JP6561835B2 - センサ装置、入力装置及び電子機器 - Google Patents
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Description
前記電極基板は、複数の第1の電極線と、複数の第2の電極線とを有し、前記複数の第1の電極線と前記複数の第2の電極線との複数の対向領域に各々形成される複数の容量センサがマトリクス状に配列される。
前記シールド層は、前記電極基板に設けられ、前記複数の対向領域間を連絡する前記複数の第2の電極線の少なくとも一部の配線領域を遮蔽する導体膜を含む。
前記操作部材は、入力操作面を有する。
前記電極基板は、複数の第1の電極線と、複数の第2の電極線とを有し、前記複数の第1の電極線と前記複数の第2の電極線との複数の対向領域に各々形成される複数の容量センサがマトリクス状に配列される。
前記シールド層は、前記操作部材と前記電極基板との間に設けられ、前記複数の対向領域間を連絡する前記複数の第2の電極線の少なくとも一部の配線領域を遮蔽する導体膜を含む。
前記表示素子は、入力操作面を有する。
前記電極基板は、複数の第1の電極線と、複数の第2の電極線とを有し、前記複数の第1の電極線と前記複数の第2の電極線との複数の対向領域に各々形成される複数の容量センサがマトリクス状に配列される。
前記シールド層は、前記表示素子と前記電極基板との間に設けられ、前記複数の対向領域間を連絡する前記複数の第2の電極線の少なくとも一部の配線領域を遮蔽する導体膜を含む。
なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。
図1は本技術の第1の実施形態に係る入力装置100の概略断面図、図2は入力装置100の分解斜視図、図3は入力装置100の要部の概略断面図、図4は入力装置100を用いた電子機器70のブロック図である。以下、本実施形態の入力装置100の構成について説明する。なお図中、X軸及びY軸は相互に直交する方向(入力装置100の面内方向)を示し、Z軸はX軸及びY軸に直交する方向(入力装置100の厚み方向又は上下方向)を示している。
入力装置100は、ユーザによる操作を受け付けるフレキシブルディスプレイ(表示素子)11と、ユーザの操作を検出するセンサ装置1とを有する。入力装置100は、例えばフレキシブルなタッチパネルディスプレイとして構成され、後述する電子機器70に組み込まれる。センサ装置1及びフレキシブルディスプレイ11は、Z軸に垂直な方向に延びる平板状である。
操作部材10は、第1の面110と第2の面120とを含むフレキシブルディスプレイ11と、金属膜12との積層構造を有する。すなわち操作部材10は、ユーザによる操作を受け付ける第1の面110と、金属膜12が形成され第1の面110の反対側の第2の面120とを有し、変形可能なシート状に構成される。
導体層50は、入力装置100の最下部を構成し、金属膜12とZ軸方向に対向して配置される。導体層50は、例えば入力装置100の支持プレートとしても機能し、例えば操作部材10及び電極基板20よりも高い曲げ剛性を有するように構成される。導体層50は、例えばAl合金、Mg(マグネシウム)合金その他の金属材料を含む金属板又はカーボン繊維強化型プラスチック等の導体板で構成されてもよい。あるいは導体層50は、プラスチック材料等の絶縁体層上にメッキ膜や蒸着膜、スパッタリング膜、金属箔等の導体膜が形成された積層構造を有してもよい。また導体層50の厚みは特に限定されず、例えば約0.3mm程度である。
電極基板20は、第1の電極線210を有する第1の配線基板21と、第2の電極線220を有する第2の配線基板22との積層体で構成される。
制御部60は、電極基板20に電気的に接続される。より詳細には、制御部60は、複数の第1及び第2の電極線210,220各々に端子を介してそれぞれ接続される。制御部60は、複数の検出部20sの出力に基づいて第1の面110に対する入力操作に関する情報を生成することが可能な信号処理回路を構成する。制御部60は、所定の周期で複数の検出部20s各々をスキャンしながら各検出部20sの容量変化量を取得し、その容量変化量に基づいて入力操作に関する情報を生成する。
第1の支持体30は、操作部材10と電極基板20との間に配置される。第1の支持体30は、複数の第1の構造体310と、第1の枠体320と、第1の空間部330とを有する。本実施形態において第1の支持体30は、接着層35を介して電極基板20の上に接合されている(図3参照)。接着層35は、接着剤であっても良いし、粘着剤、粘着テープ等の粘着材料で構成されてもよい。
(1)第1及び第2の構造体310,410と第1及び第2の空間部330,430とを有し、
(2)Z軸方向から見て第1の構造体310と第2の構造体410とが重複しておらず、第1の構造体310が第2の空間部430上に配置される。
