JP6591735B2 - プラズマ発生装置 - Google Patents

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本発明は、反応室の内部で処理ガスをプラズマ化させるプラズマ発生装置に関するものである。
プラズマ発生装置では、例えば、反応室に複数の電極が配置され、それら複数の電極間に電圧を印加することで、処理ガスがプラズマ化される。処理ガスをプラズマ化させる際には、比較的高い電圧を印加する必要があり、その印加により放電が生じるため、反応室は劣化しやすい。このため、劣化した部分を交換するための技術が、下記特許文献に記載されている。
特開平10−172792号公報 特開2013−168675号公報 特開2013−145719号公報
上記特許文献に記載の技術によれば、劣化した部分を交換することで、反応室の劣化に対応することが可能となる。しかしながら、劣化した部分のみを交換していては、作業者の手間が増加する虞がある。また、複数の電極間で放電するだけでなく、反応室の内壁面に沿って放電するプラズマ発生装置では、反応室の内壁面全体が劣化するため、反応室の一部の交換では、反応室の劣化に対応できない虞がある。本発明は、そのような実情に鑑みてなされたものであり、本発明の課題は、反応室の劣化に適切、かつ、容易に対応することが可能なプラズマ発生装置を提供することである。
上記課題を解決するために、本願に記載のプラズマ発生装置は、反応室内に配置され、処理ガスを前記反応室内でプラズマ化させるための複数の電極と、絶縁性素材により形成され、前記電極を部分的に囲って前記反応室を区画する第1ブロック部材と、前記第1ブロック部材を着脱可能に収納するための第2ブロック部材とを備えることを特徴とする。
また、上記課題を解決するために、本願に記載のプラズマ発生装置は、反応室内に配置され、処理ガスを前記反応室内でプラズマ化させるための円柱型の電極と、絶縁性素材により形成され、その一部が前記電極の断面である円と同心円の一部を形成するように前記電極を囲って前記反応室を区画する第1ブロック部材と、前記第1ブロック部材を着脱可能にその内部に収納するための第2ブロック部材と、を備え、前記第1ブロック部材を通る前記処理ガスを前記電極によりプラズマ化し被照射体へ照射することを特徴とする。
本願に記載のプラズマ発生装置では、反応室を区画する第1ブロック部材と、その第1ブロック部材を収納可能な第2ブロック部材とが、別部材により構成されている。これにより、第1ブロック部材を交換するだけで、反応室全体を交換することが可能となり、反応室の劣化に適切、かつ、容易に対応することが可能となる。
本発明の実施例である大気圧プラズマ発生装置を示す斜視図である。 図1の大気圧プラズマ発生装置を構成する内部ブロックを示す斜視図である。 図1の大気圧プラズマ発生装置を構成する下部ブロックを示す斜視図である。 図1の大気圧プラズマ発生装置の概略断面図である。 組み合わされた状態の内部ブロックと下部ブロックと被覆部材とを示す斜視図である。
以下、本発明を実施するための形態として、本発明の実施例を、図を参照しつつ詳しく説明する。
<大気圧プラズマ発生装置の構成>
図1に、本発明の実施例の大気圧プラズマ発生装置10を示す。大気圧プラズマ発生装置10は、大気圧下でプラズマを発生させるための装置である。大気圧プラズマ発生装置10は、内部ブロック12と、下部ブロック14と、アース板16と、照射ノズル18と、1対の被覆部材20,22と、1対の電極24,26と、連結部材28と、上部ブロック30とを備えている。
内部ブロック12は、図2に示すように、概して直方体形状をなし、セラミックにより成形されている。内部ブロック12の上面には、凹部32が形成されており、凹部32は、1対の円柱状の円柱凹部34,36と、それら1対の円柱凹部34,36を連結する連結凹部38とによって構成されている。また、凹部32の底面には、内部ブロック12の下面に貫通する4本の貫通穴(図1および図4参照)40が形成されている。
下部ブロック14は、図3に示すように、概して直方体形状をなし、セラミックにより成形されている。内部ブロック12の上面には、内部ブロック12を収納するための収納部50が形成されている。収納部50は、内部ブロック12の上面に開口する有底穴であり、底面側に位置する第1収納部52と、開口側に位置する第2収納部54とによって構成されている。第1収納部52の深さ寸法は、内部ブロック12の高さ寸法と略同じであり、第1収納部52の幅寸法および長さ寸法は、内部ブロック12の幅寸法および長さ寸法より僅かに長い。また、第2収納部54の幅寸法および長さ寸法は、内部ブロック12の幅寸法および長さ寸法より長い。このため、内部ブロック12は、収納部50の開口から挿入され、第1収納部52の内部に着脱可能に収納される。なお、第2収納部54は、1対の円柱状の円柱収納部56,58と、それら1対の円柱収納部56,58を連結する連結部60とによって構成されている。
