JP6571640B2 - 固定された、および携帯式のコーティング装置およびコーティング法 - Google Patents
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- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
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- C23C16/482—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating by irradiation, e.g. photolysis, radiolysis, particle radiation using incoherent light, UV to IR, e.g. lamps
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- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
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- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/52—Controlling or regulating the coating process
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- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
- C23C16/545—Apparatus specially adapted for continuous coating for coating elongated substrates
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- D06B1/00—Applying liquids, gases or vapours onto textile materials to effect treatment, e.g. washing, dyeing, bleaching, sizing or impregnating
- D06B1/08—Applying liquids, gases or vapours onto textile materials to effect treatment, e.g. washing, dyeing, bleaching, sizing or impregnating from outlets being in, or almost in, contact with the textile material
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- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- D06M10/025—Corona discharge or low temperature plasma
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- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
- D06M10/00—Physical treatment of fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, e.g. ultrasonic, corona discharge, irradiation, electric currents, or magnetic fields; Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements
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Description
[0001] この出願は、2013年6月11日に出願された米国仮特許出願第61/833,578号の利益を主張し、それを参照により本明細書に援用する。
[0002] この発明は、米国国防総省における海軍研究事務所からの助成金番号DD−N000141110069の下での政府援助によりなされた。政府は本発明において一定の権利を有する。
・特定のコーティング化学物質または化学物質の組み合わせが供給される。一部の態様において、その化学物質は、コーティング化学物質リザーバーカートリッジ中に配置されることができる。
・標的表面は、上記で成膜チャンバー(9)または組み合わせられた表面活性化および成膜チャンバー(10)に関して記載されたプロセスの1つに関連する表面活性化装置により処理されることができる。
[0051]
これらに限定されるものではないが、本発明は以下の態様の発明を包含する。
[1]コーティングを成膜するための装置であって、該装置が以下:
支持体を受け取るための第1チャンバー;
該第1チャンバーに連結された表面活性化装置、ここで、該表面活性化装置は、該支持体の表面と反応して該表面をエネルギー的に反応性にするオゾン、酸素、過酸化水素、ハロゲン、または他の酸化種を生成する;
支持体を所望のコーティングでコートするために利用される化学物質を供給するプロセスガス供給;および
プロセスガス供給に連結されている、コーティング化学物質を調製するためのコーティング反応器、ここで、該コーティング反応器は、該コーティング化学物質を供給するディスペンサーおよび該支持体に供給されるコーティング化学物質を検証する化学物質検証器を含み、該コーティング化学物質は、該支持体の表面に共有結合する;
を含む装置。
[2][1]に記載の装置であって、該支持体の表面活性化およびコーティングが該第1チャンバー中で実施される装置。
[3][1]に記載の装置であって、該支持体の表面活性化が該第1チャンバー中で実施され、該支持体の所望のコーティングによるコーティングが別個のチャンバー中で実施される装置。
[4][1]に記載の装置であって、さらに該第1チャンバーに連結されたベントを含み、該ベントが該第1チャンバー中の環境を制御する装置。
[5][1]に記載の装置であって、さらに該第1チャンバーに連結された1個以上のフィルターを含み、該1個以上のフィルターが、不必要な副産物を該第1チャンバーから除去する装置。
[6][1]に記載の装置であって、該コーティング化学物質が、フルオロアルキルシランの一般式[CF3(CF2)a(CH2)b]cSiX4−c(式中、a=0、1、2、...〜20、b=0、1、2、...〜10、c=1、2または3;X=Cl、Br、Iまたは他の適切な有機性脱離基);フルオロアルキルシラン[CF3(CF2)a(CH2)b]cSiX4−c(式中、a=0、1、2、...〜20、b=0、1、2、...〜10、c=1、2または3;X=Cl、Br、Iまたは他の適切な有機性脱離基);アルキルシランの一般式[CH3(CH2)a]bSiX4−b(式中、a=0、1、2、...〜20、b=1、2または3;X=Cl、Br、Iまたは他の適切な有機性脱離基);アルコキシフルオロアルキルシラン[CF3(CF2)a(CH2)b]cSi[アルコキシ]4−c(式中、a=0、1、2、...〜20、b=0、1、2、...〜10、c=1、2または3;式中、該アルコキシ基は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、またはそれらの組み合わせであることができる);またはアルコキシアルキルシラン[CH3(CH2)a]bSi[アルコキシ]4−c(式中、a=0、1、2、...〜20、b=0、1、2、...〜10、c=1、2または3;式中、該アルコキシ基は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、またはそれらの組み合わせであることができる)を有する装置。
[7][1]に記載の装置であって、該化学物質検証器が、以下:
コーティング化学物質を受け取る検証チャンバー;
該検証チャンバーに連結された少なくとも1個の光励起源、ここで、該少なくとも1個の光励起源は、該コーティング化学物質を該検証チャンバー中で励起する;および
該検証チャンバーに連結された少なくとも1個の光学検出器、ここで、該少なくとも1個の光学検出器は、該検証チャンバー中の該コーティング化学物質の光吸収または光学強度をモニターする;
を含む装置。
[8][7]に記載の装置であって、該少なくとも1個の光学検出器により検出された光学プロフィールが、該コーティング化学物質の光学プロフィールを表す2進コードにデジタル化される装置。
[9][8]に記載の装置であって、該2進コードが、該所望のコーティングに対応する所望のコードに対して比較される装置。
[10][1]に記載の装置であって、該コーティング反応器が、さらに加熱素子を含み、該加熱素子が、該ディスペンサーからのコーティング化学物質の溶媒を反応性化学物質蒸気に変換する装置。
[11][1]に記載の装置であって、さらに該支持体を輸送するコンベヤーローラーを含み、該コンベヤーローラーが、該支持体に1mm〜5mと等しい、またはその間の曲率半径を成膜の間に施す装置。
[12][1]に記載の装置であって、さらにブラシローラーを含み、該ブラシローラーが該支持体の繊維を成膜の間に分離する装置。
[13][1]に記載の装置であって、さらに圧縮空気を該支持体に向けて供給する圧縮空気ノズルを含み、該圧縮空気が該支持体の繊維を成膜の間に分離する装置。
[14][1]に記載の装置であって、さらに以下:
該支持体を輸送するコンベヤーローラー、ここで該コンベヤーローラーは、該支持体に対して成膜の間に曲げを施す;および
ブラシローラー、ここで該ブラシローラーは、該支持体の繊維を成膜の間に分離する;
を含む装置。
