JP2009540568A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2009540568A5
JP2009540568A5 JP2009514301A JP2009514301A JP2009540568A5 JP 2009540568 A5 JP2009540568 A5 JP 2009540568A5 JP 2009514301 A JP2009514301 A JP 2009514301A JP 2009514301 A JP2009514301 A JP 2009514301A JP 2009540568 A5 JP2009540568 A5 JP 2009540568A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chamber
wall
volume
orifice
insulator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009514301A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5614617B2 (ja
JP2009540568A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US11/447,502 external-priority patent/US7369596B2/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2009540568A publication Critical patent/JP2009540568A/ja
Publication of JP2009540568A5 publication Critical patent/JP2009540568A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5614617B2 publication Critical patent/JP5614617B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (10)

  1. ガス放電レーザのためのチャンバであって、
    壁を有し、前記壁が、チャンバ容積を囲む内面と、外面とを有すると共に、オリフィスを伴って形成される、チャンバ・ハウジングと、
    前記オリフィスを貫通して延びる、前記チャンバ容積の中に電流を流すための少なくとも1つの導電体と、
    前記導電体と前記壁との間に配置される、前記オリフィスを通るガス流を防いで前記容積中のチャンバ圧力が保持できるようにするための部材と、
    前記オリフィスに隣接して配置される、前記壁の前記外面の少なくとも一部における圧力を保持して前記チャンバ圧力に起因する前記オリフィス近辺における前記壁の反りを減少させるための与圧コンパートメントと、
    を備えることを特徴とするチャンバ。
  2. 前記流れ防止部材が、セラミック絶縁体と、前記セラミック絶縁体と前記ハウジング壁との間に配置される圧縮可能なシールとを含むことを特徴とする、請求項1に記載のチャンバ。
  3. 前記チャンバ容積内部の前記ガス圧が500kPaを超えることを特徴とする、請求項1に記載のチャンバ。
  4. 前記導電体は放電電極と電気的に連通することを特徴とする、請求項1に記載のチャンバ。
  5. ガス放電レーザのためのチャンバであって、
    与圧可能なチャンバ容積を囲む壁を有するチャンバ・ハウジングと、
    前記チャンバ容積の中に配置された一対の離間された放電電極と、
    前記容積の中に配置され、前記ハウジング壁の一部に連結されたセラミック絶縁体と、 前記絶縁体の変形を減少させるために、前記壁の一部の両側の圧力差を減少させる手段と、
    を備えることを特徴とするチャンバ。
  6. 前記壁の一部は複数のオリフィスを伴って形成され、前記チャンバは複数の導電体をさらに備え、前記壁を通して前記放電電極のうちの1つに電流を流すために、前記導電体の各々はそれぞれのオリフィスを貫通して延びることを特徴とする、請求項5に記載のチャンバ。
  7. 前記絶縁体は前記電極のうちの1つと前記壁の一部との間に位置決めされることを特徴とする、請求項5に記載のチャンバ。
  8. 前記減少させる手段が、前記壁の一部に取り付けてコンパートメントを構築するためのカバーと、前記コンパートメントに与圧するためのガス供給源とを含むことを特徴とする、請求項5に記載のチャンバ。
  9. 前記カバーは、前記コンパートメント内のオゾンのビルドアップを除去するために前記カバーを通過してガスが流れるようにするための出口オリフィスを伴って形成されることを特徴とする、請求項8に記載のチャンバ。
  10. レーザ・ビームを生成するための方法であって、
    チャンバ容積を囲む壁を有するチャンバ・ハウジングを提供し、
    前記チャンバ容積の中に一対の離間された放電電極を配置し、
    前記容積の中にセラミック絶縁体を配置し、前記絶縁体を前記ハウジング壁の一部に連結し、
    前記チャンバをガス状利得媒質で与圧し、
    前記利得媒質中に放電を生じさせるために、前記電極間に電圧差を構築し、
    前記絶縁体の変形を減少させるために、前記壁の一部の両側の圧力差を減少させる、
    ステップを含むことを特徴とする方法。
JP2009514301A 2006-06-05 2007-05-22 高エネルギー・エキシマレーザ源用のチャンバ Active JP5614617B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/447,502 US7369596B2 (en) 2006-06-05 2006-06-05 Chamber for a high energy excimer laser source
US11/447,502 2006-06-05
PCT/US2007/012393 WO2007145792A2 (en) 2006-06-05 2007-05-22 Chamber for a high energy excimer laser source

