JP6544447B2 - 信号伝達装置 - Google Patents

信号伝達装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6544447B2
JP6544447B2 JP2017567981A JP2017567981A JP6544447B2 JP 6544447 B2 JP6544447 B2 JP 6544447B2 JP 2017567981 A JP2017567981 A JP 2017567981A JP 2017567981 A JP2017567981 A JP 2017567981A JP 6544447 B2 JP6544447 B2 JP 6544447B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
circuit
chip
transmission device
pressure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017567981A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2017141566A1 (ja
Inventor
赤羽 正志
正志 赤羽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Publication of JPWO2017141566A1 publication Critical patent/JPWO2017141566A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6544447B2 publication Critical patent/JP6544447B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/20Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B7/00Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
    • B81B7/02Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems containing distinct electrical or optical devices of particular relevance for their function, e.g. microelectro-mechanical systems [MEMS]
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01DMEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01D11/00Component parts of measuring arrangements not specially adapted for a specific variable
    • G01D11/24Housings ; Casings for instruments
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/02Containers; Seals
    • H01L23/04Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/16Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
    • H01L25/162Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits the devices being mounted on two or more different substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/18Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different subgroups of the same main group of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/1255Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs integrated with passive devices, e.g. auxiliary capacitors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/772Field effect transistors
    • H01L29/78Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
    • H01L29/786Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
    • H01L29/7869Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film having a semiconductor body comprising an oxide semiconductor material, e.g. zinc oxide, copper aluminium oxide, cadmium stannate
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B11/00Transmission systems employing sonic, ultrasonic or infrasonic waves
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/11Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K1/115Via connections; Lands around holes or via connections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/182Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with components mounted in the printed circuit board, e.g. insert mounted components [IMC]
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/01Manufacture or treatment
    • H10N30/07Forming of piezoelectric or electrostrictive parts or bodies on an electrical element or another base
    • H10N30/071Mounting of piezoelectric or electrostrictive parts together with semiconductor elements, or other circuit elements, on a common substrate
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one piezoelectric, electrostrictive or magnetostrictive element covered by groups H10N30/00 – H10N35/00
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2201/00Specific applications of microelectromechanical systems
    • B81B2201/02Sensors
    • B81B2201/0264Pressure sensors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2207/00Microstructural systems or auxiliary parts thereof
    • B81B2207/09Packages
    • B81B2207/091Arrangements for connecting external electrical signals to mechanical structures inside the package
    • B81B2207/094Feed-through, via
    • B81B2207/096Feed-through, via through the substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item

Description

この発明は、信号伝達装置に関する。
従来、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems:微小電気機械システム)技術を用いてセンサやアクチュエータなど複数の異なる要素を同一基板上に形成した微細デバイス(以下、MEMSデバイスとする)が公知である(例えば、下記特許文献1参照。)。また、MEMSデバイスを半導体基板上に集積化したモジュールが公知である(例えば、下記特許文献2,3参照。)。下記特許文献1には、可動ビーム(梁状部品)の変位を検出するセンサを備えた機械アイソレータについて提案されている。下記特許文献2には、MEMSデバイスおよび受動素子をそれぞれ異なる基板に接合して単一のモジュールに集積化する技術について提案されている。下記特許文献3には、MEMSデバイスを気密封止する技術について提案されている。
従来のMEMSデバイスまたはMEMSデバイスを集積化したモジュールの構造について説明する。図17は、従来のMEMSデバイスの構造を簡易的に示すブロック図である。図17は、下記特許文献1の図1である。図17に示すMEMSデバイスは、同一の半導体基板上に、アクチュエータ201、制御素子202、センサ203および可動ビーム204を備えたアナログアイソレータである。アクチュエータ201、センサ203および可動ビーム204は、MEMS技術を用いて形成されている。アクチュエータ201と制御素子202、および、制御素子202とセンサ203とは、それぞれ可動ビーム204を介して機械的に接続されている。
アクチュエータ201は、入力信号211の入力を受けて、センサ203の配置位置と反対方向(以下、作動方向とする)221に可動ビーム204を可動させる。センサ203は、可動ビーム204の動作を検知し、処理回路205に電気信号を送信する。処理回路205は、センサ203からの電気信号を基準信号212と比較し、出力信号213や誤差信号214を生成する。出力信号213は、可動ビーム204の動作を示すアナログ信号である。制御素子202は、処理回路205から直接または帰還ネットワーク206を介して誤差信号214の入力を受けて、可動ビーム204を双方向222に可動する。