[15][1]に記載の装置であって、該表面活性化装置が、1個以上の紫外線源を含み、該1個以上の紫外線源が、該支持体の付近でオゾンプラズマを生成する装置。
[16][1]に記載の装置であって、さらに該第1チャンバーに連結された表面活性化ガス供給を含み、該表面活性化ガス供給が、該支持体の表面を活性化するために利用される表面活性化ガスを供給する装置。
[17][1]に記載の装置であって、該表面活性化装置が、上部電極および下部電極の間に配置された誘電体ならびに該上部電極および下部電極に連結された電源を提供する処理ヘッドを含む装置。
[18][1]に記載の装置であって、さらに以下:
処理溶液のためのトラフ、ここで該支持体は、該処理溶液を通って輸送される;および
該トラフ中に配置された冷却棒、ここで該冷却棒は、該処理溶液の温度を制御する;
を提供する溶液処理システムを含む装置。
[19][18]に記載の装置であって、該溶液処理システムが、さらにアースされている金属ローラーを含む装置。
[20][18]に記載の装置であって、該溶液処理システムが、さらにエアハンドラーを含み、該エアハンドラーが、低温ガスを該支持体および処理溶液の界面において吹き付ける装置。
[21]コーティングを成膜するための方法であって、該方法が以下の工程:
該支持体の表面を表面活性化装置で活性化し、ここで表面活性化装置は、処理後に該表面をエネルギー的に反応性にするオゾン、酸素、過酸化水素、ハロゲン、または他の酸化種を生成し;
該支持体を所望のコーティングでコートするためのコーティング反応器を用いてコーティング化学物質を調製し、ここで該コーティング反応器は、該コーティング化学物質を供給するディスペンサーおよび該コーティング化学物質を検証する化学物質検証器を含み;そして
該表面を該所望のコーティングでコートし、ここで該表面は、該コーティング化学物質の分子と共有結合する;
を含む方法。
[22][21]に記載の方法であって、該活性化およびコーティング工程が、両方とも組み合わせられた表面活性化および成膜チャンバー中で実施される方法。
[23][21]に記載の方法であって、該コーティング工程が、第1チャンバー中で実施され、該活性化工程が、該第1チャンバーとは別個の第2チャンバー中で実施される方法。
[24][21]に記載の方法であって、さらに、該活性化またはコーティング工程の間に環境を制御するために該活性化またはコーティング工程の間にベントの工程を含む方法。
[25][21]に記載の方法であって、さらに、該活性化またはコーティング工程の間に不必要な副産物を1個以上のフィルターを用いて除去することを含む方法。
[26][21]に記載の方法であって、該コーティング化学物質が、フルオロアルキルシランの一般式[CF3(CF2)a(CH2)b]cSiX4−c(式中、a=0、1、2、...〜20、b=0、1、2、...〜10、c=1、2または3;X=Cl、Br、Iまたは他の適切な有機性脱離基);フルオロアルキルシラン[CF3(CF2)a(CH2)b]cSiX4−c(式中、a=0、1、2、...〜20、b=0、1、2、...〜10、c=1、2または3;X=Cl、Br、Iまたは他の適切な有機性脱離基);アルキルシランの一般式[CH3(CH2)a]bSiX4−b(式中、a=0、1、2、...〜20、b=1、2または3;X=Cl、Br、Iまたは他の適切な有機性脱離基);アルコキシフルオロアルキルシラン[CF3(CF2)a(CH2)b]cSi[アルコキシ]4−c(式中、a=0、1、2、...〜20、b=0、1、2、...〜10、c=1、2または3;式中、該アルコキシ基は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、またはそれらの組み合わせであることができる);またはアルコキシアルキルシラン[CH3(CH2)a]bSi[アルコキシ]4−c(式中、a=0、1、2、...〜20、b=0、1、2、...〜10、c=1、2または3;式中、該アルコキシ基は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、またはそれらの組み合わせであることができる)を有する方法。
[27][21]に記載の方法であって、該調製工程が、さらに以下の工程:
検証チャンバーにおいて該コーティング化学物質を受け取り;
該検証チャンバー中の該コーティング化学物質を、少なくとも1個の光励起源を用いて励起し;そして
該検証チャンバー中の該コーティング化学物質の光吸収または光学強度を、少なくとも1個の光学検出器を用いてモニターする;
を含む方法。
[28][27]に記載の方法であって、さらに該少なくとも1個の光学検出器により検出された光学プロフィールをデジタル化して該コーティング化学物質の光学プロフィールを表す2進コードにすることを含む方法。
[29][28]に記載の方法であって、さらに該2進コードを該所望のコーティングに対応する所望のコードに対して比較することを含む方法。
[30][21]に記載の方法であって、該調製工程が、該コーティング化学物質の溶媒を加熱素子に分配することを含み、該加熱素子が、該コーティング化学物質の溶媒を反応性化学物質蒸気に変換する方法。