また、収納部50の底面、つまり、第1収納部52の底面には、上下方向に延びるように、4本の第1流路62が形成されており、図4に示すように、第1収納部52に内部ブロック12が収納された場合に、第1流路62と内部ブロック12の貫通穴40とが連通する。なお、第1流路62は、下部ブロック14の下面側に貫通していない。また、下部ブロック14には、第1流路62の下端部から下部ブロック14の前面に貫通する第2流路64が、形成されている。さらに、下部ブロック14には、第2流路64の両端部の間から下部ブロック14の下面に貫通する第3流路66が形成されている。なお、第2流路64の下部ブロック14の前面側の端部は、封止栓68によって塞がれている。
アース板16は、金属により成形されており、下部ブロック14の下面に固定されている。アース板16には、上下方向に貫通する4本の貫通穴70が形成されており、各貫通穴70は、下部ブロック14の第3流路66と連通している。
照射ノズル18は、アース板16の下面に固定されている。照射ノズル18には、上下方向に貫通する4本のノズル穴72が形成されており、各ノズル穴72は、アース板16の貫通穴70と連通している。
1対の被覆部材20,22の各々は、図5に示すように、概して円筒形状をなし、セラミックにより成形されている。各被覆部材20,22の外径は、下部ブロック14に形成された第2収納部54の円柱収納部56,58の内径より僅かに小さい。また、各被覆部材20,22の長さ寸法は、円柱収納部56,58の深さ寸法の2倍以上である。そして、下部ブロック14の第1収納部52に内部ブロック12が収納された状態で、1対の被覆部材20,22の下端部が、第2収納部54の1対の円柱収納部56,58に嵌合されている。これにより、図1に示すように、内部ブロック12の凹部32が1対の被覆部材20,22によって塞がれ、凹部32と被覆部材20,22とによって、反応室76が区画される。なお、各被覆部材20,22は、被覆部材20,22の下端部側の円環部77と、被覆部材20,22の円環部77を除く本体部78とに分離可能となっている。
1対の電極24,26は、図1に示すように、棒状をなし、1対の被覆部材20,22に挿通されている。これにより、1対の電極24,26の下端部が、反応室76の内部に、進入している。なお、各電極24,26の外径は、被覆部材20,22の内径より小さく、各電極24,26の外周面と各被覆部材20,22の内周面との間が、第1ガス流入路80として機能する。
連結部材28は、板状をなし、連結部材28には、上下方向に貫通する1対の挿通穴82,84が形成されている。各挿通穴82,84の内径は、各被覆部材20,22の外径より僅かに大きい。そして、各挿通穴82,84に各被覆部材20,22が挿通された状態で、連結部材28が、下部ブロック14の上面に固定されている。また、1対の挿通穴82,84の間には、上下方向に貫通する第2ガス流入路86が形成されている。
上部ブロック30は、概して直方体形状をなしており、1対の被覆部材20,22および1対の電極24,26の形状に応じた収納部(図示省略)が形成されている。そして、その収納部に、1対の被覆部材20,22および1対の電極24,26を収納した状態で、上部ブロック30は、連結部材28の上面に固定されている。また、上部ブロック30には、被覆部材20,22と電極24,26との間の第1ガス流入路80に連通する連通路(図示省略)が形成されている。さらに、上部ブロック30には、連結部材28の第2ガス流入路86に連通する連通路88が形成されている。
<大気圧プラズマ発生装置によるプラズマの発生>
大気圧プラズマ発生装置10では、上述した構成により、内部ブロック12の凹部32と被覆部材20,22とによって区画された反応室76の内部において、処理ガスがプラズマ化され、照射ノズル18のノズル穴72からプラズマが照射される。以下に、大気圧プラズマ発生装置10によるプラズマの発生について、詳しく説明する。
大気圧プラズマ発生装置10では、第1ガス流入路80から反応室76に、窒素等の不活性ガスのみによって構成された処理ガスが供給され、第2ガス流入路86から反応室76に、空気中の酸素等の活性ガスと窒素等の不活性ガスとを任意の割合で混合させた処理ガスが供給される。そして、反応室76では、1対の電極24,26に電圧が印加されており、1対の電極24,26間に電流が流れる。これにより、1対の電極24,26間に放電が生じ、その放電により、処理ガスがプラズマ化される。また、反応室76では、電極24,26が内部ブロック12の凹部32の壁面に近い位置に配設されているため、電極24,26への印加により、電流が凹部32の壁面に沿って流れる。これにより、1対の電極24,26間だけでなく、凹部32の壁面に沿って放電が生じ、その放電によって、処理ガスがプラズマ化される。
