JP6560283B2 - フラックス組成物及びソルダペースト - Google Patents

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Description

本発明はフラックス組成物及びソルダペーストに関する。
従来、基板(プリント配線板やシリコンウエハ等)上に形成される電子回路に電子部品を接合する際には、ソルダペーストを用いたはんだ接合方法が採用されている。そしてこのはんだ接合方法の1つとして、ソルダペーストを基板上に印刷する印刷法が挙げられる。
この印刷法においては一般的にメタルマスクが用いられ、スキージによりメタルマスク開口部にソルダペーストを充填して基板をメタルマスクから離すことにより基板側にソルダペーストが転写される仕組みである。この際、ソルダペーストがスキージやメタルマスクの開口部壁面に付着し、基板側に転写されるその体積や形状がメタルマスクの設計通りに行われなくなる現象が生じる。
これを防止するため、ソルダペーストにはメタルマスクの設計通りにこれを印刷し得る、所謂印刷性が求められる。特に近年の電子部品端子のファインピッチ化に伴いメタルマスクの開口部も更なる微細化が進んでいるため、このような微細な開口部を有するメタルマスクにも対応し得る印刷性の重要性は高まっている。
このような微細な開口部を有するメタルマスクにも対応し得る印刷性を実現する方法として、パラフィンを添加したソルダペースト組成物や(特許文献1から特許文献3)、チクソ剤として、炭素数14〜22の脂肪酸(A)、炭素数14〜22のヒドロキシ脂肪酸(B)及びトリアミン化合物(C)を出発物質として得られる脂肪酸トリアミドを添加したはんだペースト組成物(特許文献4参照)、フラックス中にフッ素系化合物を含有することを特徴とするクリームはんだ用フラックス(特許文献5参照)及びチクソ剤が水添ヒマシ油と、12−ヒドロキシステアリン酸とジアミンとのビスアミドの併用であるフラックスを用いたハンダクリーム(特許文献6参照)が開示されている。
しかし基板にはファインピッチ電子部品と従来の大型部品が混在して搭載されることがある。また車載用基板においては、はんだ接合信頼性を確保するためにパターンは微細であってもメタルマスクは薄型ではないものを使用することが少なくない。これらの場合、メタルマスクは一定以上の厚み(例えば150μmから160μm)に設定されることが多い。
このように開口部は微細でメタルマスクが厚くなるとメタルマスクの開口部のアスペクト比が大きくなり、ソルダペーストがメタルマスク開口部壁面に付着し易くなる。例えば0.4mmピッチのQuad Flat Package(QFP)に対応するパターン且つ厚み150μmのメタルマスクでスクリーン印刷を行うと、ソルダペーストの転写形状の異常が起こり、転写率が安定せず、所謂つの立ちが発生し易い傾向にある。
しかし上記特許文献1から6には、このようにメタルマスクの開口部が高アスペクト比となるような場合における不具合等とそれを克服する印刷性については言及されていない。またこれらにおいては、粘弾性といったフラックス組成物における物性値と印刷性との関連性についての言及もなく、またそのような示唆もない。
特開平7−132395号公報 特許第4396162号公報 特開2013−71152号公報 特開2008−62240号公報 特開2008−110379号公報 特開平10−249577号公報
本発明は上記課題を解決するものであり、メタルマスクの厚み及び開口径にかかわらず良好な版離れ性及び印刷性(つの立ち抑制)を確保し得るフラックス組成物及びソルダペーストを提供することをその目的とする。
(1)本発明のフラックス組成物は、(A)ベース樹脂と、(B)溶剤と、(C)活性剤と、(D)チクソ剤とを含み、25℃で周波数1Hzの条件下において、応力(τ)が100Paにおける貯蔵弾性率G1’と、応力(τ)が500Paにおける貯蔵弾性率G2’と、応力(τ)が750Paにおける貯蔵弾性率G3’と、応力(τ)が1,000Paにおける貯蔵弾性率G4’とが下記式(1)から(3)の全てを満たすことをその特徴とする。
(1)G2’/G1’=0.6以上0.95以下
(2)G3’/G2’=0.6以上0.95以下
(3)G4’/G3’=0.001以上0.2以下
(2)上記(1)に記載の構成にあって、本発明のフラックス組成物は、前記貯蔵弾性率G1’と、前記貯蔵弾性率G2’と、前記貯蔵弾性率G3’と、前記貯蔵弾性率G4’とが、下記式(4)から(5)の全てを満たすことをその特徴とする。
(4)G2’/G1’=0.7以上0.9以下
(5)G3’/G2’=0.7以上0.95以下
(6)G4’/G3’=0.003以上0.1以下
(3)上記(1)または(2)に記載の構成にあって、本発明のフラックス組成物は、25℃で周波数1Hzの条件下において、かかる応力(τ)が500Paから1,000Paの間における貯蔵弾性率(G’)について、前記応力(τ)が1Pa増加した場合の前記貯蔵弾性率(G’)の減少値の平均値が絶対値で20Pa以上90Pa以下であることをその特徴とする。
(4)上記(1)から(3)のいずれかに記載の構成にあって、本発明のフラックス組成物は、25℃で周波数1Hzの条件下において、応力(τ)が800Pa以上1,200Pa以下の間において損失係数(tanδ)が1を超えることをその特徴とする。
(5)上記(1)から(4)のいずれかに記載の構成にあって、本発明のフラックス組成物は、25℃で周波数1Hzの条件下において、図1または図2に表す貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)とを示すことをその特徴とする。
(6)上記(1)から(5)のいずれかに記載の構成にあって、前記溶剤(B)は、(B−1)末端にヒドロキシル基を有さないエステル系溶剤を含むことをその特徴とする。
(7)上記(1)から(6)のいずれかに記載の構成にあって、前記エステル系溶剤(B−1)は、エステル結合を2つ有することをその特徴とする。
(8)上記(1)から(7)のいずれかに記載の構成にあって、前記チクソ剤(D)は、(D−1)ポリエーテルリン酸エステルを含むことをその特徴とする。
(9)本発明のソルダペーストは、上記(1)から(8)のいずれかに記載のフラックス組成物と、はんだ合金粉末とを含むことをその特徴とする。
本発明のフラックス組成物及びソルダペーストによれば、メタルマスクの厚み及び開口径にかかわらず良好な版離れ性及び印刷性(つの立ち抑制)を確保することができる。
実施例1に係るフラックス組成物に対し、25℃で周波数1Hzの条件下における1Paから1,000Paの応力(τ)をかけた場合の貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)とを示すグラフである。 実施例2に係るフラックス組成物に対し、25℃で周波数1Hzの条件下における1Paから1,000Paの応力(τ)をかけた場合の貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)とを示すグラフである。 比較例1に係るフラックス組成物に対し、25℃で周波数1Hzの条件下における1Paから1,000Paの応力(τ)をかけた場合の貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)とを示すグラフである。 比較例2に係るフラックス組成物に対し、25℃で周波数1Hzの条件下における1Paから1,000Paの応力(τ)をかけた場合の貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)とを示すグラフである。 比較例3に係るフラックス組成物に対し、25℃で周波数1Hzの条件下における1Paから1,000Paの応力(τ)をかけた場合の貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)とを示すグラフである。
本発明のフラックス組成物及びソルダペーストの一実施形態を以下に詳述する。なお、本発明がこれらの実施形態に限定されないのはもとよりである。
(1)フラックス組成物
本実施形態のフラックス組成物は、所定以上の応力(τ)を与えるまでの貯蔵弾性率(G’)を一定以上に保つことができる。即ち、本実施形態のフラックス組成物は所定以上の応力(τ)を与えるまでの損失係数(tanδ:損失弾性率(G’’)/貯蔵弾性率(G’))を1より小さくすることができる。
また本実施形態のフラックス組成物は、特に500Paから1,000Paの間における貯蔵弾性率(G’)について、応力(τ)が1Pa増加した場合の貯蔵弾性率(G’)の減少値の平均値(絶対値)を一定以上とすることができる。
そしてこのような本実施形態のフラックス組成物は、(A)ベース樹脂と、(B)溶剤と、(C)活性剤と、(D)チクソ剤とを含む。
(A)ベース樹脂
前記ベース樹脂(A)としては、例えばロジン系樹脂、アクリル樹脂、スチレン−マレイン酸樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、テルペン樹脂及びポリアルキレンカーボネート等が挙げられる。これらの中でも、特にロジン系樹脂及びアクリル樹脂が好ましく用いられる。
なおこれらは1種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
前記ロジン系樹脂としては、例えばトール油ロジン、ガムロジン、ウッドロジン等のロジン;ロジンを重合化、水添化、不均一化、アクリル化、マレイン化、エステル化若しくはフェノール付加反応等を行ったロジン誘導体;これらロジンまたはロジン誘導体と不飽和カルボン酸(アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、フマル酸等)とをディールス・アルダー反応させて得られる変性ロジン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、特にフラックス組成物の活性化向上の観点から水添ロジンが好ましく用いられる。
なおこれらは1種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
また前記ロジン系樹脂の酸価は80mgKOH/gから350mgKOH/gであることが好ましく、その重量平均分子量は250Mwから1,100Mwであることが好ましい。
前記アクリル樹脂としては、例えば(メタ)アクリル酸を含むモノマーを重合することにより生成されるものであればいずれも使用することができる。また当該アクリル樹脂は、1種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
また前記アクリル樹脂の酸価は30mgKOH/gから100mgKOH/gであることが好ましく、その重量平均分子量は3,000Mwから30,000Mwであることが好ましい。
前記ベース樹脂(A)の配合量は、フラックス組成物全量に対して10質量%以上60質量%以下であることが好ましく、20質量%以上50質量%以下であることがより好ましい。
また前記ベース樹脂(A)の酸価は30mgKOH/gから350mgKOH/gであることが好ましい。
前記ベース樹脂(A)としてロジン系樹脂を用いる場合、その配合量はフラックス組成物全量に対して10質量%以上60質量%以下であることが好ましく、20質量%以上50質量%以下であることが更に好ましい。
前記ベース樹脂(A)としてアクリル樹脂を用いる場合、その配合量はフラックス組成物全量に対して10質量%以上60質量%以下であることが好ましく、15質量%以上50質量%以下であることがより好ましい。
また前記ベース樹脂(A)として前記アクリル樹脂と前記ロジン系樹脂とを併用する場合、その配合比率はロジン系樹脂:アクリル樹脂の比率で10:90から50:50であることが好ましく、15:85から40:60であることがより好ましい。
(B)溶剤
前記溶剤(B)としては、例えばイソプロピルアルコール、エタノール、アセトン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ヘキシルジグリコール、(2−エチルヘキシル)ジグリコール、フェニルグリコール、ブチルカルビトール、オクタンジオール、αテルピネオール、βテルピネオール、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、トリメリット酸トリス(2−エチルヘキシル)及びセバシン酸ビスイソプロピル等を使用することができる。
なおこれらは1種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
本実施形態のフラックス組成物においては、前記溶剤(B)として(B−1)末端にヒドロキシル基を有さないエステル系溶剤を含むことが好ましい。
フラックス組成物に用いられる溶剤としては、所謂グリコール系の溶剤が用いられるのが一般的である。しかし本実施形態のフラックス組成物は、前記溶剤(B)として末端にヒドロキシル基を有さないエステル系溶剤(B−1)を含むことにより、メタルマスクの開口部が高アスペクト比となるような場合においても安定した版離れ性及び印刷性(つの立ち抑制)を確保することができる。
前記エステル系溶剤(B−1)としては、例えばコハク酸ジイソブチル、コハク酸ジブチル、コハク酸ジイソプロピル、アジピン酸ジイソブチル、アジピン酸ジイソデシル、デカン二酸ジイソプロピル、n−オクタン酸アミル、マレイン酸ジブチル、セバシン酸ジエチル等が挙げられる。
これらの中でもエステル結合を2つ有するエステル系溶剤を用いると、フラックス組成物及びソルダペーストの印刷性をより向上することができる。
またこれらの中でも脂肪酸ジカルボン酸ジエステル及びその誘導体が好ましく、デカン二酸ジイソプロピルが特に好ましく用いられる。
なおこれらは1種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
前記溶剤(B)の配合量は、フラックス組成物全量に対して10質量%以上65質量%以下であることが好ましい。より好ましいその配合量は20質量%以上50質量%以下であり、特に好ましい配合量は25質量%以上45質量%以下である。
また前記エステル系溶剤(B−1)の配合量は、前記溶剤(B)全量に対して20質量%から100質量%であることが好ましい。
(C)活性剤
前記活性剤(C)としては、例えばカルボン酸類、ハロゲンを含む化合物等が挙げられる。これらは1種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
前記カルボン酸類としては、例えばモノカルボン酸、ジカルボン酸等並びにその他の有機酸が挙げられる。
前記モノカルボン酸としては、例えばプロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ツベルクロステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、グリコール酸等が挙げられる。
ジカルボン酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、ジグリコール酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸等が挙げられる。
また前記その他の有機酸としては、ダイマー酸、レブリン酸、乳酸、アクリル酸、安息香酸、サリチル酸、アニス酸、クエン酸、ピコリン酸、アントラニル酸等が挙げられる。
なおこれらは1種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。また前記活性剤(C)として好ましいカルボン酸類は、スベリン酸である。
前記ハロゲンを含む化合物としては、例えば非解離性のハロゲン化合物(非解離型活性剤)、解離性のハロゲン化合物(解離型活性剤)が挙げられる。
前記非解離型活性剤としては、ハロゲン原子が共有結合により結合した非塩系の有機化合物が挙げられ、例えば塩素化物、臭素化物、ヨウ素化物、フッ化物のように塩素、臭素、ヨウ素、フッ素の各単独元素の共有結合による化合物でもよく、また2以上の異なるハロゲン原子を共有結合で結合する化合物でもよい。当該化合物は水性溶媒に対する溶解性を向上させるために、例えばハロゲン化アルコールのように水酸基等の極性基を有することが好ましい。当該ハロゲン化アルコールとしては、例えば2,3−ジブロモプロパノール、2,3−ジブロモブタンジオール、1,4−ジブロモ−2−ブタノール、トリブロモネオペンチルアルコール等の臭素化アルコール;2−ブロモヘキサン酸等の臭化有機酸;1,3−ジクロロ−2−プロパノール、1,4−ジクロロ−2−ブタノール等の塩素化アルコール;3−フルオロカテコール等のフッ素化アルコール;その他のこれらに類する化合物が挙げられる。これらは1種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
なお前記活性剤(C)として好ましいハロゲンを含む化合物は、ジブロモブテンジオールである。
前記活性剤(C)の配合量は、フラックス組成物全量に対して1質量%から20質量%であることが好ましい。より好ましい前記配合量は1質量%から15質量%であり、特に好ましい前記配合量は1質量%から10質量%である。
(D)チクソ剤
前記チクソ剤(D)としては、例えば水素添加ヒマシ油、飽和脂肪酸アミド、飽和脂肪酸ビスアミド類、オキシ脂肪酸類及びジベンジリデンソルビトール類等が挙げられる。
なおこれらは1種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
本実施形態のフラックス組成物には、チクソ剤(D)として(D−1)ポリエーテルリン酸エステルを含めることが好ましい。このようなポリエーテルリン酸エステル(D−1)としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸及び高級アルコールリン酸等のモノまたはジエステル、またはそれらのアルカリ金属塩、アンモニウム塩及びアミン塩等が挙げられ、市販品としては例えばディスパロン3500(楠本化成(株))等が挙げられる。
