JP2005276606A - 軟x線発生装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 本発明の第1の目的は、軟X線の発生強度のばらつきを低下させることである。本発明の第2の目的は、取り出せる軟X線強度を向上させることである。
【解決手段】 ガス導入口51から、プラズマ生成用のガス6を、ガス溜まり14に送る。供給されたガス6は、供給圧力によって、多孔質の内筒部13を透過して、放電管1の内部に供給される。これにより、ガス6を、放電管1の内部(プラズマ生成部分)にほぼ均一な流量で供給することができる。供給されたガス6の密度は空間的にほぼ一様となるので、発生する軟X線の再現性が向上する。
さらに、ガス6を、放電管1の内筒部13を介して、放電管1の内部(プラズマ生成部分)に供給しているので、X線取り出し部9の近傍に拡散するガス6の量を、従来に較べて減少させることができる。これにより、外部に取り出せる軟X線8の強度を向上させることができる。
【選択図】図2
【解決手段】 ガス導入口51から、プラズマ生成用のガス6を、ガス溜まり14に送る。供給されたガス6は、供給圧力によって、多孔質の内筒部13を透過して、放電管1の内部に供給される。これにより、ガス6を、放電管1の内部(プラズマ生成部分)にほぼ均一な流量で供給することができる。供給されたガス6の密度は空間的にほぼ一様となるので、発生する軟X線の再現性が向上する。
さらに、ガス6を、放電管1の内筒部13を介して、放電管1の内部(プラズマ生成部分)に供給しているので、X線取り出し部9の近傍に拡散するガス6の量を、従来に較べて減少させることができる。これにより、外部に取り出せる軟X線8の強度を向上させることができる。
【選択図】図2
Description
本発明は、軟X線発生装置に関するものである。
従来の軟X線発生装置の概要を、図1を用いて説明する。この装置では、円筒状の放電管1が真空容器2中に配置されている。また、この装置では、高電圧発生装置(電源)3により発生させた高電圧を放電管1の二つの電極4へ印加して、二つの電極4の間に放電を生じさせる。また、これと同期させて、ガス導入口5よりガス6を放電管内に導入する。これによりプラズマ7が生成し、プラズマ7から軟X線8が発生する。発生した軟X線8は、軟X線取り出し部9へ向かって進む。
しかしながら、この方法では、ガス導入口5からの距離に応じて、放電管1の内部におけるガス密度の空間分布が変動する。すなわち、ガス密度の空間分布が、放電管1の内部で不均一となる。
すると、プラズマ7において流体不安定性が成長し、再現性よく軟X線8が発生しない。すなわち、空間的または時間的に、軟X線の発生強度がばらついてしまうという問題がある。
また、従来の方法では、ガス導入口5から真空容器2の内部へ導入したガス6のうち、X線取り出し部9付近へ拡散したガスが、軟X線8を吸収し、取り出せる軟X線強度が低下してしまうという問題もある。
本発明は、前記の状況に鑑みてなされたものである。本発明の第1の目的は、軟X線の発生強度のばらつきを低下させることができる軟X線発生装置を提供することである。本発明の第2の目的は、取り出せる軟X線強度を向上させることができる軟X線発生装置を提供することである。
本発明に係る軟X線発生装置は、放電管と、電極と、電源と、ガス流路とを備えている。前記放電管は、略筒状の内面を有している。前記略筒状の内面における軸方向の両端は開口されている。さらに、前記放電管は、前記内面の少なくとも一部を構成する内壁部を備えている。前記内壁部は、多孔質材料により構成されている。前記電極は、第1電極部と第2電極部とを備えている。前記第1電極部と第2電極部は、前記放電管の内面またはその近傍に、前記内面の軸方向において離間して配置されている。前記内壁部は、前記第1電極部と第2電極部との間に配置されている。前記電源は、前記第1電極部と第2電極部との間における放電を発生させる構成となっている。前記ガス流路は、プラズマ発生用のガスを前記内壁部の背面側に供給することにより、前記ガスを前記内壁部の内面側に送り出す構成となっている。
前記内壁部を、前記放電管の内面と同軸の筒状に構成してもよい。
前記放電管の内部であって、かつ、前記内壁部の背面に面する位置に、前記ガス流路自体よりも広い面積で前記背面に前記ガスを供給するガス溜まりを形成してもよい。前記ガス流路は、前記ガス溜まりに前記ガスを供給する構成となっている。
前記放電管の内部であって、かつ、前記内壁部の背面に面する位置に、前記筒状に構成された内壁部の背面のほぼ全体を覆う、略筒状のガス溜まりを形成してもよい。前記ガス流路は、前記ガス溜まりに前記ガスを供給する構成となっている。
本発明によれば、放電管内のガス密度の空間分布を従来よりも均一化することにより、軟X線の発生強度のばらつきを低下させることができる。また、本発明によれば、X線取り出し部付近へのガスの拡散を低減させることにより、取り出せる軟X線強度を向上させることができる。
本発明の一実施形態に係る軟X線発生装置を、図2を参照しながら説明する。なお、本実施形態の説明においては、従来の装置と基本的に共通する構成については、同一符号を付して説明を簡略化する。
本実施形態の発生装置は、放電管1と、真空容器2と、高電圧発生装置(電源)3と、電極4と、ガス流路10とを主要な構成として備えている。
