しかし抗折強度100MPa未満では脆く使用するには十分でない。したがって、抗折強度を100MPa以上とした。望ましくは120〜400MPaとした。また、スパッタリングターゲット材として用いるには相対密度が90%以上である焼結体を得ることが必要である。望ましくは95%以上、さらに望ましくは98%以上である。
m1〜miはそれぞれスパッタリングターゲット材の構成物質の含有量(重量%)を示し、ρ〜ρiはm1〜miに対応する各構成物質の密度(g/cm3 )を示す)。
スパッタリングターゲット材の組織の組成比が請求項に示す範囲にあるかはエネルギー分散型蛍光X線分析装置(EDX)にて調査し、表中の組成比とした。拡散により表1〜4中の組成比欄に示す以外の元素も検出したが、その量は20at%以下であることを確認した。
三点曲げ強度(MPa)=(3×応力(N)×支点間距離(mm)/(2×試験片の幅(mm)×(試験片厚さ(mm)2 )
表1〜4のNo.1〜No.54については、表中に示す原料粉末を表1〜4のNo.1〜No.48のスパッタリングターゲット材組成に示す組成になるよう配合し、V型混合器で30分まぜることで、表1〜4のNo.1〜No.48に示すスパッタリングターゲット材組成とした後、外径220mm、内径210mm、長さ200mmのSC製の缶に脱気装入した。なお原料粉末は溶解原料を秤量し、減圧Arガス雰囲気あるいは真空雰囲気の耐火物坩堝内で誘導加熱溶解した後、坩堝下部の直径8mmのノズルより出湯し、Arガスによりアトマイズした。このガスアトマイズ粉末の500μm以上の成形に向かない粗粉を除去したものを原料粉末としている。
表6に示すNo.79〜83及びNo.85〜87は比較例を示す。
特許出願人 山陽特殊製鋼株式会社
代理人 弁理士 椎 名 彊
Claims (2)
- Mnを含む粉末焼結体において、A群としてGa,Zn,Sn,Ge,Al,Coの1種または2種以上を合計で1.5〜75at%、B群としてFe,Ni,Cu,Ti,V,Cr,Si,Y,Zr,Nb,Mo,Ru,Rh,Pd,Ag,In,Ta,W,Re,Ir,Pt,Au,Bi,La,Ce,Nd,Sm,Gd,Tb,Dy,Hoの1種または2種以上を合計で0〜62at%、Mnを10〜98.5at%含有し、残部が不可避不純物である焼結体からなり、
Mn相が、MnとA群の原子量比がMn:Ga=98:2〜73:27、Mn:Zn=98:2〜65:35、Mn:Sn=98.5:1.5〜76:24、Mn:Ge=98.5:1.5〜79:21、Mn:Al=98:2〜49:51、Mn:Co=96:4〜51:49のいずれか少なくとも1種を満足する比でA群の元素を含有し、かつ上記のMnとの原子比にある1種以外のA群の元素(ただしこの元素は上記のMnとの原子比を満たす元素か満たさない元素かを問わない)の小計、およびB群の元素が1種または2種以上の小計との合計が20at%以下含有する相であり、
上記Mn相が、面積率で10%以上であり、
上記Mn相が、大きさが2μm以上の相が3000平方μm当たり1個以上であることを特徴とするスパッタリングターゲット材。 - 抗折強度100MPa以上、相対密度90%以上である焼結体からなることを特徴とすることを特徴とする請求項1に記載のスパッタリングターゲット材。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201680038366.5A CN107735504B (zh) | 2015-06-29 | 2016-06-29 | 溅射靶材 |
SG11201710836UA SG11201710836UA (en) | 2015-06-29 | 2016-06-29 | Sputtering target material |
TW105120600A TW201715052A (zh) | 2015-06-29 | 2016-06-29 | 濺鍍靶材 |
US15/740,474 US20180187291A1 (en) | 2015-06-29 | 2016-06-29 | Sputtering Target Material |
PCT/JP2016/069261 WO2017002851A1 (ja) | 2015-06-29 | 2016-06-29 | スパッタリングターゲット材 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015129474 | 2015-06-29 | ||
JP2015129474 | 2015-06-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017014612A JP2017014612A (ja) | 2017-01-19 |
JP6626732B2 true JP6626732B2 (ja) | 2019-12-25 |
Family
ID=57829176
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016029731A Active JP6626732B2 (ja) | 2015-06-29 | 2016-02-19 | スパッタリングターゲット材 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20180187291A1 (ja) |
JP (1) | JP6626732B2 (ja) |
CN (1) | CN107735504B (ja) |
SG (1) | SG11201710836UA (ja) |
TW (1) | TW201715052A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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---|---|---|---|---|
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CN109989045B (zh) * | 2019-05-14 | 2021-07-30 | 沈阳东创贵金属材料有限公司 | 一种用于真空磁控溅射的铝银合金靶材及其制备方法 |
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-
2016
- 2016-02-19 JP JP2016029731A patent/JP6626732B2/ja active Active
- 2016-06-29 CN CN201680038366.5A patent/CN107735504B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2016-06-29 TW TW105120600A patent/TW201715052A/zh unknown
- 2016-06-29 US US15/740,474 patent/US20180187291A1/en not_active Abandoned
- 2016-06-29 SG SG11201710836UA patent/SG11201710836UA/en unknown
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2807816C1 (ru) * | 2023-02-13 | 2023-11-21 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный научно-исследовательский институт конструкционных материалов "Прометей" имени И.В. Горынина Национального исследовательского центра "Курчатовский институт" (НИЦ "Курчатовский институт" - ЦНИИ КМ "Прометей") | Резистивный сплав на основе марганца |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107735504B (zh) | 2019-11-01 |
TW201715052A (zh) | 2017-05-01 |
CN107735504A (zh) | 2018-02-23 |
SG11201710836UA (en) | 2018-02-27 |
US20180187291A1 (en) | 2018-07-05 |
JP2017014612A (ja) | 2017-01-19 |
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