JP4220090B2 - オゾン発生電極プレート - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、オゾン原料ガスからオゾンを生成するオゾン発生装置に用いられるオゾン発生電極プレートに係り、特にオゾン原料ガスへの添加ガス成分によって、オゾン濃度が変動しないように安定したオゾン生成を可能とするオゾン発生電極プレートに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、例えば上下水道の殺菌・消臭・脱色、工業排水処理の消臭・脱色、パルプ脱色、および医療機器の殺菌を行なう目的で、オゾンが多く用いられてきている。
【０００３】
このオゾンを発生するオゾン発生装置としては、対向する複数の電極を備え、この複数の電極間で無声放電、すなわち体積放電を発生させて、オゾン原料ガスからオゾンを生成するものが知られている。
【０００４】
そして、この種のオゾン発生装置のうち、オゾン原料ガスである酸素ガスからオゾンを発生させるものでは、少量の窒素ガスや炭酸ガスの添加によって、高濃度のオゾンを生成することが容易となる。
【０００５】
特に、短ギャップ放電においては顕著であり、オゾン原料ガスとして、２〜４パーセント（％）程度の窒素ガスを酸素ガスに添加して、オゾン発生装置に供給することが一般に行なわれてきている。
【０００６】
この理由については、従来から明確な原因が解明されてきておらず、添加ガスをなくすことは困難である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、最近では、共面構造沿面放電を用いることで、３００ （ｇ／Ｎｍ³ ）以上の極めて高い濃度のオゾンを生成することが可能となってきている。
【０００８】
しかしながら、前述した従来例の場合と同様に、オゾン原料ガスである酸素ガスに含まれるごく微量の窒素ガス成分や炭酸ガス成分によって、生成するオゾン濃度が大幅な変動を起こしてしまう。
【０００９】
本発明の目的は、オゾン原料ガスへの添加ガス成分によって、オゾン濃度が変動しないように安定したオゾン生成を可能とするオゾン発生電極プレートを提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、第１の発明では、オゾン原料ガスからオゾンを生成するオゾン発生装置に用いられるオゾン発生電極プレートにおいて、基板と、基板の上に設けられ、外部から交流電圧が印加される対をなす電極と、対をなす電極を被覆する誘電体層とを備え、誘電体層の材料として、酸化ビスマスを１０〜９０重量パーセント（ｗｔ％）、酸化亜鉛を１０〜９０重量パーセント（ｗｔ％）含有し、かつ酸化鉛含有量が０〜４０重量パーセント（ｗｔ％）の組成を有するものを用いる。
【００１４】
一方、第２の発明では、オゾン原料ガスからオゾンを生成するオゾン発生装置に用いられるオゾン発生電極プレートにおいて、基板と、基板の上に設けられ、外部から交流電圧が印加される対をなす電極と、対をなす電極を被覆する誘電体層と、誘電体層の上に設けられたパウダー層とを備え、前記パウダー層のパウダーとして、酸化珪素、ビスマスガラス、または酸化亜鉛を用いる。
【００２２】
一方、第３の発明では、オゾン原料ガスからオゾンを生成するオゾン発生装置に用いられるオゾン発生電極プレートにおいて、基板と、基板の上に設けられ、外部から交流電圧が印加される対をなす電極と、対をなす電極を被覆する誘電体層と、誘電体層の上にレジネート法により形成された薄膜層とを備える。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００２９】
（第１の実施の形態）
図１は本実施の形態によるオゾン発生電極プレートの構成例を示す概要図、図２は同オゾン発生電極プレートを適用した沿面放電方式のオゾン発生装置の構成例を示す概要図である。
【００３０】