反応室76で発生したプラズマは、内部ブロック12の貫通穴40を介して、下部ブロック14の第1流路62に流れる。そして、プラズマは、下部ブロック14の第2流路64および第3流路66を介して、アース板16の貫通穴70に流れ、照射ノズル18のノズル穴72から被照射体にプラズマが照射される。このようにして、大気圧プラズマ発生装置10では、反応室76の内部において処理ガスがプラズマ化され、照射ノズル18のノズル穴72からプラズマが照射される。特に、大気圧プラズマ発生装置10では、上述したように、1対の電極24,26間だけでなく、凹部32の壁面に沿って放電が生じるため、反応室76の内部全体において、処理ガスがプラズマ化される。これにより、効率的にプラズマを発生させることが可能となっている。
ただし、大気圧プラズマ発生装置10では、凹部32の壁面に沿って放電が生じるため、セラミック製の内部ブロック12の凹部32の壁面は、炭化し、劣化する。また、炭化した箇所が炭化導電路となり、適切な放電が生じない虞がある。このため、大気圧プラズマ発生装置10を交換する必要があるが、凹部32の劣化毎に大気圧プラズマ発生装置10を交換していては、ランニングコストが非常に高くなる。このようなことに鑑みて、大気圧プラズマ発生装置10では、凹部32が形成されている内部ブロック12と、内部ブロック12を収納する下部ブロック14とが別部材とされ、凹部32の壁面が劣化した場合には、劣化した内部ブロック12が、下部ブロック14から取り出され、新しい内部ブロック12が下部ブロック14に収納される。つまり、凹部32が劣化した場合には、内部ブロック12を交換すればよく、ランニングコストを低くすることが可能となる。
また、大気圧プラズマ発生装置10では、電極24,26の先端部を除く部分が、被覆部材20,22によって覆われており、電極24,26の先端部において効率的に放電が生じる。ただし、この被覆部材20,22も、放電により劣化する。特に、被覆部材20,22の電極24,26の近い箇所が、劣化し易い。このようなことに鑑みて、被覆部材20は、上述したように、電極24の先端部に近い側の円環部77と、本体部78とに分離可能となっている。このため、円環部77を交換するだけで、炭化による劣化に対処することが可能となる。
さらに、大気圧プラズマ発生装置10では、上述したように、第1ガス流入路80から反応室76に、窒素等の不活性ガスのみによって構成された処理ガスが供給され、第2ガス流入路86から反応室76に、空気中の酸素等の活性ガスと窒素等の不活性ガスとを任意の割合で混合させた処理ガスが供給される。つまり、酸素等の活性ガスを含まない処理ガスが、電極24,26に沿って、反応室76に供給され、酸素等の活性ガスを含む処理ガスが、電極24,26から離れた個所において、反応室76に供給される。これにより、電極24,26周辺の酸化を抑制することが可能となり、電極24,26、円環部77等の劣化を抑制することが可能となる。
また、下部ブロック14の下面側には、金属製のアース板16が配設されており、アース板16と電極24,26との間での放電を防止するべく、反応室76とアース板16との間の経路を長くする必要がある。しかしながら、反応室76とアース板16との間の経路を長くすると、大気圧プラズマ発生装置10の縦方向の寸法が長くなり、大気圧プラズマ発生装置10が大型化する虞がある。このため、大気圧プラズマ発生装置10では、反応室76とアース板16との間の経路として、上下方向に延びる第1流路62および第3流路66だけでなく、前後方向に延びる第2流路64が、下部ブロック14に形成されている。つまり、前後方向に延びる第2流路64によって、反応室76とアース板16との間の経路を長くすることで、大気圧プラズマ発生装置10の縦方向への大型化が防止されている。
ちなみに、上記実施例において、大気圧プラズマ発生装置10は、プラズマ発生装置の一例である。内部ブロック12は、第1ブロック部材およびブロック本体部の一例である。下部ブロック14は、第2ブロック部材の一例である。被覆部材20,22は、被覆部材、第1ブロック部材および蓋部の一例である。電極24,26は、電極の一例である。凹部32は、凹部の一例である。反応室76は、反応室の一例である。第1ガス流入路80は、第1ガス流路の一例である。第2ガス流入路86は、第2ガス流路の一例である。
なお、本発明は、上記実施例に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて種々の変更、改良を施した種々の態様で実施することが可能である。具体的には、例えば、上記実施例では、本発明が大気圧プラズマ発生装置10に適用されているが、減圧下でプラズマを発生させるプラズマ発生装置に、本発明を適用することが可能である。
また、上記実施例では、1対の電極24,26の間だけでなく、凹部32の壁面に沿って放電し、その放電によりプラズマを発生させる大気圧プラズマ発生装置10に、本発明が適用されているが、1対の電極間でのみ放電し、その放電によりプラズマを発生させるプラズマ発生装置に、本発明を適用することが可能である。
