JP6623557B2 - Icp分析装置 - Google Patents
Icp分析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6623557B2 JP6623557B2 JP2015107622A JP2015107622A JP6623557B2 JP 6623557 B2 JP6623557 B2 JP 6623557B2 JP 2015107622 A JP2015107622 A JP 2015107622A JP 2015107622 A JP2015107622 A JP 2015107622A JP 6623557 B2 JP6623557 B2 JP 6623557B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- unit
- torch
- output frequency
- plasma torch
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/71—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
- G01N21/73—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited using plasma burners or torches
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/105—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation, Inductively Coupled Plasma [ICP]
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/0006—Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature
- H05H1/0012—Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature using electromagnetic or particle radiation, e.g. interferometry
- H05H1/0037—Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature using electromagnetic or particle radiation, e.g. interferometry by spectrometry
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/30—Plasma torches using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Description
a) 前記電力供給部の出力周波数を測定する周波数測定部と、
b) プラズマトーチの種類毎の基準出力周波数が保存されている記憶部と、
c) 前記周波数測定部が測定したプラズマ点灯後の測定出力周波数が、前記記憶部に保存されている基準出力周波数のいずれかと一致するか否かを判定し、通知するトーチ判定部と
を備えることを特徴とする。
試料の分析を行う際に、オペレータはプラズマトーチをICP分析装置の所定の箇所にセットするとともに、セットしたプラズマトーチの種類を制御部に設定する。このとき誤って、制御部に設定するプラズマトーチの種類を実際にセットしたものと異なるものとした場合、あるいは、制御部に設定するプラズマトーチと異なる種類のプラズマトーチをセットした場合、周波数測定部により測定された周波数は設定されたプラズマトーチに対応する基準周波数及び、その他のいずれのプラズマトーチの基準周波数とも異なる値となる。トーチ判定部はこれを検出し、その旨を通知する。通知は、モニタなどの表示装置、ランプ等による表示や、スピーカによる警告音等でもよいし、通信により遠方に通知するというものであってもよい。
a) 前記電力供給部の出力周波数を測定する周波数測定部と、
b) プラズマトーチの種類毎のプラズマ点灯前と後の出力周波数の差である基準出力周波数差が保存されている記憶部と、
c) 前記周波数測定部が測定したプラズマ点灯前と後の測定出力周波数の差が、前記記憶部に保存されている基準出力周波数差のいずれかと一致するか否かを判定し、通知するトーチ判定部と
を備えることを特徴とする。
また、第1の実施例においてトーチ判定部を設けたり、第2の実施例においてトーチ判定部を設けずに、時間経過によりプラズマの点灯の判定を行ってもよい。
さらに第1の実施例のプラズマ点灯後の出力周波数に基づいてプラズマトーチの種類を判定する構成にトーチ自動設定部を設け、自動でトーチを設定する構成とすることもできる。また、第2の実施例のプラズマ点灯前後の出力周波数差に基づいてプラズマトーチの種類を判定する構成に電力供給停止部を設け、オペレータが予め設定したプラズマトーチと装着されているプラズマトーチの種類が異なると判定された場合に電力供給部の電力供給を自動で停止させる構成としてもよい。
110、210…プラズマトーチ
111、211…誘導コイル
120、220…電力供給部
121、221…周波数測定部
130、230…制御部
131、231…パラメータ設定部
132、232…トーチ判定部
133…電力供給停止部
234…トーチ自動設定部
137、237…入力部
138、238…表示部
140、240…試料導入部
150、250…ガス流量制御部
160、260…データ処理部
171、271…分光器
172、272…検出器
280…トーチ点灯検出部
190、290…記憶部
191、291…パラメータ設定値
192…基準出力周波数
292…基準出力周波数差
Claims (7)
- プラズマトーチに巻回された誘導コイルにプラズマ生成用高周波電力を供給する自励発
振方式の電力供給部を具備するICP分析装置において、
a) 前記電力供給部の出力周波数を測定する周波数測定部と、
b) プラズマトーチの種類毎のプラズマ点灯前と後の出力周波数の差である基準出力周
波数差が保存されている記憶部と、
c) 前記周波数測定部が測定したプラズマ点灯前と後の測定出力周波数の差が、前記記
憶部に保存されている基準出力周波数差のいずれかと一致するか否かを判定し、通知する
トーチ判定部と
を備えることを特徴とするICP分析装置。 - 更に、
d) 前記プラズマトーチのプラズマ点灯を検出するトーチ点灯検出部と
を備えることを特徴とする請求項1に記載のICP分析装置。 - 更に、
e) 前記トーチ判定部において判定を行った基準出力周波数差に対応するプラズマトー
チの種類が、前記ICP分析装置に装着されたプラズマトーチの種類と異なると判定され
た場合に、別の種類のプラズマトーチの基準出力周波数差に自動で切り換えるトーチ自動
設定部と
を備えることを特徴とする請求項1に記載のICP分析装置。 - 更に、
f) 前記トーチ判定部において判定を行った基準出力周波数差に対応するプラズマトー
チの種類が、前記ICP分析装置に装着されたプラズマトーチの種類と異なると判定され