図１および図２において、本実施の形態のオゾン発生電極プレートは、ガラス（例えば、ソーダガラス）からなる基板１と、この基板１の表面に、銀ペースト等の導電材料を例えばスクリーン印刷等により印刷して設けられた複数の対をなす電極２，３と、この複数の対をなす電極２，３を被覆する誘電体層４とから構成している。
【００３１】
ここで、オゾン発生電極プレートの誘電体層４は、その材料として、酸化ビスマスを１０〜９０重量パーセント（ｗｔ％）、酸化亜鉛を１０〜９０重量パーセント（ｗｔ％）含有し、かつ酸化鉛含有量が０〜４０重量パーセント（ｗｔ％）の組成を有するものを用いている。
【００３２】
特に、好ましくは、基板１として、ソーダガラス、またはこのソーダガラスとほぼ同等の線膨脹係数を有する材料で構成し、誘電体層４の材料として、酸化ビスマスを２０〜３０重量パーセント（ｗｔ％）、酸化亜鉛を３０〜４０重量パーセント（ｗｔ％）、酸化ホウ素を１５〜２５重量パーセント（ｗｔ％）、酸化珪素を０〜１０重量パーセント（ｗｔ％）を含有する組成とすることが好ましい。
【００３３】
一方、基板１の裏面側には、冷却水５により冷却された金属からなる冷却板６を、基板１と密着させて設けている。
【００３４】
また、複数の対をなす電極２，３には、配線７により、高い交流電圧を印加する外部の交流電源８を接続している。
【００３５】
さらに、基板１の表面の電極２，３側には、ガスガイド９を設けており、外部からオゾン原料ガス（例えば、酸素ガス）１０を、複数の対をなす電極２，３間の空間に導入して当該空間を満たすようにしている。
【００３６】
そして、複数の対をなす電極２，３間に、交流電源８から高い交流電圧を印加することにより、誘電体層４表面に沿面放電１１を発生させ、この沿面放電１１によってオゾン原料ガス１０からオゾン１２を生成するようにしている。
【００３７】
次に、以上のように構成した本実施の形態のオゾン発生電極プレートを適用したオゾン発生装置の作用について説明する。
【００３８】
本実施の形態のオゾン発生電極プレートを適用したオゾン発生装置では、複数の対をなす電極２，３が誘電体層４で被覆されていることにより、電極２，３表面は、沿面放電１１に直接晒されておらず、スパッタ劣化がなく長寿命が得られる。
【００３９】
沿面放電１１中では、放電で発生した電子ｅが酸素分子Ｏ₂ を解離して、酸素原子Ｏが発生する。さらに、この酸素原子Ｏは、他の酸素分子Ｏ₂ と結合して、オゾンＯ₃ が発生する。
【００４０】
ｅ＋Ｏ₂ → ｅ＋Ｏ＋Ｏ ……（１）
Ｏ＋Ｏ₂ ＋Ｏ₂ → Ｏ₃ ＋Ｏ₂ ……（２）
また、沿面放電１１中では、オゾンＯ₃ から酸素分子Ｏ₂ への逆反応も生じる。
【００４１】
ｅ十Ｏ₃ → ｅ＋Ｏ十Ｏ₂ ……（３）
Ｏ＋Ｏ₃ → Ｏ₂ ＋Ｏ₂ ……（４）
沿面放電１１中での反応式は、この（４）式により表わされるもので、このことは、従来のオゾン発生装置に採用されるバリア放電である体積放電とも同様である。
【００４２】
しかしながら、本実施の形態のオゾン発生装置は、沿面放電１１という、誘電体層４表面近傍の極めて小さな空間で放電を発生させるものであり、誘電体層４表面への放電中の電子、および酸素原子によるラジカル衝突が激しく発生する。そのために、
Ｏ＋Ｏ₃ ＋ｗａｌｌ → Ｏ₂ 十Ｏ₂ ＋ｗａｌｌ ……（５）
ｅ＋Ｏ₃ ＋ｗａｌｌ → ｅ＋Ｏ＋Ｏ₂ ＋ｗａｌｌ ……（６）
といった反応が、従来のオゾン発生装置よりも顕著に生じる。
【００４３】
この反応は、誘電体層４表面（ｗａｌｌ）での一種の触媒反応であり、その結果、オゾンＯ₃ 分解が激しく発生してしまう。このような反応速度は、触媒反応であるが故に、誘電体層４表面物質によって大きく変わる。
【００４４】
本実施の形態では、従来知られていなかったこのような反応についてさまざまな物質を試した結果、超高濃度オゾン発生に適した誘電体層４の材料を、オゾン発生電極プレートに適用するものである。
【００４５】
