JP6588152B2 - 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 - Google Patents
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Description
被検査ウェハ104表面に負電位を形成するため、高圧電源110(負電圧印加電源)は、電子線の加速電圧とほぼ等しい負電圧をウェハホルダ109に印加している。照射電子線100aは、ウェハホルダ109(試料支持部材)に印加された負電圧によって形成される減速電界によって被検査ウェハ104の手前で減速される。ウェハホルダ109に印加する負電圧は、被検査ウェハ104に衝突する前に反対方向に電子軌道が反転する様に、微調整しておく。ウェハで反射された電子は、ミラー電子100cとなる。
輝度変位部位が、右端で外れた位置に次の画像の左端中点が来るように、左端で外れた位置に次の画像の右端中点が来るように、下端で外れた位置に次の画像の上端中点が来るように、或いは上端で外れた位置に次の画像の下端中点が来るように、移動ステージを制御すれば、画像の重なり無く効率的に傷様コントラストの追跡ができる。傷様コントラストの全長の計算、及びマップ状の表示は、実施例1と同じにすることができる。
Claims (10)
- 電子源から放出された電子ビームが照射される試料を支持する試料支持部材と、前記試料に照射される前記電子ビームに対する減速電界を形成するための負電圧印加電源と、前記減速電界によって、前記試料に到達することなく反射した電子が結像される撮像素子と、前記試料に向かって紫外光を照射する紫外光源と、前記試料支持部材を移動させる移動ステージと、当該移動ステージを制御する制御装置を備え、当該制御装置は、前記撮像素子によって撮像された画像に含まれる線状部の一部、或いは当該線状部の延長線上の線上部位を、前記電子ビームの照射領域の特定の部位に位置付けるように、前記移動ステージを制御すると共に、前記線状部の端部が前記電子ビームの照射領域内に位置付けられるまで、前記移動ステージの制御を繰り返すことを特徴とする欠陥検査装置。
- 請求項1において、
前記制御装置は、前記線状部が前記画像外に位置すると判断できる場合に、前記画像外に位置する線状部を前記電子ビームの照射領域に含めるように、前記移動ステージを移動させることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1において、
前記制御装置は、前記紫外光の照射条件を変えて得られた2以上の画像に基づいて、前記線状部の追跡を行うか否かの判定を行うことを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項3において、
前記制御装置は、前記2以上の画像に含まれる線状部位が、所定の変化をしたときに、前記線状部の追跡を行うように前記移動ステージを制御することを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1において、
前記制御装置は、前記線状部の端部が、前記画像内の所定の位置に位置付けられるように、前記移動ステージを移動させることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1において、
前記制御装置は、前記線状部の端部の位置に応じて、前記移動ステージを移動させることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項6において、
前記制御装置は、前記線状部の端部が位置する画像の辺の方向に前記移動ステージを移動させることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1において、
前記画像を表示する表示装置を備え、当該表示装置には、前記移動ステージの移動による前記試料上の探索軌道と、前記試料上に形成される回路の設計データが重畳表示されることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1において、
前記制御装置は、前記移動ステージの移動の繰り返しに基づいて得られた複数の画像に基づいて、前記線状部の長さを算出することを特徴とする欠陥検査装置。 - 電子ビームを減速するための減速電界を形成した状態で、移動ステージに載せられた試料に向かって電子ビームを照射し、前記減速電界によって、試料に到達することなく反射した電子を検出することによって、試料の画像を生成し、当該画像を用いて欠陥検査を行う欠陥検査方法であって、前記試料に紫外光を照射した状態で、前記電子ビームを照射し、当該照射によって得られた画像に含まれる線状部を特定し、前記画像に含まれる線状部の一部、或いは当該線状部の延長線上の線上部位を、前記電子ビームの照射領域の特定の部位に位置付けるように、前記移動ステージを移動させると共に、前記線状部の端部が前記電子ビームの照射領域内に位置付けられるまで、前記移動ステージを用いた移動を繰り返すことを特徴とする欠陥検査方法。
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