JP6795095B2 - プラズマ発生装置、これを備えた発光分析装置及び質量分析装置、並びに、装置状態判定方法 - Google Patents
プラズマ発生装置、これを備えた発光分析装置及び質量分析装置、並びに、装置状態判定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6795095B2 JP6795095B2 JP2019529004A JP2019529004A JP6795095B2 JP 6795095 B2 JP6795095 B2 JP 6795095B2 JP 2019529004 A JP2019529004 A JP 2019529004A JP 2019529004 A JP2019529004 A JP 2019529004A JP 6795095 B2 JP6795095 B2 JP 6795095B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- flow rate
- carrier gas
- plasma generator
- frequency power
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/30—Plasma torches using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/0006—Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature
- H05H1/0012—Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature using electromagnetic or particle radiation, e.g. interferometry
- H05H1/0037—Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature using electromagnetic or particle radiation, e.g. interferometry by spectrometry
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/105—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation, Inductively Coupled Plasma [ICP]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/71—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
- G01N21/73—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited using plasma burners or torches
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
2 高周波電力供給部
3 プラズマガス供給部
4 補助ガス供給部
5 キャリアガス供給部
6 霧化装置
7 測光部
8 制御部
11 試料供給管
12 補助ガス供給管
13 プラズマガス供給管
14 誘導コイル
15 プラズマガス流路
16 補助ガス流路
17 試料流路
18 プラズマ
61 ネプライザ
62 スプレーチャンバ
71 集光レンズ
72 回折格子
73 光検出器
81 状態判定処理部
82 流量制御部
83 発光スペクトル生成部
91 キャリアガスの流量
92 プラズマ周波数
Claims (7)
- プラズマを発生させるためのプラズマ発生装置であって、
誘導コイルによって電磁界が形成され、当該電磁界中に筒状のプラズマが形成されるとともに、霧化された試料がキャリアガスにより前記プラズマの内側に向けて供給されるプラズマトーチと、
前記誘導コイルに高周波電力を供給する高周波電力供給部と、
前記高周波電力供給部により前記誘導コイルに供給される高周波電力の周波数の変化に基づいて、前記プラズマ発生装置の状態を判定する状態判定処理部と、
キャリアガスの流量を変化させる制御を行うキャリアガス流量制御部とを備え、
前記状態判定処理部は、キャリアガスの流量の変化に伴う前記高周波電力の周波数の変化に基づいて、前記プラズマ発生装置の状態を判定することを特徴とするプラズマ発生装置。 - 前記状態判定処理部は、キャリアガスの流量が所定値に達したときに、前記高周波電力の周波数を閾値と比較することにより、前記プラズマ発生装置の状態を判定することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ発生装置。
- 前記キャリアガス流量制御部は、前記状態判定処理部による判定結果に基づいて、キャリアガスの流量を制御することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ発生装置。
- 前記プラズマの位置を制御するための補助ガスの流量を制御する補助ガス流量制御部をさらに備え、
前記補助ガス流量制御部は、前記状態判定処理部による判定結果に基づいて、補助ガスの流量を制御することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ発生装置。 - 請求項1に記載のプラズマ発生装置を備え、
前記プラズマ発生装置におけるプラズマから発光する光を検出して分析を行うことを特徴とする発光分析装置。 - 請求項1に記載のプラズマ発生装置を備え、
前記プラズマ発生装置におけるプラズマにより発生するイオンを用いて分析を行うことを特徴とする質量分析装置。 - 誘導コイルによって電磁界が形成され、当該電磁界中に筒状のプラズマが形成されるとともに、霧化された試料がキャリアガスにより前記プラズマの内側に向けて供給されるプラズマトーチを用いて、前記プラズマを発生させるためのプラズマ発生装置の状態を判定する方法であって、
前記誘導コイルに高周波電力を供給する高周波電力供給ステップと、
前記高周波電力供給ステップにより前記誘導コイルに供給される高周波電力の周波数の変化に基づいて、前記プラズマ発生装置の状態を判定する状態判定ステップと、
キャリアガスの流量を変化させる制御を行うキャリアガス流量制御ステップとを含み、
前記状態判定ステップでは、キャリアガスの流量の変化に伴う前記高周波電力の周波数の変化に基づいて、前記プラズマ発生装置の状態を判定することを特徴とする装置状態判定方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017136729 | 2017-07-13 | ||
JP2017136729 | 2017-07-13 | ||
PCT/JP2018/022680 WO2019012906A1 (ja) | 2017-07-13 | 2018-06-14 | プラズマ発生装置、これを備えた発光分析装置及び質量分析装置、並びに、装置状態判定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019012906A1 JPWO2019012906A1 (ja) | 2020-04-16 |
JP6795095B2 true JP6795095B2 (ja) | 2020-12-02 |
Family
ID=65001296
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019529004A Active JP6795095B2 (ja) | 2017-07-13 | 2018-06-14 | プラズマ発生装置、これを備えた発光分析装置及び質量分析装置、並びに、装置状態判定方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200196427A1 (ja) |
EP (1) | EP3654739A4 (ja) |