可動ビーム204は、アクチュエータ201およびセンサ203の一部をそれぞれ構成する導電部231a,231bを有する。可動ビーム204の導電部231a,231bは、それぞれ絶縁部232a,232bにより制御素子202の各導電部231cと電気的に絶縁されている。絶縁部232a,232bにより3つの分離領域233a〜233cが形成され、各分離領域233a〜233cにそれぞれアクチュエータ201、制御素子202およびセンサ203が配置される。制御素子202は、入力信号211および出力信号213から電気的に絶縁されている。センサ203は、入力信号211から電気的に絶縁されている。
図18は、従来のMEMSデバイスを集積化したモジュールの構造を示す断面図である。図18は、下記特許文献2の図1である。図18に示すモジュールは、MEMSデバイス241および受動素子242をそれぞれ異なる基板243,244上に接合することで、MEMSデバイス241を個別にパッケージングすることなく受動素子242とともに集積化している。基板243,244は、基板243,244間の空間245にMEMSデバイス241および受動素子242が配置されるように位置合わせされ、インターコネクト246により接合されている。符号247は、基板243,244間の空間245の周囲を囲む部材である。符号248は、インターコネクト246に接続されたビアである。
図19は、従来のMEMSデバイスを集積化したモジュールの構造の別の一例を示す断面図である。図19は、下記特許文献3の図1である。図19に示すモジュールでは、第1基板251上に、MEMSデバイス254が配置されている。MEMSデバイス254は、第1基板251に対向する第2基板252に覆われている。MEMSデバイス254の信号は、第2基板252上の引き出し電極255および第3基板253を貫通する配線256により外部に取り出される。第3基板253は、第1基板251を挟んで第2基板252に対向し、接合層257を介して第2基板252に接合されている。第2基板252と第3基板253との間で、MEMSデバイス254が気密封止されている。
また、パッケージ内に、アクチュエータと当該アクチュエータを駆動制御する制御回路とを一体化したモジュールが提案されている(例えば、下記特許文献4(第0023段落)参照。)。下記特許文献4では、アクチュエータとして、電磁石の原理を利用して電気的エネルギーを機械的な運動エネルギーに変換するリニアソレノイドを用いて弁(バルブ)を開閉するソレノイドバルブ(電磁弁)制御装置について開示されている。また、ソレノイドバルブ制御装置として、表面に渦巻状コイルを形成した絶縁基板を複数積み重ねて渦巻状コイル同士を直列に接続してなるソレノイドコイルによって電磁弁のプランジャを可動制御する装置が提案されている(例えば、下記特許文献5参照。)。
図28は、従来のソレノイドモジュールの構成を示すブロック図である。図28は、下記特許文献4の図1である。図28に示すモジュール261は、パッケージ262内に、リニアソレノイド263と、このリニアソレノイド263を駆動制御する半導体チップで構成されるリニアソレノイド制御回路264とを一体化した構成となっている。リニアソレノイド制御回路264では、インタフェース回路265の入力値と、平均電流検出回路269および温度センサ270の出力値に基づいて、PWM(Pulse Width Modulation:パルス幅変調)制御回路267がPWM制御処理を行ってパルス幅変調信号を出力する。
リニアソレノイド制御回路264のインタフェース回路265は、自動変速機を制御する電子制御ユニット内のマイクロコンピュータの出力ポートに接続される。また、PWM制御回路267は、温度センサ270で検出した温度検出値と、特性パラメータ記憶素子266に記憶された温度特性値と、に基づいてリニアソレノイド263の実抵抗値を算出し、当該実抵抗値に基づいてPWMデューティ(通電率)を算出する。駆動回路268は、PWMデューティに基づいてPWM制御回路267で形成されたPWMパルス信号に基づいてオンオフ制御され、リニアソレノイド263に温度特性を加味した励磁電流を供給してリニアソレノイド263の温度補正を伴う駆動制御を行う。
図29,30は、従来のソレノイドコイルの構成を示す説明図である。図29,30はそれぞれ下記特許文献5の図1,4であって、図30は図29に示すビアホール277b付近の縦断面を模式的に示す拡大断面図である。ソレノイドコイル271は、絶縁基板の面上に形成した渦巻状コイル272と、渦巻状コイル272の外側の端部(巻き終り)に接して設けられた引出線273およびランド部274aと、渦巻状コイル272の内側の端部(巻き始め)に設けられたランド部274bとを有する。符号275は、渦巻状コイル272に発生した熱を外部に放熱する熱伝導層である。符号276は、渦巻状コイル272の中心部分に設けられ、プランジャが挿入される開口部である。符号277a,277bは、複数の膜状ソレノイドコイル280の外側のランド部274a同士、内側のランド部274b同士を接続するためのビアホールである。
ソレノイドコイル271は、ボンディングシート291を介して複数の膜状ソレノイドコイル280を積層し互いに接続した積層構造を有し、絶縁層292で覆われ保護されている。膜状ソレノイドコイル280は、絶縁基板281の両面それぞれに接着剤層282、導電性薄膜層283、めっき層284を順に積層して構成される。導電性薄膜層283には、周知のエッチング技術によって、渦巻状コイル272、引出線273、ランド部274a,274b、熱伝導層275、ビアホール277a,277bのパターンが形成される。ビアホール277bの内壁はめっき層285で覆われ、めっき層285によって絶縁基板281の両面の導電性薄膜層283およびめっき層284同士が電気的に接続されている。
