JP6591735B2 - プラズマ発生装置 - Google Patents
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Description
また、上記課題を解決するために、本願に記載のプラズマ発生装置は、反応室内に配置され、処理ガスを前記反応室内でプラズマ化させるための円柱型の電極と、絶縁性素材により形成され、その一部が前記電極の断面である円と同心円の一部を形成するように前記電極を囲って前記反応室を区画する第1ブロック部材と、前記第1ブロック部材を着脱可能にその内部に収納するための第2ブロック部材と、を備え、前記第1ブロック部材を通る前記処理ガスを前記電極によりプラズマ化し被照射体へ照射することを特徴とする。
図1に、本発明の実施例の大気圧プラズマ発生装置10を示す。大気圧プラズマ発生装置10は、大気圧下でプラズマを発生させるための装置である。大気圧プラズマ発生装置10は、内部ブロック12と、下部ブロック14と、アース板16と、照射ノズル18と、1対の被覆部材20,22と、1対の電極24,26と、連結部材28と、上部ブロック30とを備えている。
大気圧プラズマ発生装置10では、上述した構成により、内部ブロック12の凹部32と被覆部材20,22とによって区画された反応室76の内部において、処理ガスがプラズマ化され、照射ノズル18のノズル穴72からプラズマが照射される。以下に、大気圧プラズマ発生装置10によるプラズマの発生について、詳しく説明する。
76:反応室 80:第1ガス流入路(第1ガス流路) 86:第2ガス流入路(第2ガス流路)
Claims (2)
- 反応室内に配置され、処理ガスを前記反応室内でプラズマ化させるための複数の電極と、
絶縁性素材により形成され、前記電極を部分的に囲って前記反応室を区画する第1ブロック部材と、
前記第1ブロック部材を着脱可能に収納するための第2ブロック部材と、
を備えたプラズマ発生装置。 - 反応室内に配置され、処理ガスを前記反応室内でプラズマ化させるための円柱型の電極と、
絶縁性素材により形成され、その一部が前記電極の断面である円と同心円の一部を形成するように前記電極を囲って前記反応室を区画する第1ブロック部材と、
前記第1ブロック部材を着脱可能にその内部に収納するための第2ブロック部材と、
を備え、
前記第1ブロック部材を通る前記処理ガスを前記電極によりプラズマ化し被照射体へ照射すること、
を特徴とするプラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014159436A JP6591735B2 (ja) | 2014-08-05 | 2014-08-05 | プラズマ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014159436A JP6591735B2 (ja) | 2014-08-05 | 2014-08-05 | プラズマ発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016038940A JP2016038940A (ja) | 2016-03-22 |
JP6591735B2 true JP6591735B2 (ja) | 2019-10-16 |
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ID=55529884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014159436A Active JP6591735B2 (ja) | 2014-08-05 | 2014-08-05 | プラズマ発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6591735B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10734194B2 (en) * | 2016-11-24 | 2020-08-04 | Fuji Corporation | Plasma generating apparatus |
EP3609302B1 (en) * | 2017-04-04 | 2022-08-24 | Fuji Corporation | Plasma-generating device |
EP3609301B1 (en) * | 2017-04-04 | 2023-08-02 | FUJI Corporation | Atmospheric pressure plasma device |
CN111480393B (zh) | 2018-01-30 | 2023-03-21 | 株式会社富士 | 等离子体处理机 |
WO2020084762A1 (ja) * | 2018-10-26 | 2020-04-30 | 株式会社Fuji | プラズマ発生装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63142634A (ja) * | 1986-12-05 | 1988-06-15 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体製造装置 |
JPH0582476A (ja) * | 1991-09-24 | 1993-04-02 | Mitsubishi Electric Corp | プラズマエツチング装置 |
US5891350A (en) * | 1994-12-15 | 1999-04-06 | Applied Materials, Inc. | Adjusting DC bias voltage in plasma chambers |
JPH10172792A (ja) * | 1996-12-05 | 1998-06-26 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
EP2154937A2 (en) * | 2004-11-05 | 2010-02-17 | Dow Corning Ireland Limited | Plasma system |
JP5288810B2 (ja) * | 2008-01-16 | 2013-09-11 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 局所プラズマ処理装置及び処理方法 |
JP5132487B2 (ja) * | 2008-08-29 | 2013-01-30 | 長野日本無線株式会社 | プラズマ処理装置 |
JP5439771B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2014-03-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置 |
JP5126983B2 (ja) * | 2009-04-01 | 2013-01-23 | Nuエコ・エンジニアリング株式会社 | プラズマ発生装置 |
JP5787284B2 (ja) * | 2010-06-30 | 2015-09-30 | 国立大学法人名古屋大学 | 反応種供給装置および表面等処理装置 |
JP5961899B2 (ja) * | 2012-03-31 | 2016-08-03 | 国立大学法人名古屋大学 | 大気圧プラズマ発生装置 |
US9388494B2 (en) * | 2012-06-25 | 2016-07-12 | Novellus Systems, Inc. | Suppression of parasitic deposition in a substrate processing system by suppressing precursor flow and plasma outside of substrate region |
KR20140090445A (ko) * | 2013-01-09 | 2014-07-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 기판 처리 장치 |
-
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016038940A (ja) | 2016-03-22 |
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