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2009540568A JP2009540568A (ja) 2009-11-19
JP2009540568A5 true JP2009540568A5 (ja) 2010-07-08
JP5614617B2 JP5614617B2 (ja) 2014-10-29

Family

ID=38790122

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009514301A Active JP5614617B2 (ja) 2006-06-05 2007-05-22 高エネルギー・エキシマレーザ源用のチャンバ

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7369596B2 (ja)
EP (1) EP2036169B1 (ja)
JP (1) JP5614617B2 (ja)
KR (1) KR101385047B1 (ja)
TW (1) TWI345348B (ja)
WO (1) WO2007145792A2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8031761B2 (en) * 2003-12-07 2011-10-04 Adaptive Spectrum And Signal Alignment, Inc. Adaptive margin and band control
US7564888B2 (en) * 2004-05-18 2009-07-21 Cymer, Inc. High power excimer laser with a pulse stretcher
EP3734442A1 (en) 2005-10-04 2020-11-04 Assia Spe, Llc Dsl system
TW201334333A (zh) * 2011-12-20 2013-08-16 Ipg Microsystems Llc 根據電性引入使用多預照放射放電之氣體放電雷射裝置中之預照放射設備
CN103022858B (zh) * 2012-12-07 2014-09-24 华中科技大学 一种电晕预电离装置
JP7381728B2 (ja) * 2019-10-11 2023-11-15 サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー 放電レーザ用導電部材

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4719641A (en) * 1985-11-08 1988-01-12 Summit Technology, Inc. Multiple chamber laser containment system
US5377215A (en) * 1992-11-13 1994-12-27 Cymer Laser Technologies Excimer laser
JP2000223757A (ja) * 1999-02-04 2000-08-11 Komatsu Ltd ガスレーザ
US6661826B2 (en) * 1999-08-31 2003-12-09 Cymer, Inc. Laser chamber insulator with sealed electrode feedthrough
US20050083984A1 (en) * 2003-10-17 2005-04-21 Igor Bragin Laser system sealing

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009540568A5 (ja)
CN101287325B (zh) 静电消除器
EA200501210A1 (ru) Электродный узел для генерации плазмы
JP2008205219A (ja) シャワーヘッドおよびこれを用いたcvd装置
WO2008114475A1 (ja) バリア膜形成装置、バリア膜形成方法及びバリア膜被覆容器
HU228019B1 (en) Ozone generating device
US20130161512A1 (en) Ion generator
KR100355814B1 (ko) 저온플라즈마발생장치
JP5449166B2 (ja) 高電圧絶縁装置および、当該高電圧絶縁装置を備えたイオン加速装置
WO2007145792A3 (en) Chamber for a high energy excimer laser source
JP6591735B2 (ja) プラズマ発生装置
JP3723794B2 (ja) プラズマ表面処理装置の電極構造
US20150059910A1 (en) Plasma cvd apparatus, method for forming film and dlc-coated pipe
KR101098083B1 (ko) 플라스마 처리 장치 및 그 제조 방법
JP2005302681A (ja) プラズマ処理装置
JP5126983B2 (ja) プラズマ発生装置
JP5911178B2 (ja) プラズマ表面処理装置
WO2018185838A1 (ja) プラズマ発生装置
JP3984609B2 (ja) プラズマ処理装置の電極構造
US9321645B2 (en) Ozone generator
JP4410666B2 (ja) チューブ内処理装置及び処理用部材並びに処理方法
JP3959049B2 (ja) プラズマ処理装置の電極構造
TWI483283B (zh) 電力導入裝置及其相關電漿系統
JP4551262B2 (ja) プラズマ処理装置
WO2018185837A1 (ja) プラズマ発生装置