特開2009−066750号公報 特表2007−536105号公報 特開2008−244244号公報 特開2010−242806号公報 特開平11−340031号公報
しかしながら、上記特許文献1(図17参照)では、アクチュエータ201およびセンサ203間を電気的に絶縁する絶縁部232a,232bもMEMS技術によりアクチュエータ201およびセンサ203と同一の半導体基板上に形成される。このため、絶縁部232a,232bの幅(可動ビーム204の作動方向221の幅)w200は、チップサイズに律速され狭くなってしまう。この絶縁部232a,232bの幅w200はアクチュエータ201とセンサ203との間の絶縁耐圧(耐電圧)を決める要因であるため、絶縁耐圧が低くなるという問題がある。
上記特許文献2(図18参照)では、MEMSデバイス241および受動素子242は、基板243,244との間の絶縁層(不図示)で外部の信号伝達媒体(不図示)と電気的に絶縁されており、インターコネクト246を介して当該信号伝達媒体と信号伝達を行う。すなわち、MEMSデバイス241と受動素子242とを基板243,244間の同一の空間245内で電気的に絶縁し、かつ当該空間245を介してMEMSデバイス241と受動素子242との間の信号伝達を行うことについて記載されていない。
上記特許文献3(図19参照)では、MEMSデバイス254は第2,3基板252,253間の気密封止された空間258に配置されているが、MEMSデバイス254以外の受動素子などの各部259は当該空間258に配置されていない。すなわち、MEMSデバイス254と受動素子とを同一の空間258内で電気的に絶縁し、かつ当該空間258を介してMEMSデバイス254と受動素子との間の信号伝達を行うことについて記載されていない。
上記特許文献4(図28参照)は、リニアソレノイド263の制御に関する技術であり、送受信部間を電気的に絶縁して信号伝達を行うことについて記載されていない。上記特許文献5(図29参照)は、ソレノイドコイル271の構造に関する技術であり、送受信部間を電気的に絶縁して信号伝達を行うことについて記載されていない。
この発明は、上述した従来技術による問題点を解消するため、単一のモジュールに集積化された各部間において、絶縁性の高い信号伝達を行うことができる信号伝達装置を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、本発明の目的を達成するため、この発明にかかる信号伝達装置は、次の特徴を有する。送信回路は、一次側から入力信号の入力を受けて第1電気信号を送信する。受動素子は、前記第1電気信号に基づいて圧力を発生させる。センサ部は、前記圧力を検出し、当該圧力を第2電気信号に変換する。受信回路は、前記第2電気信号に基づく出力信号を二次側へ出力する。第1半導体基板には、前記センサ部が設けられている。絶縁媒体は、前記受動素子と前記センサ部とを電気的に絶縁する。圧力伝搬領域においては、前記受動素子と前記第1半導体基板とが前記絶縁媒体を挟んで所定距離離して対向し、前記絶縁媒体を介して前記受動素子から前記センサ部へ前記圧力が伝搬される。前記受動素子は、前記第1半導体基板と異なる部材に設けられている。前記圧力の伝搬により前記一次側から前記二次側への信号伝達を行う。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、前記送信回路は、アナログの前記入力信号の入力を受けて、連続して振幅が増加または減少する特性を有する前記第1電気信号を送信する。前記受信回路は、前記第1電気信号に基づいて連続して振幅が増加または減少する特性を有する前記第2電気信号を前記出力信号として前記二次側へ出力することを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、前記送信回路は、ディジタルの前記入力信号の入力を受けて、離散的に振幅が増加または減少する特性を有する前記第1電気信号を送信する。前記受信回路は、前記第1電気信号に基づいて離散的に振幅が増加または減少する前記第2電気信号の電圧値と基準電圧とを比較して、離散的に振幅が増加または減少する特性を有する前記出力信号を前記二次側へ出力することを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、前記入力信号の1周期分で1周期分の前記出力信号が出力されることを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、前記送信回路は、所定時間内に複数の周期分のディジタルの前記入力信号の入力を受けて、離散的に振幅が増加または減少する非直線状の特性を有する複数の周期分の前記第1電気信号を送信する。前記受信回路は、複数の周期分の前記第1電気信号の非直線性に基づいて離散的に振幅が増加または減少する前記第2電気信号の複数の周期分を1周期分として、疑似的に連続して振幅が増加または減少する直線状の特性を有する前記出力信号を前記二次側へ出力することを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、前記圧力伝搬領域で前記受動素子と前記センサ部とが対向することを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、前記受動素子に接着された高硬度部材をさらに備える。前記高硬度部材は、前記受動素子と前記センサ部との間に位置する。