したがって、以下に示すように、操作時の数十g程度の微小な押圧力によっても金属膜12及び導体層50を変形させることが可能となる。
図5は、操作子hにより第1の面110上の点PをZ軸方向下方へ押圧した際の、第1及び第2の構造体310,410へ付加される力の様子を示す概略断面図である。図中の白抜き矢印は、Z軸方向下方(以下、単に「下方」とする)への力の大きさを模式的に示している。図14においては、金属膜12及び電極基板20等の撓み、第1及び第2の構造体310,410の弾性変形等の態様は示していない。なお以下の説明において、ユーザが押圧を意識しないタッチ操作を行った場合でも、実際には微小な押圧力が付加されることから、これらの入力操作を一括して「押圧」として説明する。
図15A,Bは、第1の面110が操作子hによる操作を受けたときの入力装置100の態様を示す模式的な要部断面図と、そのとき検出部20sから出力される出力信号の一例を示す図である。図15A,BにおけるX軸に沿って示す棒グラフは、各検出部20sにおける静電容量の基準値からの変化量を模式的に示している。また図15Aは、操作子hが第1の構造体310(310a2)上を押圧した際の態様を示し、図15Bは、操作子hが第1の空間部330(330b1)上を押圧した際の態様を示す。
ところで、操作部材10を構成するフレキシブルディスプレイ11は、上述のようにコントローラ710によって駆動制御される。フレキシブルディスプレイ11は、典型的には、面内においてマトリクス状に配列された複数の画素の発光を制御することで画像が表示される。この際、個々の画素を駆動する画素回路からセンサ装置1にとって無視できないレベルの電磁ノイズが発生する場合がある。
続いて、本技術の第2の実施形態について説明する。
(1) 複数の第1の電極線と、複数の第2の電極線とを有し、前記複数の第1の電極線と前記複数の第2の電極線との複数の対向領域に各々形成される複数の容量センサがマトリクス状に配列された電極基板と、
前記電極基板に設けられ、前記複数の対向領域間を連絡する前記複数の第2の電極線の少なくとも一部の配線領域を遮蔽する導体膜を含むシールド層と
を具備するセンサ装置。
(2)上記(1)に記載のセンサ装置であって、
前記複数の第1の電極線と前記複数の第2の電極線とは、前記電極基板の厚み方向に相互に離間して配置され、
前記複数の容量センサは、前記複数の第1の電極線と前記複数の第2の電極線との交差領域に各々形成される
センサ装置。
(3)上記(2)に記載のセンサ装置であって、
前記電極基板は、
前記複数の第1の電極線を支持する第1の絶縁層と、
前記複数の第2の電極線を支持する第2の絶縁層とを有し、
前記シールド層は、前記第1の絶縁層に設けられる
センサ装置。
(4)上記(3)に記載のセンサ装置であって、
前記シールド層は、前記複数の第1の電極線と同一平面上に設けられる
センサ装置。
(5)上記(2)〜(4)のいずれか1つに記載のセンサ装置であって、
前記導体膜は、前記複数の第1の電極線と同じ材料で構成される
センサ装置。
(6)上記(2)〜(5)のいずれか1つに記載のセンサ装置であって、
前記導体膜は、前記複数の第1の電極線各々の間に配置された複数の第3の電極線を含む
センサ装置。
(7)上記(6)に記載のセンサ装置であって、
前記導体膜は、前記複数の第3の電極線を相互に接続する配線部をさらに含む
センサ装置。
(8)上記(1)に記載のセンサ装置であって、
前記複数の容量センサは、前記電極基板の面内方向に相互に対向する前記複数の第1の電極線及び前記複数の第2の電極線との対向領域に各々形成され、
前記シールド層は、前記導体膜と前記配線領域との間に配置された絶縁膜をさらに有する
センサ装置。
(9)上記(8)に記載のセンサ装置であって、
前記電極基板は、前記複数の第1の電極線と前記複数の第2の電極線との交差部に設けられた複数のジャンパ配線部を有する
センサ装置。
(10)上記(9)に記載のセンサ装置であって、
前記導体膜は、前記複数のジャンパ配線部と同一平面上に設けられる
センサ装置。
(11)上記(9)に記載のセンサ装置であって、
前記シールド層は、前記複数のジャンパ配線部を被覆する
センサ装置。
(12)上記(9)〜(11)のいずれか1つに記載のセンサ装置であって、
前記導体膜は、前記複数のジャンパ配線部と同じ材料で構成される
センサ装置。
(13)上記(1)〜(12)のいずれか1つに記載のセンサ装置であって、
前記シールド層は、前記複数の対向領域間を連絡する前記複数の第1の電極線の少なくとも一部の配線領域をさらに遮蔽する
センサ装置。
(14)上記(1)〜(13)のいずれか1つに記載のセンサ装置であって、
前記複数の第2の電極線は、マトリクス状に配列された前記複数の容量センサが形成される検出領域の外側に形成された外周配線部を有し、
前記シールド層は、前記外周配線部の少なくとも一部をさらに遮蔽する
センサ装置。
(15)上記(1)〜(14)のいずれか1つに記載のセンサ装置であって、