10:大気圧プラズマ発生装置(プラズマ発生装置) 12:内部ブロック(第1ブロック部材)(ブロック本体部) 14:下部ブロック(第2ブロック部材) 20,22:被覆部材(第1ブロック部材)(蓋部) 24,26:電極 32:凹部
76:反応室 80:第1ガス流入路(第1ガス流路) 86:第2ガス流入路(第2ガス流路)

Claims (2)

  1. 反応室内に配置され、処理ガスを前記反応室内でプラズマ化させるための複数の電極と、
    絶縁性素材により形成され、前記電極を部分的に囲って前記反応室を区画する第1ブロック部材と、
    前記第1ブロック部材を着脱可能に収納するための第2ブロック部材と、
    を備えたプラズマ発生装置。
  2. 反応室内に配置され、処理ガスを前記反応室内でプラズマ化させるための円柱型の電極と、
    絶縁性素材により形成され、その一部が前記電極の断面である円と同心円の一部を形成するように前記電極を囲って前記反応室を区画する第1ブロック部材と、
    前記第1ブロック部材を着脱可能にその内部に収納するための第2ブロック部材と、
    を備え、
    前記第1ブロック部材を通る前記処理ガスを前記電極によりプラズマ化し被照射体へ照射すること、
    を特徴とするプラズマ発生装置。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10734194B2 (en) * 2016-11-24 2020-08-04 Fuji Corporation Plasma generating apparatus
EP3609302B1 (en) * 2017-04-04 2022-08-24 Fuji Corporation Plasma-generating device
EP3609301B1 (en) * 2017-04-04 2023-08-02 FUJI Corporation Atmospheric pressure plasma device
CN111480393B (zh) 2018-01-30 2023-03-21 株式会社富士 等离子体处理机
WO2020084762A1 (ja) * 2018-10-26 2020-04-30 株式会社Fuji プラズマ発生装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63142634A (ja) * 1986-12-05 1988-06-15 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体製造装置
JPH0582476A (ja) * 1991-09-24 1993-04-02 Mitsubishi Electric Corp プラズマエツチング装置
US5891350A (en) * 1994-12-15 1999-04-06 Applied Materials, Inc. Adjusting DC bias voltage in plasma chambers
JPH10172792A (ja) * 1996-12-05 1998-06-26 Tokyo Electron Ltd プラズマ処理装置
EP2154937A2 (en) * 2004-11-05 2010-02-17 Dow Corning Ireland Limited Plasma system
JP5288810B2 (ja) * 2008-01-16 2013-09-11 株式会社ジャパンディスプレイ 局所プラズマ処理装置及び処理方法
JP5132487B2 (ja) * 2008-08-29 2013-01-30 長野日本無線株式会社 プラズマ処理装置
JP5439771B2 (ja) * 2008-09-05 2014-03-12 東京エレクトロン株式会社 成膜装置
JP5126983B2 (ja) * 2009-04-01 2013-01-23 Nuエコ・エンジニアリング株式会社 プラズマ発生装置
JP5787284B2 (ja) * 2010-06-30 2015-09-30 国立大学法人名古屋大学 反応種供給装置および表面等処理装置
JP5961899B2 (ja) * 2012-03-31 2016-08-03 国立大学法人名古屋大学 大気圧プラズマ発生装置
US9388494B2 (en) * 2012-06-25 2016-07-12 Novellus Systems, Inc. Suppression of parasitic deposition in a substrate processing system by suppressing precursor flow and plasma outside of substrate region
KR20140090445A (ko) * 2013-01-09 2014-07-17 삼성디스플레이 주식회사 기판 처리 장치

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