なおこれらは1種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
本実施形態のフラックス組成物は、特に前記エステル系溶剤(B−1)と前記ポリエーテルリン酸エステル(D−1)とを併用することで、所定以上の応力(τ)を与えるまでの損失係数(tanδ)を1より小さくすることができる。またこのようなフラックス組成物は、特に500Paから1,000Paの間における貯蔵弾性率(G’)が、応力(τ)が1Pa増加した場合の貯蔵弾性率(G’)の減少値の平均値(絶対値)を一定以上とすることができると考えられる。
前記チクソ剤(D)の配合量は、フラックス組成物全量に対して1質量%から10質量%が好ましい。更に好ましいその配合量は、フラックス組成物全量に対して2質量%から9質量%である。
また前記チクソ剤(D−1)の配合量は、フラックス組成物全量に対して0.1質量%から3質量%が好ましい。更に好ましいその配合量は、フラックス組成物全量に対して0.5質量%から2質量%である。
酸化防止剤
本実施形態のフラックス組成物には、はんだ合金粉末の酸化を抑える目的で酸化防止剤を配合することができる。このような酸化防止剤としては、例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、ビスフェノール系酸化防止剤、ポリマー型酸化防止剤等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中でも特にヒンダードフェノール系酸化防止剤が好ましく用いられる。このヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えばイルガノックス245(BASFジャパン(株)製)等が挙げられる。
なおこれらは単独でまたは複数を組合せて使用することができる。
前記酸化防止剤の配合量は特に限定されないが、一般的にはフラックス組成物全量に対して0.5質量%から10質量%程度であることが好ましい。
また本実施形態のフラックス組成物には、消泡剤、防錆剤、界面活性剤、熱硬化剤、つや消し剤等の添加剤を配合することができる。当該添加剤の配合量は、フラックス組成物全量に対して10質量%以下、特に5質量%以下であることが好ましい。
なおこれらは単独でまたは複数を組合せて使用することができる。
ソルダペーストをメタルマスクを用いて基板上に印刷する場合、メタルマスクを基板から離す際にソルダペーストがメタルマスク開口部壁面に付着しやすいと、ソルダペーストの転写形状の異常やつの立ちが発生し易くなる。
しかし本実施形態のフラックス組成物は、上述の通り所定以上の応力(τ)を与えることで、急激に損失係数(tanδ)が1を超えるため、これを用いたソルダペーストをメタルマスクにより印刷する際、印刷の版離れのような極短時間しか応力が加わらない場合であっても当該メタルマスクに接触した(応力の加わった)ソルダペースト部分のみ粘度が低くなり易いと推測される。従って、当該ソルダペーストはメタルマスクの開口部から離反し易くなり、またその転写形状を保ちつつ離反し得ると考えられる。そのため、メタルマスクの開口部が高アスペクト比となるような場合においても安定した印刷性(つの立ち抑制)及び転写率を確保することができる。
具体的には、本実施形態のフラックス組成物は、25℃で周波数1Hzの条件下において、応力(τ)が100Paにおける貯蔵弾性率G1’と、応力(τ)が500Paにおける貯蔵弾性率G2’と、応力(τ)が750Paにおける貯蔵弾性率G3’と、応力(τ)が1,000Paにおける貯蔵弾性率G4’とが下記式(1)から(3)の全てを満たし得る。
(1)G2’/G1’=0.6以上0.95以下
(2)G3’/G2’=0.6以上0.95以下
(3)G4’/G3’=0.001以上0.2以下
また前記貯蔵弾性率G1’と、前記貯蔵弾性率G2’と、前記貯蔵弾性率G3’と、前記貯蔵弾性率G4’とは、下記式(4)から(5)の全てを満たすことがより好ましい。
(4)G2’/G1’=0.7以上0.9以下
(5)G3’/G2’=0.7以上0.95以下
(6)G4’/G3’=0.003以上0.1以下
また本実施形態のフラックス組成物は、25℃で周波数1Hzの条件下において、かかる応力(τ)が500Paから1,000Paの間における貯蔵弾性率(G’)について、前記応力(τ)が1Pa増加した場合の前記貯蔵弾性率(G’)の減少値の平均値が絶対値で20Pa以上90Pa以下となり得る。なお当該減少値の平均値は絶対値で35Pa以上80Pa以下であることが好ましい。
更には、本実施形態のフラックス組成物は、25℃で周波数1Hzの条件下において、応力(τ)が800Pa以上1,200Pa以下の間において損失係数(tanδ)が1を超えることが好ましい。
上述の通り、本実施形態のフラックス組成物は、所定以上の応力(τ)を与えた場合に急激に損失係数(tanδ)が1を超えるものであるため、応力の加わった部分のみ粘度が低くなり易い傾向にある。しかしフラックス組成物の損失係数(tanδ)が1を超える応力(τ)の数値が高すぎると、例えばこれを用いたソルダペーストをメタルマスクを用いて基板上に印刷する場合、ソルダペーストにかかる応力(τ)が、上記損失係数(tanδ)が1を超える応力(τ)よりも低くなる可能性が高く、そのためソルダペーストの粘度が低くならずメタルマスクから抜け難くなったり、印刷時にローリングし難くなる可能性がある。そのため、損失係数(tanδ)が1を超える応力(τ)は800Pa以上1,200Pa以下であることが好ましく、900Paから1,000Paであることが更に好ましい。
なお、本実施形態のフラックス組成物は、応力(τ)が100Paにおける損失弾性率G1’’と、応力(τ)が500Paにおける損失弾性率G2’’と、応力(τ)が750Paにおける損失弾性率G3’’と、応力(τ)が1,000Paにおける損失弾性率G4’’とが下記式(1)’から(3)’の全てを満たすことが好ましい。
(1)’G2’’/G1’’=0.7以上1以下
(2)’G3’’/G2’’=0.8以上1以下
(3)’G4’’/G3’’=0.1以上0.3以下
また本実施形態のフラックス組成物は、25℃で周波数1Hzの条件下において、図1または図2に表す貯蔵弾性率(G’)と損失弾性率(G’’)とを示すことが好ましい。
本実施形態において、上述した条件の「25℃」及び「周波数1Hz」とは、使用する粘弾性測定装置の測定部(測定対象物:フラックス組成物)の温度が25℃であり、当該粘弾性測定装置のプレートの回転速度が1Hzであることをいう。また貯蔵弾性率(G’)(G1’、G2’、G3’及びG4’含む)、及び損失弾性率(G’’)(G1’’、G2’’、G3’’及びG4’’含む)は、上記条件に加え、粘弾性測定装置(製品名:HAAKE MARSIII、英弘精機(株)製)を用い、パレット:P25 CS L、Lower Plate:TMP25、ギャップ:0.5mm、試料体積:0.2ml(約0.8g)、測定モード:応力掃引、応力(τ)を1Paから1,000Paかけたものを測定した。
(2)ソルダペースト
本実施形態のソルダペーストは、上記フラックス組成物とはんだ合金粉末とを混合することにより得られる。
前記はんだ合金粉末としては、例えば錫及び鉛を含む合金、錫及び鉛並びに銀、ビスマス及びインジウムの少なくとも1種を含む合金、錫及び銀を含む合金、錫及び銅を含む合金、錫、銀及び銅を含む合金、錫及びビスマスを含む合金等を用いることができる。またこれら以外にも、例えば錫、鉛、銀、ビスマス、インジウム、銅、亜鉛、ガリウム、アンチモン、金、パラジウム、ゲルマニウム、ニッケル、クロム、アルミニウム、リン等を適宜組合せたはんだ合金粉末を使用することができる。なお、上記に挙げた元素以外であってもその組合せに使用することは可能である。
前記はんだ合金粉末の配合量は、ソルダペースト全量に対して65質量%から95質量%であることが好ましい。より好ましい配合量は85質量%から93質量%であり、特に好ましい配合量は88質量%から91質量%である。
前記はんだ合金粉末の配合量が65質量%未満の場合には、得られるソルダペーストを用いた場合に充分なはんだ接合が形成されにくくなる傾向にある。他方はんだ合金粉末の含有量が95質量%を超える場合にはバインダとしてのフラックス組成物が足りないため、フラックス組成物とはんだ合金粉末とを混合しにくくなる傾向にある。
更に前記はんだ合金粉末の粒子径は、20μmから38μm以下であることが好ましい。なお、当該粒子径は、動的光散乱式の粒子径測定装置により測定し得る。
本実施形態のソルダペーストは、上記フラックス組成物を使用することにより、メタルマスクの開口部が高アスペクト比となるような場合においても安定した版離れ性及び印刷性(つの立ち抑制)を確保することができる。
なお、上記においてはフラックス組成物をソルダペーストに使用する実施形態について説明したが、本実施形態におけるフラックス組成物の用途はこれに限定されず、例えばはんだボール用ボンドフラックス等の他のフラックス用途にも種々適用可能である。
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を詳述する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
表1に記載の各成分を混練し、実施例1及び2並びに比較例1から3に係る各フラックス組成物を作製した。
また上記各フラックス組成物10.5質量%と、Sn−3Ag−0.5Cuはんだ合金粉末(粒径20μmから38μm)89.5質量%とを混合し、実施例1及び2並びに比較例1から4に係る各ソルダペーストを作製した。
なお、特に記載のない限り、表1に記載の数値は質量%を意味するものとする。
実施例1及び2並びに比較例1から3に係るフラックス組成物を以下の測定条件にて貯蔵弾性率(G’)及び損失弾性率(G’’)を測定した。その結果を図1から図5に示す。
また当該測定結果から実施例1及び2並びに比較例1から3に係るフラックス組成物の応力(τ)が100Paにおける貯蔵弾性率G1’と、応力(τ)が500Paにおける貯蔵弾性率G2’と、応力(τ)が750Paにおける貯蔵弾性率G3’と、応力(τ)が1,000Paにおける貯蔵弾性率G4’と、それぞれにおけるG2’/G1’、G3’/G2’及びG4’/G3’の値を算出した。その結果を表2に表す。
更に、上記測定結果から、実施例1及び2並びに比較例1から3にかかるフラックス組成物について、損失係数(tanδ)が1を超える応力(τ)を算出した。その結果を表2に表す。
粘弾性測定装置(製品名:HAAKE MARSIII、英弘精機(株)製)
粘弾性測定装置の測定部(測定対象物:フラックス組成物)の温度(温度):25℃
粘弾性測定装置のプレートの回転速度(周波数):1Hz
パレット:P25 CS L
Lower Plate:TMP25
ギャップ:0.5mm
試料体積:0.2ml(約0.8g)
応力(τ):1Paから1,000Pa
測定モード:応力掃引
<粘弾性試験>
上記条件にて測定した貯蔵弾性率(G’)について、500Paから1,000Paの応力(τ)において、応力(τ)が1Pa増加した場合のその減少値の平均値を測定した。その結果を表2に示す。
Figure 0006560283
※1 楠本化成(株)製 ポリエーテルリン酸エステル
※2 共栄社化学(株)製 チクソ剤(高級脂肪酸ビスアマイド)
※3 BASFジャパン(株)製 ヒンダードフェノール系酸化防止剤
<印刷性>
ガラスエポキシ基板と64ピン0.4mmピッチのQFP(パッケージサイズ:7mm×7mm×1.0mm)を用意した。前記ガラスエポキシ基板に前記QFPに対応するソルダレジストと電極(975μm×170μm)を設け、次いでこれと同じパターンを有する厚さ150μmのメタルマスクを用い、各ソルダペーストを、印刷機(製品名:SP60P−L、パナソニック(株)製)を用い、1種につき先ずは前記基板に捨て刷りとして2枚印刷した後、6枚の前記基板に連続で印刷し、各試験基板を作製した。なお、印刷時の条件はスキージ速度:30mm/秒、版離れ速度:1.0mm/秒とした。
各試験基板上の印刷パターンについて画像検査機(製品名:aspire2、(株)コーヨンテクノロジー製)を用いて384ピン中の差分高さ(印刷形状の頂点の高さから平均高さを減じた値。以下同じ。)が150μm以上のツノの発生個数を測定した。その結果を表2に表す。
Figure 0006560283
以上に示す通り、実施例1及び2に係るフラックス組成物は、所定以上の応力(τ)を与えるまでの貯蔵弾性率(G’)を一定以上に保つことができ、応力(τ)が900Paから1,000Paの間において損失係数(tanδ)が1を超える。また特に500Paから1,000Paの間における貯蔵弾性率(G’)について、応力(τ)が1Pa増加した場合の貯蔵弾性率(G’)の減少値の平均値(絶対値)を一定以上とすることができる。そのため、これらのフラックス組成物を用いた実施例1及び2に係るソルダペーストは、メタルマスクを用いてこれらを基板上に印刷する際、所定以上の応力の加わった時点において当該メタルマスクに接触したソルダペースト部分のみ粘度が低くなり易いと推測される。よってこのようなソルダペーストはメタルマスクの開口部から離反し易くなり、またその転写形状を保ちつつ離反し得ると考えられる。
