JP6557948B2 - 光源装置及び投影装置 - Google Patents
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Description
第1実施形態について図面を参照して説明する。
集光レンズ群28は、励起光源26から出射される励起光を、図2に示すように、前記蛍光体プレート29よりも小さな矩形形状、ここでは正方形形状の励起光照射領域37内に集光して、蛍光体プレート29に照射する集光光学系の一部である。そして、本実施形態では、励起光照射領域37が蛍光体プレート29に対して偏心するように、具体的には、励起光照射領域37が蛍光体プレート29の一辺に対して近接するような励起光の照射状態となるように、集光レンズ群28等の集光光学系の光学設計がなされている。あるいは、そのような照射状態となるように、蛍光体プレート29が偏心配置されている。
通常、蛍光体プレート29は図示しない基板上に配置されるために、蛍光体プレート下面29Bは光学的には全反射特性を備える。一方、切り落とし部分となる蛍光体プレート側面29Sには、何も配置されていないが、ある程度の全反射特性を備えている。そのため、励起光照射領域37から出射された、あるいは蛍光体プレート下面29Bで反射された蛍光体発光光は、この蛍光体プレート側面29Sで、その一部が反射され、残りが該蛍光体プレート側面29Sから蛍光体プレート29の外部に出射されて、損失となる。
第2実施形態について説明する。ここでは、第1実施形態との相違点について説明し、同一の部分については、同一の符号を付してその説明を省略する。
第3実施形態について説明する。ここでは、第1実施形態との相違点について説明し、同一の部分については、同一の符号を付してその説明を省略する。
第2実施形態のような励起光照射領域37を蛍光体プレート29の一つの角に寄せるように励起光38を照射した場合には、図7(B)に示すように、励起光38が照射された際に、矩形形状の蛍光体プレート29の二辺に対して近接されていない、矩形形状の励起光照射領域37の二辺のそれぞれに近接して、且つ、当該二辺のそれぞれに沿って、蛍光体プレート29にエアスリット42を設けることができる。これにより、蛍光体発光光の損失を前記第2実施形態よりも低減することができる。
[1]
励起光を出射する励起光源と、
前記励起光に励起され、前記励起光の波長とは異なる波長の蛍光光を出射する蛍光体プレートと、
前記励起光源から出射される励起光を、前記蛍光体プレートよりも小さな励起光照射領域内に集光して、前記蛍光体プレートに照射すると共に、前記励起光照射領域からの蛍光体発光光を取り込む、集光光学系と、
を備え、
前記励起光照射領域が前記蛍光体プレートに対して偏心するように、前記励起光が前記蛍光体プレートに照射されることを特徴とする光源装置。
[2]
前記蛍光体プレートのサイズが前記励起光照射領域のサイズに対して所定の割合以上であることを特徴とする[1]に記載の光源装置。
[3]
前励起光照射領域が記矩形形状であり、前記蛍光体プレートが矩形形状であって、
前記矩形形状の励起光照射領域が、前記矩形形状の蛍光体プレートの一辺に対して近接することを特徴とする請求項[1]又は[2]に記載の光源装置。
[4]
前励起光照射領域が記矩形形状であり、前記蛍光体プレートが矩形形状であって、
前記矩形形状の励起光照射領域が、前記矩形形状の蛍光体プレートの二辺に対して等距離に近接することを特徴とする請求項[1]又は[2]に記載の光源装置。
[5]
前記励起光が照射された際に、前記矩形形状の蛍光体プレートの辺に対して近接されていない、前記矩形形状の励起光照射領域の少なくとも一辺に近接して、且つ、当該少なくとも一辺に沿って、前記蛍光体プレートに設けられたエアスリットを更に備えることを特徴とする請求項[3]又は[4]に記載の光源装置。
[6]
画像を入力して被投影体に投影する投影装置であって、
[1]〜[5]の何れかに記載の光源装置と、
前記光源装置から出射された光を用いて表示を行う表示素子と、
前記表示素子に表示された画像を被投影体に向けて投影する投影光学系と、
前記光源装置及び表示素子を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする投影装置。
Claims (6)
- 励起光を出射する励起光源と、
前記励起光に励起されることにより前記励起光の波長とは異なる波長の蛍光光を出射し、全体を透光性無機材料と複数の蛍光体とを焼結して形成された平面視が矩形で板状の蛍光体プレートと、
前記励起光源から出射される前記励起光を前記蛍光体プレートの一方の面の一部である励起光照射領域内に集光して、前記蛍光体プレートに照射すると共に、前記励起光照射領域からの蛍光体発光光を取り込む、集光光学系と、
を備え、
前記励起光照射領域が前記蛍光体プレートにおける平面視が矩形で板状の中心に対して偏心した状態で固定され、前記励起光が前記蛍光体プレートに照射されることを特徴とする光源装置。 - 前記蛍光体プレートのサイズが前記励起光照射領域のサイズに対して所定の割合以上であることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
- 前記励起光照射領域が矩形形状であり、
前記矩形形状の励起光照射領域が、前記平面視が矩形で板状の蛍光体プレートの一辺に対して近接することを特徴とする請求項1又は2に記載の光源装置。 - 前記励起光照射領域が矩形形状であり、
前記矩形形状の励起光照射領域が、前記平面視が矩形で板状の蛍光体プレートの二辺に対して等距離に近接することを特徴とする請求項1又は2に記載の光源装置。 - 前記励起光が照射された際に、前記平面視が矩形で板状の蛍光体プレートの辺に対して近接されていない、前記矩形形状の励起光照射領域の少なくとも一辺に近接して、且つ、当該少なくとも一辺に沿って、前記蛍光体プレートに設けられたエアスリットを更に備えることを特徴とする請求項3又は4に記載の光源装置。
- 画像を入力して被投影体に投影する投影装置であって、
請求項1〜5の何れかに記載の光源装置と、
前記光源装置から出射された光を用いて表示を行う表示素子と、
前記表示素子に表示された画像を被投影体に向けて投影する投影光学系と、
前記光源装置及び表示素子を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする投影装置。
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