JP6795095B2 - プラズマ発生装置、これを備えた発光分析装置及び質量分析装置、並びに、装置状態判定方法 - Google Patents
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Description
2 高周波電力供給部
3 プラズマガス供給部
4 補助ガス供給部
5 キャリアガス供給部
6 霧化装置
7 測光部
8 制御部
11 試料供給管
12 補助ガス供給管
13 プラズマガス供給管
14 誘導コイル
15 プラズマガス流路
16 補助ガス流路
17 試料流路
18 プラズマ
61 ネプライザ
62 スプレーチャンバ
71 集光レンズ
72 回折格子
73 光検出器
81 状態判定処理部
82 流量制御部
83 発光スペクトル生成部
91 キャリアガスの流量
92 プラズマ周波数
Claims (7)
- プラズマを発生させるためのプラズマ発生装置であって、
誘導コイルによって電磁界が形成され、当該電磁界中に筒状のプラズマが形成されるとともに、霧化された試料がキャリアガスにより前記プラズマの内側に向けて供給されるプラズマトーチと、
前記誘導コイルに高周波電力を供給する高周波電力供給部と、
前記高周波電力供給部により前記誘導コイルに供給される高周波電力の周波数の変化に基づいて、前記プラズマ発生装置の状態を判定する状態判定処理部と、
キャリアガスの流量を変化させる制御を行うキャリアガス流量制御部とを備え、
前記状態判定処理部は、キャリアガスの流量の変化に伴う前記高周波電力の周波数の変化に基づいて、前記プラズマ発生装置の状態を判定することを特徴とするプラズマ発生装置。 - 前記状態判定処理部は、キャリアガスの流量が所定値に達したときに、前記高周波電力の周波数を閾値と比較することにより、前記プラズマ発生装置の状態を判定することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ発生装置。
- 前記キャリアガス流量制御部は、前記状態判定処理部による判定結果に基づいて、キャリアガスの流量を制御することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ発生装置。
- 前記プラズマの位置を制御するための補助ガスの流量を制御する補助ガス流量制御部をさらに備え、
前記補助ガス流量制御部は、前記状態判定処理部による判定結果に基づいて、補助ガスの流量を制御することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ発生装置。 - 請求項1に記載のプラズマ発生装置を備え、
前記プラズマ発生装置におけるプラズマから発光する光を検出して分析を行うことを特徴とする発光分析装置。 - 請求項1に記載のプラズマ発生装置を備え、
前記プラズマ発生装置におけるプラズマにより発生するイオンを用いて分析を行うことを特徴とする質量分析装置。 - 誘導コイルによって電磁界が形成され、当該電磁界中に筒状のプラズマが形成されるとともに、霧化された試料がキャリアガスにより前記プラズマの内側に向けて供給されるプラズマトーチを用いて、前記プラズマを発生させるためのプラズマ発生装置の状態を判定する方法であって、
前記誘導コイルに高周波電力を供給する高周波電力供給ステップと、
前記高周波電力供給ステップにより前記誘導コイルに供給される高周波電力の周波数の変化に基づいて、前記プラズマ発生装置の状態を判定する状態判定ステップと、
キャリアガスの流量を変化させる制御を行うキャリアガス流量制御ステップとを含み、
前記状態判定ステップでは、キャリアガスの流量の変化に伴う前記高周波電力の周波数の変化に基づいて、前記プラズマ発生装置の状態を判定することを特徴とする装置状態判定方法。
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