真空容器2は、ガス導入口51と軟X線取り出し部9とを有している。ガス導入口51には、高圧ガス源(図示せず)が接続されている。これにより、ガス導入口51は、プラズマ生成用のガスを真空容器2の内部に高圧で送り込めるようになっている。プラズマ生成用のガスとしては、例えば、ヘリウム、アルゴン、クリプトンなどの不活性ガスであるが、これらには限定されない。真空装置2の内部の真空度は、軟X線8を取り出せる程度に設定されていればよい。
軟X線取り出し口9は、真空容器2の側面に設けられた開口により構成されている。軟X線取り出し口9の外側には、軟X線8を取得して利用するための軟X線光学系(図示せず)が配置されている。
放電管1は、真空容器2の内部に配置されている。放電管1は、全体として円筒状に形成されており、略筒状の内面11を有している。また、略筒状の内面11における軸方向(図2中左右方向)の両端は開口されている。
放電管1は、いずれも円筒状に形成された外筒部12と内筒部13とガス溜まり14とを備えている。
外筒部12は、略円筒状に構成されている。外筒部12は、ガス導入口51からのガス6をガス溜まり14に導く連通孔15を有している。連通孔15は、この実施形態では、外筒部12の径方向に沿って形成されている。連通孔15には、前記したガス導入口51が接続されている。連通孔15とガス導入口51により、本実施形態におけるガス流路10が構成されている。
ガス溜まり14は、外筒部12と内筒部13との間に形成されている。これにより、ガス溜まり14は、放電管1の内部に形成されたものとなっている。また、ガス溜まり14は、ガス流路10に接続されている。ガス溜まり14は、内筒部13の背面のほぼ全体に面している。すなわち、ガス溜まり14は、ほぼ円筒状の空間により構成されている。ガス溜まり14は、ガス流路10自体を内筒部13の背面に面して配置するよりも広い面積で、ガス6を内筒部13の背面に供給するようになっている。
内筒部13は、本発明における内壁部に相当するものである。内筒部13は、放電管1の内面11の一部を構成している。内筒部13は、多孔質材料により構成されている。こにより、内筒部13の背面側に供給されたガス6を内面側に供給できるようになっている。このような目的で利用できる多孔質材料としては、例えば、アルミナ(Al2O3)製の焼結セラミクスを用いることができる。焼結温度、時間を調整することにより、形成される穴の特性を制御することができる。もちろん、焼結セラミクス以外の多孔質材料を用いることも可能である。内筒部13は、放電管1の内面11と同軸の筒状に構成されている。
電極4は、第1電極部41と第2電極部42とを備えている。第1電極部41と第2電極部42は、放電管1の内面11における両端に、内面11の軸方向(図2中左右方向)において離間して配置されている。これにより、内筒部13は、第1電極部41と第2電極部42との間に配置されたものとなっている。この実施形態では、内筒部13の両端部は、第1電極部41と第2電極部42とにそれぞれ接しているが、必ずしも接している必要はない。
電源3は、第1電極部41と第2電極部42とに電気的に接続されており、これらの電極部に高電圧を印加する構成となっている。これにより、電源3は、放電管1の内部に放電を起こすようになっている。
つぎに、本実施形態に係る装置の動作について説明する。この装置においては、ガス導入口51から、プラズマ生成用のガス6を、真空容器2の内部に高圧で導入する。導入されたガス6は、連通孔15を通ってガス溜まり14に送られる。ガス溜まり14に供給されたガス6は、供給圧力によって、多孔質の内筒部13を透過して、放電管1の内部に供給される。ガス溜まり14に溜まったガスから内筒部13の背面への圧力は、内筒部13での透過抵抗がある程度高ければ、場所に依らずほぼ一定となる。
したがって、本実施形態の装置によれば、ガス6を、放電管1の内部(プラズマ生成部分)にほぼ均一な流量で供給することができる。
一方、電源3から、第1電極部41および第2電極部42に高電圧を印加する。すると、電極部の間で放電を生じてプラズマ7が生成し、このプラズマ7から軟X線8が発生する。発生した軟X線8は、軟X線取り出し部9へ向けて進み、軟X線光学系(図示せず)に照射される。
本実施形態では、ガス6を、放電管1の内部(プラズマ生成部分)にほぼ均一な流量で供給しているので、この内部におけるガス6の密度が空間的にほぼ一様となる。すると、発生するプラズマ7の流体不安定性が成長しにくいという利点がある。したがって、本実施形態では、発生する軟X線の空間的ないし時間的な安定性が向上し、軟X線の再現性が向上するという利点がある。
さらに、本実施形態では、ガス6を、放電管1の両端からでなく、放電管1の内筒部13の背面側からその内部に供給しているので、X線取り出し部9の近傍に拡散するガス6の量を、従来に較べて減少させることが容易となる。したがって、ガス6により吸収される軟X線8の量が減少し、外部に取り出せる軟X線8の強度を向上させることができるという利点がある。
なお、本発明は、上記した実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得るものである。