前記高硬度部材は、前記絶縁媒体よりも硬度の高い材料からなることを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、パッケージ部材および、前記部材であるベース基板をさらに備える。前記パッケージ部材は、前記第1半導体基板が配置された凹部を有する。前記ベース基板には、前記受動素子が配置されている。前記ベース基板は、前記パッケージ部材の前記凹部の内部に前記受動素子が配置されるように当該凹部を塞ぐ位置に配置され当該パッケージ部材に接着されている。前記パッケージ部材および前記ベース基板で囲まれた空間を前記圧力伝搬領域とすることを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、パッケージ部材、前記部材であるベース基板および中継部材をさらに備える。前記パッケージ部材には、前記第1半導体基板が配置されている。前記ベース基板には、前記受動素子が配置されている。前記中継部材は、前記第1半導体基板と前記ベース基板とを接合する。前記第1半導体基板、前記ベース基板および前記中継部材で囲まれた空間を前記圧力伝搬領域とすることを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、前記送信回路が設けられた第2半導体基板をさらに備える。前記第2半導体基板は、前記ベース基板に前記受動素子と離して配置されていることを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、第2半導体基板および中継部材をさらに備える。前記第2半導体基板には、前記送信回路が設けられている。前記中継部材は、前記第1半導体基板と前記第2半導体基板とを接合する。前記中継部材は、枠状の平面形状を有する。前記第1半導体基板、前記第2半導体基板および前記中継部材で囲まれた空間を前記圧力伝搬領域とすることを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、前記パッケージ部材に一体成形された第1外部接続用端子をさらに備える。前記第1外部接続用端子の一端は、前記パッケージ部材の底面から外部に露出し前記一次側の外部回路に電気的に接続されている。前記第1外部接続用端子の他端は、前記ベース基板のスルーホールを貫通し、前記ベース基板のスルーホールを介して前記送信回路に電気的に接続されていることを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、前記パッケージ部材に一体成形された第1外部接続用端子をさらに備える。前記第1外部接続用端子の一端は、前記パッケージ部材から外部に露出し前記一次側の外部回路に電気的に接続されている。前記第1外部接続用端子の他端は、前記第1半導体基板のビアと、前記中継部材および前記ベース基板のスルーホールと、を貫通し、前記ベース基板のスルーホールを介して前記送信回路に電気的に接続されていることを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、前記第1半導体基板のビア、前記中継部材のスルーホール、および前記第2半導体基板のビアを貫通する第1外部接続用端子をさらに備える。前記第1外部接続用端子の一端は、前記第1半導体基板のビアから外部に露出し前記一次側の外部回路に電気的に接続されている。前記第1外部接続用端子の他端は、前記第2半導体基板のビアを介して前記送信回路に電気的に接続されていることを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、前記受信回路は、前記センサ部と同一の前記第1半導体基板に設けられていることを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、前記受信回路が設けられた第3半導体基板をさらに備える。前記第3半導体基板は、前記パッケージ部材の、前記第1半導体基板が配置された面に前記第1半導体基板と離して配置されていることを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、前記パッケージ部材に一体成形された第2外部接続用端子をさらに備える。前記第2外部接続用端子の一端は、前記パッケージ部材の底面から外部に露出し前記二次側の外部回路に電気的に接続されている。前記第2外部接続用端子の他端は、前記圧力伝搬領域に露出し前記受信回路に電気的に接続されていることを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、前記パッケージ部材に一体成形された第2外部接続用端子をさらに備える。前記第2外部接続用端子の一端は、前記パッケージ部材から外部に露出し前記二次側の外部回路に電気的に接続されている。前記第2外部接続用端子の他端は、前記第1半導体基板のビアを介して前記受信回路に電気的に接続されていることを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、前記第1半導体基板のビアを貫通する第2外部接続用端子をさらに備える。前記第2外部接続用端子の一端は、前記一次側の外部回路に電気的に接続されている。前記第2外部接続用端子の他端は、前記第1半導体基板のビアを介して前記受信回路に電気的に接続されていることを特徴とする。
また、この発明にかかる信号伝達装置は、上述した発明において、前記受動素子は、前記第1電気信号の入力を受けたときに変形または振動することで前記圧力を発生させる、圧電性をもつ強誘電体材料で形成されている。もしくは、前記受動素子は、前記第1電気信号の入力を受けて磁界が発生したとき、または、前記第1電気信号の入力が停止され磁界が消失したとき、に可動して前記圧力を発生させる磁性体からなる可動部を有することを特徴とする。