た場合に、装着されたプラズマトーチに最適なパラメータ設定値に自動で変更する制御部
、
を備えることを特徴とする請求項1に記載のICP分析装置。 - 前記制御部が、前記装着されたプラズマトーチに対し、前記記憶部に保存されている複
数のプラズマトーチのそれぞれに対応する高周波電力を、その電力が小さい順に供給する
ことを特徴とする請求項4に記載のICP分析装置。 - 更に、
g) オペレータにより制御部に設定されたプラズマトーチの種類に対応した基準出力周
波数差とプラズマ点灯前と後の測定出力周波数の差が異なると判定され、それが通知され
た場合に、前記電力供給部からプラズマトーチに巻回された誘導コイルへの高周波電力の
供給を停止させる電力供給停止部
を備えることを特徴とする請求項1に記載のICP分析装置。 - プラズマトーチと、該プラズマトーチに巻回された誘導コイルにプラズマ生成用高周波
電力を供給する自励発振方式の電力供給部を具備するICP分析装置において、
プラズマ点灯前と点灯後に前記電力供給部の出力周波数を測定し、
プラズマ点灯前に測定された出力周波数と点灯後に測定された出力周波数の差が、予め
記憶部に保存された基準出力周波数差と一致するか否かを判定し、判定の結果を通知する
ことを特徴とするICP分析装置のプラズマトーチ判定方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015107622A JP6623557B2 (ja) | 2015-05-27 | 2015-05-27 | Icp分析装置 |
CN201610349923.7A CN106198493B (zh) | 2015-05-27 | 2016-05-24 | 电感耦合型等离子体分析仪和等离子体炬管检查方法 |
US15/163,858 US10490395B2 (en) | 2015-05-27 | 2016-05-25 | ICP analyzer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015107622A JP6623557B2 (ja) | 2015-05-27 | 2015-05-27 | Icp分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016223805A JP2016223805A (ja) | 2016-12-28 |
JP6623557B2 true JP6623557B2 (ja) | 2019-12-25 |
Family
ID=57398375
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015107622A Active JP6623557B2 (ja) | 2015-05-27 | 2015-05-27 | Icp分析装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10490395B2 (ja) |
JP (1) | JP6623557B2 (ja) |
CN (1) | CN106198493B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20200196427A1 (en) * | 2017-07-13 | 2020-06-18 | Shimadzu Corporation | Plasma generator, light emission analysis device and mass spectrometer equipped with the plasma generator, and device status determination method |
CN114324307B (zh) * | 2021-12-20 | 2024-02-13 | 杭州谱育科技发展有限公司 | 基于电感耦合等离子体技术的分析方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63196841A (ja) * | 1987-02-12 | 1988-08-15 | Shimadzu Corp | Icp発光分析装置 |
US5383019A (en) * | 1990-03-23 | 1995-01-17 | Fisons Plc | Inductively coupled plasma spectrometers and radio-frequency power supply therefor |
US5208436A (en) * | 1991-04-12 | 1993-05-04 | The Lincoln Electric Company | Plasma torch with identification circuit |
JP3215487B2 (ja) * | 1992-04-13 | 2001-10-09 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 誘導結合プラズマ質量分析装置 |
US7123361B1 (en) * | 2003-03-05 | 2006-10-17 | Verionix Incorporated | Microplasma emission spectrometer |
US7926213B1 (en) * | 2007-04-13 | 2011-04-19 | Daktronics, Inc. | Electronic sign having slotted frame cabinets |
JP2006066552A (ja) * | 2004-08-25 | 2006-03-09 | Renesas Technology Corp | 周波数測定装置、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
US7459899B2 (en) * | 2005-11-21 | 2008-12-02 | Thermo Fisher Scientific Inc. | Inductively-coupled RF power source |
JP4586738B2 (ja) | 2006-02-02 | 2010-11-24 | 株式会社島津製作所 | Icp分析装置 |
JP4586737B2 (ja) * | 2006-02-02 | 2010-11-24 | 株式会社島津製作所 | Icp分析装置 |
US8502455B2 (en) * | 2009-05-29 | 2013-08-06 | Agilent Technologies, Inc. | Atmospheric inductively coupled plasma generator |
FR2959015B1 (fr) * | 2010-04-15 | 2012-06-22 | Horiba Jobin Yvon Sas | Procede et dispositif de mesure de spectrometrie de decharge luminescente en mode pulse |
JP5470543B2 (ja) * | 2010-04-26 | 2014-04-16 | 株式会社島津製作所 | 放電イオン化電流検出器 |