[31][21]に記載の方法であって、さらに該支持体をコンベヤーローラーを用いて輸送することを含み、該コンベヤーローラーが、該支持体に1mm〜5mと等しい、またはその間の曲率半径を成膜の間に施す方法。
[32][21]に記載の方法であって、さらに該支持体をブラシローラーを用いて輸送することを含み、該ブラシローラーが、該支持体の繊維を成膜の間に分離する方法。
[33][21]に記載の方法であって、さらに圧縮空気を該支持体に圧縮空気ノズルを用いて供給することを含み、該圧縮空気が、該支持体の繊維を成膜の間に分離する方法。
[34][21]に記載の方法であって、さらに該支持体をコンベヤーローラーおよびブラシローラーを用いて輸送することを含み、該コンベヤーローラーが、該支持体に対して成膜の間に曲げを施し、該ブラシローラーが、該支持体の繊維を成膜の間に分離する方法。
[35][21]に記載の方法であって、該表面活性化装置が、1個以上の紫外線源を含み、該1個以上の紫外線源が、該支持体の付近でオゾンプラズマを生成する方法。
[36][21]に記載の方法であって、さらに該活性化工程のために利用される表面活性化ガスを供給することを含む方法。
[37][21]に記載の方法であって、さらに交流を2個の電極の間に配置された誘電体を横切って適用して該支持体の付近でコロナ放電を提供することを含む方法。
[38][21]に記載の方法であって、さらに以下の工程:
該支持体を処理溶液を通して輸送し;そして
該処理溶液の温度を冷却棒を用いて制御する;
を含む方法。
[39][38]に記載の方法であって、該支持体が、アースされている金属ローラーにより輸送される方法。
[40][38]に記載の方法であって、さらに、低温ガスを該支持体および処理溶液の界面において吹き付けることを含む方法。
2 プロセスガス供給
3 表面活性化装置
4 表面活性化装置ガス供給
5 ベントまたは真空装置
6 加熱素子
7 NaOH、CaOまたはNaHCO3中和フィルター
8 活性炭フィルター
9 成膜チャンバー
10 組み合わせられた表面活性化および成膜チャンバー
11 誘電体
12 上部電極
13 下部電極
14 電源
15 センサー
16 マイクロコントローラー
17 アクチュエーター
310 アクチュエーター
320 化学物質リザーバーカートリッジ
330 化学物質ディスペンサー
335 チャンバー
340 光励起源
350−1 光学窓
350−2 光学窓
360−1 光学窓
360−2 光学窓
510 ディスペンサー
520 加熱素子
530 入力
540 出力
605 蒸気チャンバー
610 コンベヤーローラー
615 テキスタイル
620 ノズル
625 テキスタイル
630 ブラシローラー
635 ノズル
640 テキスタイル
645 圧縮空気ノズル
650 テキスタイル
655 より大きい半径のコンベヤーローラー
660 ノズル
665 ブラシローラー
710 チャンバー
720 強い紫外線源
730 標的表面
740 保護用ハウジングおよびシャッター
750 入口
760 出口
770 弁
1105 カーペットまたはテキスタイル
1110 トラフ
1115 処理溶液
1120 冷却棒
1125 エアハンドラー
1130 パイプ
1135 金属ローラー
A カーペットロール
B ローラー
C カーペット
D トラフ
E 圧搾ローラー
F ヒュームフード
G ダクト
H ACシステム
I ダクト
J カーペット取り入れドア
Claims (20)
- コーティングを成膜するための装置であって、該装置が以下:
支持体を受け取るための第1チャンバー;
該第1チャンバーに連結された表面活性化装置、ここで、該表面活性化装置は、該支持体の表面と反応して該表面をエネルギー的に反応性にするオゾン、酸素、過酸化水素、ハロゲン、または他の酸化種を生成する;
支持体を所望のコーティングでコートするために利用される化学物質を供給するプロセスガス供給;
プロセスガス供給に連結されている、コーティング化学物質を調製するためのコーティング反応器、ここで、該コーティング反応器は、該コーティング化学物質を供給するディスペンサーおよび該支持体に供給されるコーティング化学物質を検証する化学物質検証器を含み、該コーティング化学物質は、該支持体の表面に共有結合する;
を含み、化学物質検証器が、以下:
コーティング化学物質を受け取る検証チャンバー;
該検証チャンバーに連結された少なくとも1個の光励起源、ここで、該少なくとも1個の光励起源は、該コーティング化学物質を該検証チャンバー中で励起する;
検証チャンバーに連結された少なくとも1個の光学検出器、ここで、該少なくとも1個の光学検出器は、該検証チャンバー中の該コーティング化学物質の光吸収または光学強度をモニターし、該コーティング化学物質の組成を検証して質を確かにし、汚染物質または外来化学物質が存在しないことを確実にする;