JP (1) | JP6795095B2 (ja) |
CN (1) | CN110892795A (ja) |
WO (1) | WO2019012906A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114502989A (zh) * | 2019-09-24 | 2022-05-13 | 安捷伦科技有限公司 | 可变透射孔 |
US20220232691A1 (en) * | 2021-01-19 | 2022-07-21 | Perkinelmer Health Sciences Canada, Inc. | Inductively coupled plasma torches and methods and systems including same |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10162993A (ja) * | 1996-12-03 | 1998-06-19 | Fuji Electric Co Ltd | 誘導結合プラズマ装置 |
CN1204853C (zh) * | 2002-10-24 | 2005-06-08 | 广东合好工贸有限公司 | 医用双极等离子体功率源的功率输出电路 |
AU2006223254B2 (en) * | 2005-03-11 | 2012-04-26 | Perkinelmer U.S. Llc | Plasmas and methods of using them |
JP4595875B2 (ja) * | 2005-08-30 | 2010-12-08 | 株式会社島津製作所 | Icp分析装置 |
JP4903515B2 (ja) * | 2006-08-11 | 2012-03-28 | アジレント・テクノロジーズ・インク | 誘導結合プラズマ質量分析装置 |
JP4822346B2 (ja) * | 2006-10-31 | 2011-11-24 | アジレント・テクノロジーズ・インク | 誘導結合プラズマ質量分析装置のための診断及び較正システム |
JP2008202990A (ja) | 2007-02-16 | 2008-09-04 | Shimadzu Corp | Icp用高周波電源装置 |
JP2008287999A (ja) * | 2007-05-16 | 2008-11-27 | Panasonic Corp | プラズマ処理装置およびその制御方法 |
JP2014107012A (ja) | 2012-11-22 | 2014-06-09 | Shimadzu Corp | Icp質量分析装置 |
JP2016054041A (ja) * | 2014-09-03 | 2016-04-14 | 株式会社島津製作所 | 高周波電源装置 |
CN104386922B (zh) * | 2014-09-28 | 2016-12-07 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 大口径高陡度空间光学非球面反射镜立式加工方法及装置 |
JP6623557B2 (ja) * | 2015-05-27 | 2019-12-25 | 株式会社島津製作所 | Icp分析装置 |
-
2018
- 2018-06-14 EP EP18832597.1A patent/EP3654739A4/en not_active Withdrawn
- 2018-06-14 JP JP2019529004A patent/JP6795095B2/ja active Active
- 2018-06-14 US US16/630,727 patent/US20200196427A1/en not_active Abandoned
- 2018-06-14 WO PCT/JP2018/022680 patent/WO2019012906A1/ja unknown
- 2018-06-14 CN CN201880046770.6A patent/CN110892795A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20200196427A1 (en) | 2020-06-18 |
JPWO2019012906A1 (ja) | 2020-04-16 |
WO2019012906A1 (ja) | 2019-01-17 |
EP3654739A1 (en) | 2020-05-20 |
CN110892795A (zh) | 2020-03-17 |
EP3654739A4 (en) | 2021-04-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10453695B2 (en) | Plasma processing apparatus and plasma processing method | |
JP6795095B2 (ja) | プラズマ発生装置、これを備えた発光分析装置及び質量分析装置、並びに、装置状態判定方法 | |
WO2010018738A1 (ja) | 分析方法および分析システム | |
US8822948B1 (en) | Method and apparatus for control of a plasma for spectrometry | |
JP2008045901A (ja) | 誘導結合プラズマ質量分析装置 | |
JP3209543U (ja) | フレーム式原子吸光光度計 | |
TWI710286B (zh) | 微波電漿源 | |
US9165751B1 (en) | Sample atomization with reduced clogging for analytical instruments | |
KR102205459B1 (ko) | 엔드포인트 신호 향상을 위한 차동 측정들 | |
JP6219760B2 (ja) | Icp発光分光分析装置 | |
CN102203898B (zh) | 在处理系统化学分析中使用的电子束激励器 | |
WO2012036137A1 (ja) | 分析装置及び分析方法 | |
US10490395B2 (en) | ICP analyzer | |
KR101617047B1 (ko) | 작업부재를 화학적으로 에칭하기 위한 장치 | |
JP2000164169A (ja) | 質量分析計 | |
JP2007093578A (ja) | Icp分析装置 | |
JP3202576U (ja) | Icp分析装置 | |
JP2016061574A (ja) | Icp分析装置 | |
JPH06109639A (ja) | 発光分光分析方法 | |
JP2009121846A (ja) | 試料送液ポンプおよび送液ポンプを用いたicp発光分析装置 | |
JP2008202990A (ja) | Icp用高周波電源装置 | |
KR20020060817A (ko) | 플라즈마 공정 제어 장치 및 그 방법 | |
JPH10106483A (ja) | Icp分析装置 | |
KR102236205B1 (ko) | 플라즈마 상태 모니터링 방법 및 그 장치 | |
JPH08145892A (ja) | Icp発光分析装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191212 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191212 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20201013 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201026 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6795095 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |