JP6625692B2 - フォトマスクブランクおよびその製造方法、フォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 - Google Patents

フォトマスクブランクおよびその製造方法、フォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6625692B2
JP6625692B2 JP2018105981A JP2018105981A JP6625692B2 JP 6625692 B2 JP6625692 B2 JP 6625692B2 JP 2018105981 A JP2018105981 A JP 2018105981A JP 2018105981 A JP2018105981 A JP 2018105981A JP 6625692 B2 JP6625692 B2 JP 6625692B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
layer
film
shielding film
chromium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018105981A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2019020712A (ja
Inventor
誠治 坪井
誠治 坪井
真実 中村
真実 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd
Original Assignee
Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd filed Critical Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd
Priority to TW107121660A priority Critical patent/TWI733033B/zh
Priority to TW110122482A priority patent/TWI755337B/zh
Priority to KR1020180078757A priority patent/KR102277835B1/ko
Priority to CN201810770791.4A priority patent/CN109254496B/zh
Publication of JP2019020712A publication Critical patent/JP2019020712A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6625692B2 publication Critical patent/JP6625692B2/ja
Priority to KR1020210089648A priority patent/KR102365488B1/ko
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
JP2018105981A 2017-07-14 2018-06-01 フォトマスクブランクおよびその製造方法、フォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 Active JP6625692B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW107121660A TWI733033B (zh) 2017-07-14 2018-06-25 光罩基底及其製造方法、光罩之製造方法、以及顯示裝置製造方法
TW110122482A TWI755337B (zh) 2017-07-14 2018-06-25 光罩基底、光罩之製造方法、以及顯示裝置製造方法
KR1020180078757A KR102277835B1 (ko) 2017-07-14 2018-07-06 포토마스크 블랭크 및 그 제조 방법, 포토마스크의 제조 방법, 그리고 표시 장치의 제조 방법
CN201810770791.4A CN109254496B (zh) 2017-07-14 2018-07-13 光掩模坯料及其制造方法、光掩模的制造方法、以及显示装置的制造方法
KR1020210089648A KR102365488B1 (ko) 2017-07-14 2021-07-08 포토마스크 블랭크 및 그 제조 방법, 포토마스크의 제조 방법, 그리고 표시 장치의 제조 방법

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017138064 2017-07-14
JP2017138064 2017-07-14

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019214087A Division JP6823703B2 (ja) 2017-07-14 2019-11-27 フォトマスクブランクおよびその製造方法、フォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019020712A JP2019020712A (ja) 2019-02-07
JP6625692B2 true JP6625692B2 (ja) 2019-12-25

Family

ID=65355633

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018105981A Active JP6625692B2 (ja) 2017-07-14 2018-06-01 フォトマスクブランクおよびその製造方法、フォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP2019214087A Active JP6823703B2 (ja) 2017-07-14 2019-11-27 フォトマスクブランクおよびその製造方法、フォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019214087A Active JP6823703B2 (ja) 2017-07-14 2019-11-27 フォトマスクブランクおよびその製造方法、フォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法

Country Status (2)