ところで、誘電体層４は、一般に、ガラスからなる基板１と密着接合している必要がある。なぜなら、基板１と密着接合していないと、誘電体層４と基板１との間に空隙が存在することになるため、電極２，３の間にこの空隙を介して絶縁破壊を生じ、オゾンを発生できなくなる。
【００４６】
これらを密着接合するためには、誘電体層４の線膨張係数は、ガラスからなる基板１の線膨張係数とほぼ合致している必要がある。基板１は工業的にはソーダガラスが物量コスト面でもっとも入手し易い。ソーダガラスは、線膨張係数が７０〜１００×１０^-7で、ガラスの中では大きな値を示している。そのため、誘電体層４として、酸化鉛を４０ｗｔ％（重量パーセント）以上含むいわゆる鉛ガラスが用いられている。
【００４７】
この鉛ガラスを誘電体層４として、オゾン原料ガス１０を、９９．９％以上酸素を含む純酸素ガスとして、オゾン実施の形態の沿面放電オゾン発生装置に導入する。
【００４８】
そして、このような状態下で、電極２，３に交流電源９から高い交流電圧を印加して、誘電体層４表面に沿面放電１１を発生させ、この沿面放電１１によってオゾン原料ガス１０からオゾン１２を生成しても、オゾン濃度は上昇しない。
【００４９】
この時のオゾン発生特性を、図５中の酸化鉛として示す。
【００５０】
図５は、オゾン発生特性を示すグラフであり、横軸はオゾン濃度、すなわち標準状態（摂氏０度、１気圧）における単位立法メ−トル体積当たりのオゾングラム数を表わし、縦軸はオゾン収率、すなわち単位電力量であるキロワット時当たり発生できるオゾン量であるグラム数を表わす。
【００５１】
オゾン濃度は最大１０ｇ／Ｎｍ３以下であり、オゾン収率は最大１０ｇ／ｋＷｈ以下である。これは、従来から産業用に用いられてきた体積放電方式のオゾン発生装置で生成される最大オゾン濃度２００ｇ／Ｎｍ３、最大オゾン収率１４０ｇ／ｋＷｈと比較して、非常に小さく実用的ではない。
【００５２】
そこで、誘電体層４の材料として、酸化鉛倫有量を４０ｗｔ％以下に抑制し、かつ基板１の材料であるソーダガラスと合致する線膨張係数を有する、いわゆるビスマスガラスを用いると、極めて高いオゾン発生特性を得ることができる。
【００５３】
図５は、ビスマスガラスのオゾン発生特性を示すグラフである。
【００５４】
図５に示すように、オゾン濃度、オゾン収率ともに、極めて高い値を得ることができる。この理由は、上記（５）式、（６）式に示したような反応が、ビスマスガラス表面では生じないためである。
【００５５】
このビスマスガラスの組成としては、酸化鉛含有量を０〜４０重量パーセント（ｗｔ％）に抑え、残りの物質として、酸化ビスマスを１０〜９０重量パーセント（ｗｔ％）、酸化亜鉛を１０〜９０重量パーセント（ｗｔ％）含有することにより、基板１であるソーダガラスとほぼ合致する線膨張係数を得ることができる。
【００５６】
特に、酸化亜鉛を３０〜４０重量パーセント（ｗｔ％）、酸化ビスマスを２０〜３０重量パーセント（ｗｔ％）、酸化ホウ素を１５〜２５重量パーセント（ｗｔ％）、酸化珪素を０〜１０重量パーセント（ｗｔ％）含有する組成とすることにより、基板１であるソーダガラスとの線膨張係数は完全に合致する。
【００５７】
その結果、誘電体層４は基板１と密着接合して、電極２，３の間に空隙を生じず、高い絶縁性を得ることができ、安定した高濃度オゾンを生成させることができる。
【００５８】
上述したように、本実施の形態のオゾン発生電極プレートを適用したオゾン発生装置では、基板１の上に設けられた対をなす電極２，３を被覆する誘電体層４の材料として、酸化ビスマスを１０〜９０重量パーセント（ｗｔ％）、酸化亜鉛を１０〜９０重量パーセント（ｗｔ％）含有し、かつ酸化鉛含有量が０〜４０重量パーセント（ｗｔ％）の組成を有するものを用いるようにしているので、誘電体層４表面でのオゾン分解反応を抑制して、極めて安定した高濃度オゾンを生成させることが可能となる。
【００５９】
さらに、誘電体層４として、化学的に安定な少なくとも酸化珪素、酸化亜鉛を用いるようにしているので、上記効果をより一層効果的に顕著に奏することが可能となる。
【００６０】
（第２の実施の形態）
図３は、本実施の形態によるオゾン発生電極プレートの構成例を示す概要図であり、図１と同一部分には同一符号を付してその説明を省略し、ここでは異なる部分についてのみ述べる。
【００６１】
すなわち、本実施の形態のオゾン発生電極プレートは、図３に示すように、前記誘電体層４の上に、パウダー層１３を設けた構成としている。
【００６２】
ここで、パウダー層１３は、パウダーの粒径を、１０マイクロメートル（μｍ）以下としている。
【００６３】
また、パウダー層１３は、パウダーとして、酸化珪素、酸化亜鉛を用いている。
【００６４】
次に、以上のように構成した本実施の形態のオゾン発生電極プレートを適用したオゾン発生装置においては、誘電体層４の上にパウダー層１３を設け、このパウダー層１３のパウダーの粒径を１０マイクロメートル（μｍ）以下としていることにより、均質なパウダー層１３を得ることができ、誘電体層４は、沿面放電１１に直接曝されないため、鉛ガラスを用いてもオゾン発生特性に影響を与えず、オゾン発生特性はパウダー層１３の組成によって大きな影響を受ける。
【００６５】
図６は、酸化珪素、ビスマスガラス、酸化亜鉛、アルミナ、チタニア、酸化鉛をパウダー層１３として用い、オゾン原料ガス１０を９９．９％以上酸素を含ひ純酸素ガスとし、電極２，３に交流電源９から高い交流電圧を印加して、誘電体層４表面に沿面放電１１を生じさせ、この沿面放電１１によってオゾン原料ガス１０からオゾン１２を生成した時のオゾン発生特性を示すグラフである。
【００６６】
図６に示すように、酸化珪素、ビスマスガラス、酸化亜鉛をパウダー層１３とすると、オゾン濃度、オゾン収率ともに非常に高い値を示す。
【００６７】
これに比べて、酸化鉛をパウダー層１３とすると、オゾン濃度はゼロであり、オゾン発生装置としての性能が得られない。
【００６８】
また、アルミナ、チタニアをパウダー層１３とすると、オゾン濃度２０〜１００ｇ／Ｎｎ１３で変動が激しく、安定した動作を得ることができない。
【００６９】
このことは、オゾンの表面における分解反応が触媒作用と関連することを示唆している。
【００７０】
チタニアは、それ自体、結晶性が変化し易い特性を有するため、触媒として用いられていることは周知の事実である。また、アルミナは、それ自体を触媒として用いる例はないが、プラチナ等をアルミナ表面に担持させると触媒作用があることも周知の事実である。
【００７１】
なお、ここには示していないが、ジルコニア等についても同様である。
【００７２】
このように、表面反応を抑制するには、このような触媒として用いられない物質をパウダー層１３として用いると、高いオゾン発生特性を得ることができる。
【００７３】
オゾン原料ガス１０として、酸素ガス９９％に窒素ガス１％を添加して、前述と同様にオゾン発生特性を見ると、図７に示すようになる。
【００７４】
図７に示すように、酸化鉛以外の物質では、オゾン発生特性は全て良好である。少量の窒素ガスを含むオゾン原料ガス１０が沿面放電１１に曝されると、放電中の電子ｅと窒素分子Ｎ₂ との衝突によって、窒素原子Ｎが発生する。
【００７５】
ｅ＋Ｎ₂ → ｅ＋Ｎ＋Ｎ ……（７）
さらに、
Ｎ＋Ｏ₂ → ＮＯ＋Ｏ ……（８）
ＮＯ＋Ｏ₃ → ＮＯ₂ ＋Ｏ₂ ……（９）
ＮＯ₂ ＋Ｏ₃ → ＮＯ₃ ＋Ｏ₂ ……（１０）
ＮＯ₂ ＋ＮＯ₃ → Ｎ₂ Ｏ₅ ……（１１）
によって、窒素酸化物（ＮＯ、ＮＯ₂ 、ＮＯ₃ 、Ｎ₂ Ｏ₅ ）が生成する。
【００７６】
このような窒素酸化物は、物質への吸着性が強く、パウダー層１３表面に付き易い。
【００７７】
その結果、オゾンを分解する反応を起こしたチタニアやアルミナといった触媒作用を起こす表面に窒素酸化物が付き、触媒作用が阻害されて高いオゾン発生特性が得られるようになる。
【００７８】
チタニアやアルミナは、このように微量の窒素ガスのような添加ガスを必要とするもので、添加ガス量に極めて敏感な特性を示す。
【００７９】
したがって、、安定な動作を示す酸化珪素、酸化亜鉛を、パウダー層１３として用いることにより、良好なオゾン発生特性を得ることができる。
【００８０】
上述したように、本実施の形態のオゾン発生電極プレートを適用したオゾン発生装置では、基板１の上に設けられた対をなす電極２，３を被覆する誘電体層４の上に、粒径が１０マイクロメートル（μｍ）以下のパウダーのパウダー層１３を設けるようにしているので、誘電体層４表面でのオゾン分解反応を抑制して、極めて安定した高濃度オゾンを生成させることが可能となる。
【００８１】
さらに、パウダー層１３のパウダーとして、化学的に安定な酸化珪素、酸化亜鉛を用いるようにしているので、上記効果をより一層効果的に顕著に奏することが可能となる。
【００８２】
（第３の実施の形態）
図４は、本実施の形態によるオゾン発生電極プレートの構成例を示す概要図であり、図１と同一部分には同一符号を付してその説明を省略し、ここでは異なる部分についてのみ述べる。
【００８３】
すなわち、本実施の形態のオゾン発生電極プレートは、図４に示すように、前記誘電体層４の上に、１マイクロメートル（μｍ）程度の薄膜層１４を設けた構成としている。
【００８４】
ここで、薄膜層１４は、例えばレジネート法により形成している。
【００８５】
また、薄膜層１４は、酸化珪素、または酸化亜鉛を用いている。
【００８６】
次に、以上のように構成した本実施の形態のオゾン発生電極プレートを適用したオゾン発生装置においては、誘電体層４の上にレジネート法により形成された薄膜層１４を設けていることにより、誘電体層４は沿面放電１１に直接曝されず、薄膜層１４の組成によって大きな影響を受ける。
【００８７】
この場合、前述したパウダー層１３において良好な特性の得られた酸化珪素、酸化亜鉛を、薄膜層１４として用いることにより、良好なオゾン発生特性を得ることができる。
【００８８】
さらに、この薄膜層１４は、極めて薄いため、線膨張係数が、基板１、誘電体層４と異なるものであっても剥離せず、安定な特性を得ることができる。
【００８９】
上述したように、本実施の形態のオゾン発生電極プレートを適用したオゾン発生装置では、基板１の上に設けられた対をなす電極２，３を被覆する誘電体層４の上に、レジネート法により形成された薄膜層１４を設けるようにしているので、誘電体層４表面でのオゾン分解反応を抑制して、極めて安定した高濃度オゾンを生成させることが可能となる。
【００９０】
さらに、薄膜層１４として、化学的に安定な酸化珪素、酸化亜鉛を用いるようにしているので、上記効果をより一層効果的に顕著に奏することが可能となる。
【００９１】
（その他の実施の形態）
（ａ）前述した第１の実施の形態における誘電体層４の上に、前述した第２の実施の形態のパウダー層１３を設ける構成としてもよい。
【００９２】
この場合には、第１の実施の形態および第２の実施の形態と同様の作用効果を、同時に得ることが可能となる。
【００９３】
（ｂ）前述した第１の実施の形態における誘電体層４の上に、前述した第３の実施の形態の薄膜層１４を形成する構成としてもよい。
【００９４】
この場合には、第１の実施の形態および第３の実施の形態と同様の作用効果を、同時に得ることが可能となる。
【００９５】
（ｃ）前述した各実施の形態では、沿面放電を用いてオゾンを生成する沿面放電方式のオゾン発生装置に本発明を適用した場合について説明したが、これに限らず、例えば対をなす電極２，３間で無声放電、すなわち体積放電を用いてオゾンを生成する体積放電方式のオゾン発生装置についても、前述の場合と同様に本発明を適用することができるものである。
【００９６】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、オゾン原料ガスへの添加ガス成分によって、オゾン濃度が変動しないように安定したオゾン生成を可能とするオゾン発生電極プレートが提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるオゾン発生電極プレートの第１の実施の形態を示す概要図。
【図２】同第１の実施の形態のオゾン発生電極プレートを適用した沿面放電方式のオゾン発生装置の構成例を示す概要図。
【図３】本発明によるオゾン発生電極プレートの第２の実施の形態を示す概要図。
【図４】本発明によるオゾン発生電極プレートの第３の実施の形態を示す概要図。
【図５】同第１の実施の形態のオゾン発生電極プレートの作用効果を説明するための特性図。
【図６】同第２の実施の形態のオゾン発生電極プレートの作用効果を説明するための特性図。
【図７】同第２の実施の形態のオゾン発生電極プレートの作用効果を説明するための特性図。
【符号の説明】
１…基板
２，３…電極
４…誘電体層
５…冷却水
６…冷却板
７…配線
８…交流電源
９…ガスガイド
１０…オゾン原料ガス（酸素ガス）
１１…沿面放電
１２…オゾン
１３…パウダー層
１４…薄膜層。

Claims (8)

1. オゾン原料ガスからオゾンを生成するオゾン発生装置に用いられるオゾン発生電極プレートにおいて、
   基板と、
   前記基板の上に設けられ、外部から交流電圧が印加される対をなす電極と、
   前記対をなす電極を被覆する誘電体層とを備え、
   前記誘電体層の材料として、酸化ビスマスを１０〜９０重量パーセント（ｗｔ％）、酸化亜鉛を１０〜９０重量パーセント（ｗｔ％）含有し、かつ酸化鉛含有量が０〜４０重量パーセント（ｗｔ％）の組成を有するものを用いたことを特徴とするオゾン発生電極プレート。
2. 前記請求項１に記載のオゾン発生電極プレートにおいて、
   前記基板として、ソーダガラス、または当該ソーダガラスとほぼ同等の線膨脹係数を有する材料で構成し、
   前記誘電体層の材料として、酸化ビスマスを２０〜３０重量パーセント（ｗｔ％）、酸化亜鉛を３０〜４０重量パーセント（ｗｔ％）、酸化ホウ素を１５〜２５重量パーセント（ｗｔ％）、酸化珪素を０〜１０重量パーセント（ｗｔ％）を含有する組成としたことを特徴とするオゾン発生電極プレート。
3. オゾン原料ガスからオゾンを生成するオゾン発生装置に用いられるオゾン発生電極プレートにおいて、
   基板と、
   前記基板の上に設けられ、外部から交流電圧が印加される対をなす電極と、
   前記対をなす電極を被覆する誘電体層と、
   前記誘電体層の上に設けられたパウダー層とを備え、
   前記パウダー層のパウダーとして、酸化珪素、ビスマスガラス、または酸化亜鉛を用いたことを特徴とするオゾン発生電極プレート。
4. 前記請求項１に記載のオゾン発生電極プレートにおいて、
   前記誘電体層の上に、パウダー層を設け、前記パウダー層のパウダーとして、酸化珪素、ビスマスガラス、または酸化亜鉛を用いたことを特徴とするオゾン発生電極プレート。
5. 前記請求項３または請求項４に記載のオゾン発生電極プレートにおいて、
   前記パウダー層のパウダーの粒径を、１０マイクロメートル（μｍ）以下としたことを特徴とするオゾン発生電極プレート。
6. オゾン原料ガスからオゾンを生成するオゾン発生装置に用いられるオゾン発生電極プレートにおいて、
   基板と、
   前記基板の上に設けられ、外部から交流電圧が印加される対をなす電極と、
   前記対をなす電極を被覆する誘電体層と、
   前記誘電体層の上にレジネート法により形成された薄膜層と、
   を備えて成ることを特徴とするオゾン発生電極プレート。
7. 前記請求項１に記載のオゾン発生電極プレートにおいて、
   前記誘電体層の上に、レジネート法により薄膜層を形成したことを特徴とするオゾン発生電極プレート。
8. 前記請求項６または請求項７に記載のオゾン発生電極プレートにおいて、
   前記薄膜層として、酸化珪素、または酸化亜鉛を用いたことを特徴とするオゾン発生電極プレート。

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