例えば、前記実施形態では、各電極部を電源に接続するものとしたが、一方の電極部を接地とし、残りの電極部のみを電源に接続しても良い。要するに、電極部の間で放電できればよい。
また、前記実施形態では、多孔質の内壁部を筒状としたが、これには限らない。たとえば、複数の板状の内壁部を、放電管1の内面11における複数箇所に配置し、各内壁部の背面に、一つまたは複数のガス溜まりからガス6を供給しても良い。要は、放電管1の内部(プラズマ生成部分)に、実質的にほぼ均一にガス6を供給できればよい。
さらに、前記実施形態では、ガス溜まり14を設けているが、これは必須ではない。ガス流路10の形状や配置、および、多孔質の内壁部の形状や配置により、放電管1の内部(プラズマ生成部分)に、実質的にほぼ均一にガス6を供給できるのであれば、ガス溜まり14を省略しても良い。
1 放電管
11 内面
12 外筒部
13 内筒部
14 ガス溜まり
15 連通孔
2 真空容器
3 高電圧発生装置(電源)
4 電極
41 第1電極部
42 第2電極部
5・51 ガス導入口
6 ガス
7 プラズマ
8 軟X線
9 軟X線取り出し部
10 ガス流路
11 内面
12 外筒部
13 内筒部
14 ガス溜まり
15 連通孔
2 真空容器
3 高電圧発生装置(電源)
4 電極
41 第1電極部
42 第2電極部
5・51 ガス導入口
6 ガス
7 プラズマ
8 軟X線
9 軟X線取り出し部
10 ガス流路
Claims (4)
- 放電管と、電極と、電源と、ガス流路とを備えており、
前記放電管は、略筒状の内面を有しており、
前記略筒状の内面における軸方向の両端は開口されており、
さらに、前記放電管は、前記内面の少なくとも一部を構成する内壁部を備えており、
前記内壁部は、多孔質材料により構成されており、
前記電極は、第1電極部と第2電極部とを備えており、
前記第1電極部と第2電極部は、前記放電管の内面またはその近傍に、前記内面の軸方向において離間して配置されており、
前記内壁部は、前記第1電極部と第2電極部との間に配置されており、
前記電源は、前記第1電極部と第2電極部との間における放電を発生させる構成となっており、
前記ガス流路は、プラズマ発生用のガスを前記内壁部の背面側に供給することにより、前記ガスを前記内壁部の内面側に送り出す構成となっている
ことを特徴とする軟X線発生装置。 - 前記内壁部は、前記放電管の内面と同軸の筒状に構成されていることを特徴とする請求項1に記載の軟X線発生装置。
- 前記放電管の内部であって、かつ、前記内壁部の背面に面する位置には、前記ガス流路自体よりも広い面積で前記背面に前記ガスを供給するガス溜まりが形成されており、前記ガス流路は、前記ガス溜まりに前記ガスを供給する構成となっていることを特徴とする請求項1または2に記載の軟X線発生装置。
- 前記放電管の内部であって、かつ、前記内壁部の背面に面する位置には、前記筒状に構成された内壁部の背面のほぼ全体を覆う、略筒状のガス溜まりが形成されており、前記ガス流路は、前記ガス溜まりに前記ガスを供給する構成となっていることを特徴とする請求項2に記載の軟X線発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004087658A JP2005276606A (ja) | 2004-03-24 | 2004-03-24 | 軟x線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004087658A JP2005276606A (ja) | 2004-03-24 | 2004-03-24 | 軟x線発生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005276606A true JP2005276606A (ja) | 2005-10-06 |
Family
ID=35176043
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2004087658A Withdrawn JP2005276606A (ja) | 2004-03-24 | 2004-03-24 | 軟x線発生装置 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2005276606A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016031796A (ja) * | 2014-07-28 | 2016-03-07 | 株式会社Ihi | プラズマ光源システム |
-
2004
- 2004-03-24 JP JP2004087658A patent/JP2005276606A/ja not_active Withdrawn
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2016031796A (ja) * | 2014-07-28 | 2016-03-07 | 株式会社Ihi | プラズマ光源システム |
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Legal Events
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