Country Link
JP (2) JP6625692B2 (zh)
TW (1) TWI733033B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019117376A (ja) * 2017-12-26 2019-07-18 Hoya株式会社 フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP2020064304A (ja) * 2017-07-14 2020-04-23 Hoya株式会社 フォトマスクブランクおよびその製造方法、フォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI755337B (zh) * 2017-07-14 2022-02-11 日商Hoya股份有限公司 光罩基底、光罩之製造方法、以及顯示裝置製造方法
JP2021004920A (ja) * 2019-06-25 2021-01-14 Hoya株式会社 マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法
JP7463183B2 (ja) * 2019-06-26 2024-04-08 Hoya株式会社 マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法
KR20220024004A (ko) * 2019-06-27 2022-03-03 호야 가부시키가이샤 박막 부착 기판, 다층 반사막 부착 기판, 반사형 마스크 블랭크, 반사형 마스크 및 반도체 장치의 제조 방법
JP7356857B2 (ja) * 2019-09-30 2023-10-05 アルバック成膜株式会社 マスクブランクス及びフォトマスク
JP7422579B2 (ja) * 2020-03-24 2024-01-26 Hoya株式会社 フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
US20220317554A1 (en) * 2021-04-06 2022-10-06 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photomask blank, method for producing photomask, and photomask
JP2023050611A (ja) 2021-09-30 2023-04-11 株式会社エスケーエレクトロニクス フォトマスク及びフォトマスクの製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4933753B2 (ja) * 2005-07-21 2012-05-16 信越化学工業株式会社 位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスクならびにこれらの製造方法
JP5004283B2 (ja) * 2006-05-15 2012-08-22 Hoya株式会社 Fpdデバイス製造用マスクブランク、fpdデバイス製造用マスクブランクの設計方法、及び、fpdデバイス製造用マスクの製造方法
US20080041716A1 (en) * 2006-08-18 2008-02-21 Schott Lithotec Usa Corporation Methods for producing photomask blanks, cluster tool apparatus for producing photomask blanks and the resulting photomask blanks from such methods and apparatus
US8512916B2 (en) * 2008-03-31 2013-08-20 Hoya Corporation Photomask blank, photomask, and method for manufacturing photomask blank
JP6544943B2 (ja) * 2014-03-28 2019-07-17 Hoya株式会社 マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク、および半導体デバイスの製造方法
JP6594742B2 (ja) * 2014-11-20 2019-10-23 Hoya株式会社 フォトマスクブランク及びそれを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP6301383B2 (ja) * 2015-03-27 2018-03-28 Hoya株式会社 フォトマスクブランク及びこれを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP6625692B2 (ja) * 2017-07-14 2019-12-25 Hoya株式会社 フォトマスクブランクおよびその製造方法、フォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020064304A (ja) * 2017-07-14 2020-04-23 Hoya株式会社 フォトマスクブランクおよびその製造方法、フォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP2019117376A (ja) * 2017-12-26 2019-07-18 Hoya株式会社 フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP7113724B2 (ja) 2017-12-26 2022-08-05 Hoya株式会社 フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP6823703B2 (ja) 2021-02-03
TW201908125A (zh) 2019-03-01
JP2020064304A (ja) 2020-04-23
TWI733033B (zh) 2021-07-11
JP2019020712A (ja) 2019-02-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6625692B2 (ja) フォトマスクブランクおよびその製造方法、フォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
KR102365488B1 (ko) 포토마스크 블랭크 및 그 제조 방법, 포토마스크의 제조 방법, 그리고 표시 장치의 제조 방법
KR101824291B1 (ko) 위상 시프트 마스크 블랭크 및 그 제조 방법, 위상 시프트 마스크 및 그 제조 방법과 표시 장치의 제조 방법
KR20140114797A (ko) 위상 시프트 마스크 블랭크 및 그 제조 방법, 위상 시프트 마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법
KR20180032196A (ko) 포토마스크 블랭크, 포토마스크 블랭크의 제조 방법, 및 그들을 사용한 포토마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법
JP7335400B2 (ja) フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
JP7204496B2 (ja) 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
CN108241251B (zh) 相移掩模坯料、相移掩模制造方法及显示装置制造方法
JP2021144237A (ja) 位相シフトマスクブランクおよびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP2021144146A (ja) フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法
JP7113724B2 (ja) フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP2019148789A (ja) 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
JP2020140106A (ja) フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法
CN108319104B (zh) 显示装置制造用相移掩模坯料、显示装置制造用相移掩模的制造方法及显示装置的制造方法
JP7422579B2 (ja) フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP2019061106A (ja) 位相シフトマスクブランク及びそれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP2023122806A (ja) マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
TW202235996A (zh) 相移光罩基底、相移光罩之製造方法及顯示裝置之製造方法
JP2022083394A (ja) 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法
JP2021067728A (ja) フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法
CN115903365A (zh) 光掩模坯料、光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法
JP2020046468A (ja) 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20180601

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190208

TRDD Decision of grant or rejection written
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20191023

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20191029

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20191127

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6625692

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250