WO2012039035A1 (ja) | 2010-09-22 | 2012-03-29 | 株式会社 島津製作所 | 高周波電源 |
JP2013107087A (ja) * | 2011-11-17 | 2013-06-06 | Hitachi Constr Mach Co Ltd | プラズマアーク溶接のモニタリング方法及びプラズマアーク溶接装置 |
JP5871057B2 (ja) * | 2012-03-21 | 2016-03-01 | 株式会社島津製作所 | 放電イオン化電流検出器を備えた分析装置 |
DE102012106732A1 (de) * | 2012-07-24 | 2014-01-30 | Heraeus Materials Technology Gmbh & Co. Kg | Katalysator |
US20140036099A1 (en) * | 2012-08-03 | 2014-02-06 | Be Labs, Llc | Automated Scanning |
JP5994735B2 (ja) * | 2013-06-07 | 2016-09-21 | 株式会社安川電機 | アーク溶接装置、アーク溶接システム及びアーク溶接方法 |
EP3061326B1 (en) * | 2013-10-23 | 2021-08-11 | PerkinElmer Health Sciences, Inc. | Hybrid generators and methods of using them |
-
2015
- 2015-05-27 JP JP2015107622A patent/JP6623557B2/ja active Active
-
2016
- 2016-05-24 CN CN201610349923.7A patent/CN106198493B/zh active Active
- 2016-05-25 US US15/163,858 patent/US10490395B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016223805A (ja) | 2016-12-28 |
US10490395B2 (en) | 2019-11-26 |
US20160349333A1 (en) | 2016-12-01 |
CN106198493A (zh) | 2016-12-07 |
CN106198493B (zh) | 2020-08-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4809325B2 (ja) | プラズマトーチスペクトロメータ | |
JP5161469B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2009099496A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置状態を検出する方法 | |
CA2629567A1 (en) | Inductively-coupled rf power source | |
JP6623557B2 (ja) | Icp分析装置 | |
JP6688343B2 (ja) | マイクロ波プラズマソース、プラズマ励起システムおよびプラズマ励起測定システムの動作方法 | |
JP2009049382A (ja) | ドライエッチング方法およびドライエッチング装置 | |
JP2014135305A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP4595875B2 (ja) | Icp分析装置 | |
JP4692396B2 (ja) | Icp分析装置 | |
JP6795095B2 (ja) | プラズマ発生装置、これを備えた発光分析装置及び質量分析装置、並びに、装置状態判定方法 | |
JP4586738B2 (ja) | Icp分析装置 | |
US20130201477A1 (en) | Elementary analysis apparatus and method | |
JP2009229442A (ja) | 試料気化導入装置 | |
JP2008202990A (ja) | Icp用高周波電源装置 | |
JP4919104B2 (ja) | 発光分析装置 | |
JP4586737B2 (ja) | Icp分析装置 | |
US9874514B2 (en) | Atomic absorption spectrophotometer and signal voltage optimization method used by the same | |
JP7454971B2 (ja) | 検出方法及びプラズマ処理装置 | |
WO2017154144A1 (ja) | 機器稼動情報収集システム | |
US20150162179A1 (en) | Method of calibrating a system comprising a gas-discharge lamp and a cooling arrangement | |
JP6288290B2 (ja) | 発光分光分析装置 | |
JP3218495U (ja) | Icp発光分析装置 | |
JP2007205897A (ja) | Icp用高周波電源装置 | |
JP2005257651A (ja) | プラズマ測定装置及びプラズマ測定方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170726 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180508 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20180709 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180907 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181030 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20181227 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20190507 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190807 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20190814 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191029 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191111 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6623557 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |