JP6562914B2 - 焼成治具および焼成治具の製造方法 - Google Patents
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Description
上記した溶射法としては、ガスプラズマ溶射を用いることができるが、これに限られず、たとえば水プラズマ溶射などを用いてもよい。なお、キャリアガスとしてArとN2とを用いた。また、ここで形成される溶射膜の気孔率を上げるため、平均粒径160〜300μm2の粗い粒子を用い、かつ溶射ガンと棚板の距離を100〜300mm程度とし溶射膜を形成した。
表1に示すように、実施例1における基材部21の化学組成を、炭化珪素75質量%、窒化珪素21質量%、アルミナ4質量%とした。また、基材部21の気孔率を35%、表面粗さRaを4μmとした。第1膜22aにおいては、厚さを100μm、気孔率を25%とし、第2膜22bにおいては、厚さを150μm、気孔率を25%とした。
実施例2では基材部21の化学組成を、炭化珪素67質量%、窒化珪素29質量%、アルミナ4質量%とした。また、基材部21の気孔率を12%、表面粗さRaを20μmとした。また、第1膜22aにおいては、厚さを120μm、気孔率を25%とし、第2膜22bにおいては、厚さを180μm、気孔率を25%とした。実施例2および後述する実施例3〜13によって得られた焼成治具1における耐熱衝撃性、膜部22の剥離発生までの回数、および膜部22と被焼成物30との反応の有無を表1に示す。
実施例3では基材部21の化学組成を、炭化珪素54質量%、窒化珪素40質量%、アルミナ6質量%とした。また、基材部21の気孔率を9%、表面粗さRaを6μmとした。また、第1膜22aにおいては、厚さを50μm、気孔率を15%とし、第2膜22bにおいては、厚さを50μm、気孔率を25%とした。
実施例4では基材部21の化学組成を、炭化珪素50質量%、窒化珪素50質量%とし、アルミナを含有しないものとした。また、基材部21の気孔率を6%、表面粗さRaを8μmとした。また、第1膜22aにおいては、厚さを180μm、気孔率を35%とし、第2膜22bにおいては、厚さを320μm、気孔率を25%とした。
実施例5では基材部21の化学組成を、炭化珪素69質量%、窒化珪素30質量%、アルミナ1質量%とした。また、基材部21の気孔率を8%、表面粗さRaを8μmとした。なお、第1、第2膜22a,22bにおいては、第2膜22bの気孔率を30%とし、それ以外の厚さや第1膜22aの気孔率は実施例1と同様とした。
実施例6では基材部21の化学組成を、炭化珪素59質量%、窒化珪素32質量%、アルミナ9質量%とした。また、基材部21の気孔率を11%、表面粗さRaを8μmとした。なお、第1、第2膜22a,22bにおいては、第1膜22aの厚さを55μmとし、それ以外の気孔率や第2膜22bの厚さは実施例1と同様とした。
実施例7では基材部21の化学組成を、炭化珪素63質量%、窒化珪素31質量%、アルミナ6質量%とした。また、基材部21の気孔率を9%、表面粗さRaを7μmとした。なお、第1、第2膜22a,22bの厚さおよび気孔率は、実施例1と同様とした。
実施例8では基材部21の化学組成を、炭化珪素66質量%、窒化珪素30質量%、アルミナ4質量%とした。また、基材部21の気孔率を12%、表面粗さRaを6μmとした。なお、第1、第2膜22a,22bにおいては、第1膜22aの厚さを165μm、第2膜22bの厚さを220μmとし、気孔率は実施例1と同様とした。
実施例9では基材部21の化学組成を、炭化珪素70質量%、窒化珪素30質量%とし、アルミナを含まないものとした。また、基材部21の気孔率を12%、表面粗さRaを2μmとした。なお、第1、第2膜22a,22bにおいては、第1膜22aの気孔率を15%とし、それ以外の厚さや第2膜22bの気孔率は実施例1と同様とした。
実施例10では基材部21の化学組成を、炭化珪素83質量%、窒化珪素15質量%、アルミナ2質量%とした。また、基材部21の気孔率を38%、表面粗さRaを6μmとした。また、第1膜22aにおいては、厚さを55μm、気孔率を10%とし、第2膜22bにおいては、厚さを40μm、気孔率を25%とした。
実施例11では基材部21の化学組成を、炭化珪素45質量%、窒化珪素55質量%、アルミナを含まないものとした。また、基材部21の気孔率を4%、表面粗さRaを6μmとした。また、第1膜22aにおいては、厚さを150μm、気孔率を25%とし、第2膜22bにおいては、厚さを270μm、気孔率を10%とした。
実施例12では基材部21の化学組成を、炭化珪素71質量%、窒化珪素29質量%とし、アルミナを含有しないようにした。また、基材部21の気孔率を6%、表面粗さRaを6μmとした。なお、第1、第2膜22a,22bにおいては、第1膜22aの厚さを40μm、第2膜22bの厚さを55μmとし、気孔率は実施例1と同様とした。