を備えており、化学物質検証器は、光吸収または光学強度を利用して、少なくとも1個の光学検出器により検出された波長に対する強度の光学プロフィールを生成し、化学物質検証器は、波長および強度を所定の分解能で分割した格子パターンによって、該コーティング化学物質の光学プロフィールを2進コードにデジタル化する、上記装置。 - 該支持体の表面活性化およびコーティングが該第1チャンバー中で実施される、請求項1に記載の装置。
- 該支持体の表面活性化が該第1チャンバー中で実施され、該支持体の所望のコーティングによるコーティングが別個のチャンバー中で実施される、請求項1に記載の装置。
- さらに該第1チャンバーに連結されたベントを含み、該ベントが該第1チャンバー中の環境を制御する、請求項1に記載の装置。
- さらに該第1チャンバーに連結された1個以上のフィルターを含み、該1個以上のフィルターが、不必要な副産物を該第1チャンバーから除去する、請求項1に記載の装置。
- 該コーティング化学物質が、
フルオロアルキルシランの一般式[CF3(CF2)a(CH2)b]cSiX4−c(式中、a=0、1、2、...〜20、b=0、1、2、...〜10、c=1、2または3;X=Cl、Br、Iまたは他の適切な有機性脱離基);
フルオロアルキルシラン[CF3(CF2)a(CH2)b]cSiX4−c(式中、a=0、1、2、...〜20、b=0、1、2、...〜10、c=1、2または3;X=Cl、Br、Iまたは他の適切な有機性脱離基);
アルキルシランの一般式[CH3(CH2)a]bSiX4−b(式中、a=0、1、2、...〜20、b=1、2または3;X=Cl、Br、Iまたは他の適切な有機性脱離基);
アルコキシフルオロアルキルシラン[CF3(CF2)a(CH2)b]cSi[アルコキシ]4−c(式中、a=0、1、2、...〜20、b=0、1、2、...〜10、c=1、2または3;式中、該アルコキシ基は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、またはそれらの組み合わせであることができる);または
アルコキシアルキルシラン[CH3(CH2)a]bSi[アルコキシ]4−c(式中、a=0、1、2、...〜20、b=0、1、2、...〜10、c=1、2または3;式中、該アルコキシ基は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、またはそれらの組み合わせであることができる)
を有する、請求項1に記載の装置。 - 少なくとも1個の光学検出器により検出された光学プロフィールが、該コーティング化学物質の組成に対応する光学プロフィールを表す2進コードにデジタル化される、請求項1〜6のいずれかに記載の装置。
- 2進コードが、該所望のコーティングの組成に対応する所望のコードに対して比較される、請求項7に記載の装置。
- 該コーティング反応器が、さらに加熱素子を含み、該加熱素子が、該ディスペンサーからのコーティング化学物質の溶媒を反応性化学物質蒸気に変換する、請求項1に記載の装置。
- さらに該支持体を輸送するコンベヤーローラーを含み、該コンベヤーローラーが、該支持体に1mm〜5mと等しい、またはその間の曲率半径を成膜の間に施す、請求項1に記載の装置。
- さらにブラシローラーを含み、該ブラシローラーが該支持体の繊維を成膜の間に分離する、請求項1に記載の装置。
- さらに圧縮空気を該支持体に向けて供給する圧縮空気ノズルを含み、該圧縮空気が該支持体の繊維を成膜の間に分離する、請求項1に記載の装置。
- 該支持体を輸送するコンベヤーローラー、ここで該コンベヤーローラーは、該支持体に対して成膜の間に曲げを施す;および
ブラシローラー、ここで該ブラシローラーは、該支持体の繊維を成膜の間に分離する;
をさらに含む、請求項1に記載の装置。 - 該表面活性化装置が、1個以上の紫外線源を含み、該1個以上の紫外線源が、該支持体の付近でオゾンプラズマを生成する、請求項1に記載の装置。
- さらに該第1チャンバーに連結された表面活性化ガス供給を含み、該表面活性化ガス供給が、該支持体の表面を活性化するために利用される表面活性化ガスを供給する、請求項1に記載の装置。
- 該表面活性化装置が、上部電極および下部電極の間に配置された誘電体ならびに該上部電極および下部電極に連結された電源を提供する処理ヘッドを含む、請求項1に記載の装置。
- 処理溶液のためのトラフ、ここで該支持体は、該処理溶液を通って輸送される;および
該トラフ中に配置された冷却棒、ここで該冷却棒は、該処理溶液の温度を制御する;
を提供する溶液処理システムをさらに含む、請求項1に記載の装置。 - 該溶液処理システムが、さらにアースされている金属ローラーを含む、請求項17に記載の装置。
- 該溶液処理システムが、さらにエアハンドラーを含み、該エアハンドラーが、低温ガスを該支持体および処理溶液の界面において吹き付ける、請求項17に記載の装置。
- 少なくとも1個の光励起源が、コーティング化学物質を同時に励起する紫外線源および赤外線源を含んでなる、請求項1に記載の装置。
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