以上の通り、実施例に係るソルダペーストは比較例のそれと比較して良好な印刷性(つの立ち抑制)効果を発現し、メタルマスクの開口部からの版離れ性を向上することができる。よって本発明に係るフラックス組成物を用いたソルダペーストは微細なパターンを有する例えば厚み150μmといったソルダマスクを使用した場合であっても非常に安定した版離れ性及び印刷性を確保し得る。

Claims (9)

  1. (A)ベース樹脂と、(B)溶剤と、(C)活性剤と、(D)チクソ剤とを含むフラックス組成物であって、
    25℃で周波数1Hzの条件下において、応力(τ)が100Paにおける貯蔵弾性率G1’と、応力(τ)が500Paにおける貯蔵弾性率G2’と、応力(τ)が750Paにおける貯蔵弾性率G3’と、応力(τ)が1,000Paにおける貯蔵弾性率G4’とが下記式(1)から(3)の全てを満たすことを特徴とするフラックス組成物。
    (1)G2’/G1’=0.6以上0.95以下
    (2)G3’/G2’=0.6以上0.95以下
    (3)G4’/G3’=0.001以上0.2以下
  2. 前記貯蔵弾性率G1’と、前記貯蔵弾性率G2’と、前記貯蔵弾性率G3’と、前記貯蔵弾性率G4’とが下記式(4)から()の全てを満たすことを特徴とする請求項1に記載のフラックス組成物
    (4)G2’/G1’=0.7以上0.9以下
    (5)G3’/G2’=0.7以上0.95以下
    (6)G4’/G3’=0.003以上0.1以下
  3. 25℃で周波数1Hzの条件下において、かかる応力(τ)が500Paから1,000Paの間における貯蔵弾性率(G’)について、前記応力(τ)が1Pa増加した場合の前記貯蔵弾性率(G’)の減少値の平均値が絶対値で20Pa以上90Pa以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のフラックス組成物。
  4. 25℃で周波数1Hzの条件下において、応力(τ)が800Pa以上1,200Pa以下の間において損失係数(tanδ)が1を超えることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のフラックス組成物。
  5. 25℃で周波数1Hzの条件下において、前記貯蔵弾性率G1’と、前記貯蔵弾性率G2’と、前記貯蔵弾性率G3’と、前記貯蔵弾性率G4’とが下記式(7)から(9)の全てを満たし、
    (7)G2’/G1’=0.81以上0.82以下
    (8)G3’/G2’=0.85以上0.87以下
    (9)G4’/G3’=0.004以上0.005以下
    且つ応力(τ)が100Paにおける損失弾性率G1’’と、応力(τ)が500Paにおける損失弾性率G2’’と、応力(τ)が750Paにおける損失弾性率G3’’とが10,000以上15,000以下であり、応力(τ)が1,000Paにおける損失弾性率G4’’が5,000以下である、
    若しくは25℃で周波数1Hzの条件下において、前記貯蔵弾性率G1’と、前記貯蔵弾性率G2’と、前記貯蔵弾性率G3’と、前記貯蔵弾性率G4’とが下記式(10)から(12)の全てを満たし、
    (10)G2’/G1’=0.76以上0.77以下
    (11)G3’/G2’=0.89以上0.90以下
    (12)G4’/G3’=0.06以上0.07以下
    且つ前記損失弾性率G1’’と、前記損失弾性率G2’’とが10,000以上15,000以下であり、前記損失弾性率G3’’と、前記損失弾性率G4’’とが10,000以下であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のフラックス組成物。
  6. 前記溶剤(B)は、(B−1)末端にヒドロキシル基を有さないエステル系溶剤を含むことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項にフラックス組成物。
  7. 前記エステル系溶剤(B−1)は、エステル結合を2つ有することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のフラックス組成物。
  8. 前記チクソ剤(D)は、(D−1)ポリエーテルリン酸エステルを含むことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のフラックス組成物。
  9. 請求項1から請求項8のいずれか1項に記載のフラックス組成物と、はんだ合金粉末とを含むことを特徴とするソルダペースト。
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