前記電極基板の一方の主面に対向して配置された変形可能な第1の導体層と、
前記第1の導体層と前記電極基板との間を接続する複数の第1の構造体を有する第1の支持体と、をさらに具備する
センサ装置。
(16)上記(15)に記載のセンサ装置であって、
前記電極基板の他方の主面に対向して配置された第2の導体層と、
前記第2の導体層と前記電極基板との間を接続する複数の第2の構造体を有する第2の支持体と、をさらに具備する
センサ装置。
11…フレキシブルディスプレイ
20,20C…電極基板
20s,20Cs…検出部
30…第1の支持体
40…第2の支持体
50…導体層
60…制御部
100…入力装置
210,210C…第1の電極線
220,220C…第2の電極線
220q…ジャンパ配線部
310…第1の構造体
410…第2の構造体
S1,S2…シールド層
S21,S22…導体膜
Claims (8)
- 厚み方向に相互に離間して配置された複数の第1の電極線及び複数の第2の電極線を有し、前記複数の第1の電極線と前記複数の第2の電極線との複数の対向領域に各々形成される複数の容量センサがマトリクス状に配列された電極基板と、
前記電極基板に設けられ、前記複数の対向領域間を連絡する前記複数の第2の電極線の少なくとも一部の配線領域と、前記複数の容量センサが形成される検出領域の外側に形成された前記複数の第2の電極線の外周配線部とを遮蔽する導体膜を含み、前記複数の第1の電極線と同一平面上に設けられるシールド層と、
前記電極基板の一方の主面に対向して配置された変形可能な第1の導体層と、
前記第1の導体層と前記電極基板との間を接続する複数の第1の構造体を有する第1の支持体と、
前記電極基板の他方の主面に対向して配置された第2の導体層と、
前記第2の導体層と前記電極基板との間を接続する複数の第2の構造体を有する第2の支持体と、
を具備するセンサ装置。 - 請求項1に記載のセンサ装置であって、
前記複数の容量センサは、前記複数の第1の電極線と前記複数の第2の電極線との交差領域に各々形成される
センサ装置。 - 請求項1又は2に記載のセンサ装置であって、
前記電極基板は、
前記複数の第1の電極線を支持する第1の絶縁層と、
前記複数の第2の電極線を支持する第2の絶縁層とを有し、
前記シールド層は、前記第1の絶縁層に設けられる
センサ装置。 - 請求項1から3いずれか1つに記載のセンサ装置であって、
前記導体膜は、前記複数の第1の電極線と同じ材料で構成される
センサ装置。 - 請求項1から4いずれか1つに記載のセンサ装置であって、
前記導体膜は、前記複数の第1の電極線各々の間に配置された複数の第3の電極線を含む
センサ装置。 - 請求項5に記載のセンサ装置であって、
前記導体膜は、前記複数の第3の電極線を相互に接続する配線部をさらに含む
センサ装置。 - 入力操作面を有する操作部材と、
厚み方向に相互に離間して配置された複数の第1の電極線及び複数の第2の電極線を有し、前記複数の第1の電極線と前記複数の第2の電極線との複数の対向領域に各々形成される複数の容量センサがマトリクス状に配列された電極基板と、
前記操作部材と前記電極基板との間に設けられ、前記複数の対向領域間を連絡する前記複数の第2の電極線の少なくとも一部の配線領域と、前記複数の容量センサが形成される検出領域の外側に形成された前記複数の第2の電極線の外周配線部とを遮蔽する導体膜を含み、前記複数の第1の電極線と同一平面上に設けられるシールド層と、
前記電極基板の一方の主面に対向して配置された変形可能な第1の導体層と、
前記第1の導体層と前記電極基板との間を接続する複数の第1の構造体を有する第1の支持体と、
前記電極基板の他方の主面に対向して配置された第2の導体層と、
前記第2の導体層と前記電極基板との間を接続する複数の第2の構造体を有する第2の支持体と、
を具備する入力装置。 - 入力操作面を有する表示素子と、
厚み方向に相互に離間して配置された複数の第1の電極線及び複数の第2の電極線を有し、前記複数の第1の電極線と前記複数の第2の電極線との複数の対向領域に各々形成される複数の容量センサがマトリクス状に配列された電極基板と、
前記表示素子と前記電極基板との間に設けられ、前記複数の対向領域間を連絡する前記複数の第2の電極線の少なくとも一部の配線領域と、前記複数の容量センサが形成される検出領域の外側に形成された前記複数の第2の電極線の外周配線部とを遮蔽する導体膜を含み、前記複数の第1の電極線と同一平面上に設けられるシールド層と、
前記電極基板の一方の主面に対向して配置された変形可能な第1の導体層と、
前記第1の導体層と前記電極基板との間を接続する複数の第1の構造体を有する第1の支持体と、
前記電極基板の他方の主面に対向して配置された第2の導体層と、
前記第2の導体層と前記電極基板との間を接続する複数の第2の構造体を有する第2の支持体と、
を具備する電子機器。
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