実施例13では基材部21の化学組成を、炭化珪素57質量%、窒化珪素30質量%、アルミナ13質量%とした。また、基材部21の気孔率を15%、表面粗さRaを14μmとした。なお、第1、第2膜22a,22bにおいては、第1膜22aの厚さを210μm、第2膜22bの厚さを300μmとし、気孔率は実施例1と同様とした。
実施例14では基材部21の化学組成を、炭化珪素を100質量%とし、窒化珪素とアルミナを含まないものとした。また、基材部21の気孔率を31%、表面粗さRaを5μmとした。なお、第1、第2膜22a,22bの厚さおよび気孔率は、実施例1と同様とした。
実施例15では基材部21の化学組成を、窒化珪素を100質量%とし、炭化珪素とアルミナを含まないものとした。また、基材部21の気孔率を4%、表面粗さRaを6μmとした。なお、第1、第2膜22a,22bにおいては、第2膜22bの気孔率を10%とし、それ以外の厚さや第1膜22aの気孔率は実施例1と同様とした。
一方、比較例1では基材部21の化学組成を、アルミナ100質量%とし、珪素、具体的には炭化珪素および窒化珪素を含まないようにした。また、基材部21の気孔率を12%、表面粗さRaを29μmとした。なお、第1、第2膜22a,22bの厚さおよび気孔率は、実施例1と同様とした。比較例1によって得られた焼成治具1においては、表1に示すように、耐熱衝撃性が低下し、また剥離が生じるまでの回数も減少した。
比較例2では基材部21の化学組成を、炭化珪素64質量%、窒化珪素30質量%、アルミナ6質量%とした。また、基材部21の気孔率を12%、表面粗さRaを2μmとした。また、膜部22は、第2膜22bを備えず、第1膜22aのみとした。なお、第1膜22aの厚さを90μm、気孔率を10%とした。比較例2によって得られた焼成治具1においては、第2膜22bを備えないため、膜部22と被焼成物30との反応が見られた。
比較例3では基材部21の化学組成を、炭化珪素59質量%、窒化珪素32質量%、アルミナ9質量%とした。また、基材部21の気孔率を12%、表面粗さRaを2μmとした。また、膜部22は、第1膜22aを備えず、第2膜22bのみとした。なお、第2膜22bの厚さを150μm、気孔率を25%とした。比較例3によって得られた焼成治具1においては、第1膜22aを備えないため、膜部22と基材部21との間ですぐに剥離が発生した。
10 基台
11 プレート部
12 支持部
20 セッター
30 被焼成物
21 基材部
21a (基材部の)載置面
22 膜部
22a 第1膜
22b 第2膜
23 境界部
Claims (6)
- 被焼成物が載置される載置面を有するとともに、炭化珪素および窒化珪素を含有する基材部と、
前記基材部の前記載置面を被覆するとともに酸化物系セラミックスを含有する2層以上の膜部と、
前記基材部と前記膜部との間に形成されアルミニウムと珪素とを含んだ複合酸化物を含有する境界部と、
を備え、
前記基材部は、
前記炭化珪素を45〜75質量%、前記窒化珪素を20〜50質量%含有し、
前記膜部は、
前記基材部側に面した層である第1膜と前記基材部側に面した層以外の層である第2膜とを含み、
前記第1膜の線膨張係数が、前記基材部の線膨張係数の0.5〜2倍の範囲にあり、
前記第2膜の線膨張係数が、前記第1膜の線膨張係数の1〜2.5倍の範囲にある、焼成治具。 - 前記基材部の気孔率が、
5〜35%の範囲にある、請求項1に記載の焼成治具。 - 2層以上の前記膜部のうち前記基材部側に面した層以外の層は、
ジルコニアを含有する、請求項1または2に記載の焼成治具。 - 2層以上の前記膜部のうち前記基材部側に面した層は、
アルミナ、シリカおよびムライトのうち1種以上を含有する、請求項1〜3のいずれか一つに記載の焼成治具。 - 前記膜部の厚さが、
80〜530μmの範囲にある、請求項1〜4のいずれか一つに記載の焼成治具。 - 被焼成物が載置される載置面を有するとともに、45〜75質量%の炭化珪素および20〜50質量%の窒化珪素を含有する基材部を形成する工程と、
前記基材部の前記載置面を酸化物系セラミックスを含有する2層以上の膜部で被覆し、前記基材部と前記膜部との間にアルミニウムと珪素とを含んだ複合酸化物を含有する境界部を形成する工程と
を含み、
前記膜部は、
前記基材部側に面した層である第1膜と前記基材部側に面した層以外の層である第2膜とを含み、
前記第1膜の線膨張係数が、前記基材部の線膨張係数の0.5〜2倍の範囲にあり、
前記第2膜の線膨張係数が、前記第1膜の線膨張係数の1〜2.5倍の範囲にある、焼成治具の製造方法。
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