上述した発明によれば、同一の空間に配置したアクチュエータの圧電素子(受動素子)と圧力センサのセンサ部との間に物理的に距離を空けることができる。このため、圧電素子とセンサ部との間の距離(受動素子と第1半導体基板間の距離)でアクチュエータと圧力センサとの間の絶縁耐圧を設定することができる。これにより、チップサイズに律速されず圧電素子とセンサ部との間の距離を設定可能であり、印加電圧の大きさに基づいてアクチュエータと圧力センサとの間の絶縁耐圧を種々設定することができる。
本発明にかかる信号伝達装置によれば、単一のモジュールに集積化された各部間において、絶縁性の高い信号伝達を行うことができるという効果を奏する。
図1は、実施の形態1にかかる信号伝達装置の回路構成を示す回路図である。 図2は、図1のパッケージの構成を示す断面図である。 図3は、実施の形態2にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。 図4は、実施の形態3にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。 図5は、実施の形態4にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。 図6は、実施の形態5にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。 図7は、実施の形態6にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。 図8は、実施の形態7にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。 図9は、実施の形態8にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。 図10は、実施の形態9にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。 図11は、実施の形態10にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。 図12は、アナログ出力方式を適用した場合の動作波形を示すタイムチャートである。 図13は、アナログ出力方式を適用した場合の出力特性および受信回路の構成を示す説明図である。 図14は、ディジタル出力方式を適用した場合の動作波形を示すタイムチャートである。 図15は、ディジタル出力方式を適用した場合の出力特性および受信回路の構成を示す説明図である。 図16は、ディジタル出力方式を適用した場合の動作波形の別の一例を示すタイムチャートである。 図17は、従来のMEMSデバイスの構造を簡易的に示すブロック図である。 図18は、従来のMEMSデバイスを集積化したモジュールの構造を示す断面図である。 図19は、従来のMEMSデバイスを集積化したモジュールの構造の別の一例を示す断面図である。 図20は、実施の形態12にかかる信号伝達装置の回路構成を示す回路図である。 図21は、図20に適用されるパッケージの構成を示す断面図である。 図22は、実施の形態13にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。 図23は、実施の形態14にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。 図24は、実施の形態15にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。 図25は、実施の形態16にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。 図26は、実施の形態17にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。 図27は、実施の形態18にかかる信号伝達装置の一部の構成を示す説明図である。 図28は、従来のソレノイドモジュールの構成を示すブロック図である。 図29は、従来のソレノイドコイルの構成を示す説明図である。 図30は、図29に示すソレノイドコイルのビアホール付近の縦断面を模式的に示す拡大断面図である。
以下に添付図面を参照して、この発明にかかる信号伝達装置の好適な実施の形態を詳細に説明する。なお、以下の実施の形態の説明および添付図面において、同様の構成には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
(実施の形態1)
実施の形態1にかかる信号伝達装置の回路構成について説明する。図1は、実施の形態1にかかる信号伝達装置の回路構成を示す回路図である。図1に示す実施の形態1にかかる信号伝達装置は、アクチュエータ10および圧力センサ20を同一のパッケージ(ケース)内に配置し、パッケージ内の圧力伝搬領域30を介して一次側(アクチュエータ10側)から二次側(圧力センサ20側)へ信号伝達を行うモジュールである。一次側から二次側への信号伝達には、圧力31が用いられる。
アクチュエータ10は、送信回路11および圧電素子(ピエゾ素子)12を備える。送信回路11は、第1電源14の最低電位である例えば接地電位GNDを基準とし、第1電源14の電源電位VCCを最高電位として動作する集積回路(IC:Integrated Circuit)である。送信回路11は、入力信号INの入力を受けて電気信号を送信し、圧電素子12に電圧を印加し駆動させる。例えば、ディジタル出力方式である場合、送信回路11は、所定の変調方式に基づいた振幅や周波数、位相でディジタル電気信号(パルス波)を送信する。
圧電素子12は、一般的な圧電材料(圧電性をもつ強誘電体材料)で形成された受動素子である。圧電素子12は、電界による応力やひずみの発生(逆圧電効果)により駆動(変形または振動)し、電気信号を圧力31に変換する。具体的には、圧電素子12は、例えば、圧電材料の基板を金属電極(例えば金属板)13a,13b間に挟むように重ねた構造を有する。圧電素子12の金属電極13bは、例えば接地電位GNDである。圧電素子12は、金属電極13a,13b間に電圧が印加されることで変形または振動する。
圧力センサ20は、センサ部21および受信回路22を備える。センサ部21は、圧力伝搬領域30に生じた圧力31を電気信号に変換する。センサ部21は、例えば、半導体基板の一部を薄膜化したダイアフラムの表面層に拡散層により形成したひずみゲージでダイアフラムの変形量を電気信号に変換するひずみゲージ式であってもよい。また、センサ部21は、例えば、平行平板電極間の間隔の変位量に応じた静電容量を電気信号に変換する静電容量式であってもよい。図1には、ひずみゲージをブリッジ接続したホイートストンブリッジ23で形成されたひずみゲージ式のセンサ部21を示す。
受信回路22は、第2電源24の最低電位VSを基準とし、第2電源24の電源電位VBを最高電位として動作するICである。第2電源24の最低電位VSは、第1電源14の接地電位GNDと異なっていてもよく、例えば第1電源14の接地電位GNDよりも高い。第2電源24の電源電位VBは、第1電源14の電源電位VCCと異なっていてもよく、例えば第1電源14の電源電位VCCよりも高い。
受信回路22は、センサ部21の電気信号を出力信号OUTとして外部に出力する。例えば、ディジタル出力方式である場合、受信回路22は、変調方式に対応した復調方式によりセンサ部21の電気信号を復調し、出力信号OUTとして外部に出力する。
圧力伝搬領域30は、圧電素子12の微細な動きや振動を圧力31としてセンサ部21に伝搬可能であり、かつ、圧電素子12とセンサ部21とを電気的に絶縁可能な媒体(以下、絶縁媒体とする)で構成されている。具体的には、圧力伝搬領域30は、圧電素子12およびセンサ部21を配置した気密空間に充填された例えば空気(地球を取り巻く気体)や絶縁性のゲル、絶縁性のオイルなどの絶縁媒体で構成されている。
次に、アクチュエータ10および圧力センサ20を集積化したパッケージ(ケース)の構成について説明する。図2は、図1のパッケージの構成を示す断面図である。図2に示すように、パッケージ40は、パッケージ本体(パッケージ部材)41、ベース基板42およびパッケージキャップ43で構成され、アクチュエータ10および圧力センサ20を集積化している。パッケージ本体41は、例えば、樹脂やセラミックなどの一般的なパッケージ材料で、第1,2外部接続用端子46,47と一体成形された凹部状の断面形状の部材である。パッケージ本体41のパッケージ材料には、組立て中や実使用時に内部圧力や外部圧力により歪まない程度に硬度を有する材料を用いることが好ましい。
パッケージ本体41の凹部内において、パッケージ本体41の底面41aには、圧力センサICチップ(第1半導体基板)51が配置されている。圧力センサICチップ51とは、圧力センサ20のセンサ部21および受信回路22を一体的に形成した半導体チップである。センサ部21は、圧力センサICチップ51に、例えば略円形状の平面レイアウトに形成された、半導体基板の一部を薄膜化したダイアフラムおよびその表面層に形成した拡散抵抗を用いたひずみゲージなどにより構成されている。受信回路22は、圧力センサICチップ51に、例えば、上記の略円形状のダイアフラムの周囲の半導体基板に配置されている。
ベース基板42は、絶縁基板の両面にそれぞれ銅箔などによる回路パターン(不図示)を有する配線基板である。ベース基板42のおもて面42aには、送信チップ(第2半導体基板)52の裏面が接合されている。送信チップ52とは、アクチュエータ10の送信回路11を構成する半導体チップである。送信チップ52のおもて面52aに設けられた電極(不図示:以下、おもて面電極とする)は、ボンディングワイヤ54により、ベース基板42のおもて面42aの回路パターンに電気的に接続されている。
ベース基板42の裏面42bには、圧電チップ53の裏面53bが接合されている。圧電チップ53とは、アクチュエータ10の圧電素子12を構成する受動素子である。具体的には、圧電チップ53は、例えば、圧電材料の基板を金属電極13a,13b間に挟むように重ねた構造を有する(図1参照)。圧電チップ53は、ベース基板42を挟んで送信チップ52と対向する。圧電チップ53の金属電極13aまたは金属電極13bのいずれか一方は、ボンディングワイヤ55により、ベース基板42の裏面42bの回路パターンに電気的に接続されている。
圧電チップ53の変形や振動を抑制しないようにするために、圧電チップ53の金属電極13aまたは金属電極13bの他方は、ベース基板42の裏面42bの回路パターンに導電性緩衝材(不図示)により電気的に接続されてもよい。導電性緩衝材により圧電チップ53の変位や振動が吸収されるため、圧電チップ53の変形や振動が抑制されない。このため、圧電チップ53の圧力変換効率が低下することを抑制することができる。また、導電性緩衝材の代わりに金属や有機材料を用いた導電性スペーサを用いることもできる。また、導電性緩衝材の代わりにベース基板42に開口部を設けてもよい。ベース基板42のおもて面42aおよび裏面42bの回路パターン同士は図示省略するスルーホールを介して電気的に接続されることで、圧電チップ53と送信チップ52とが電気的に接続されている。
ベース基板42は、裏面42bをパッケージ本体41側にして、パッケージ本体41の凹部を塞ぐようにパッケージ本体41の側壁41bの開放端上に配置されている。ベース基板42は、例えば、パッケージ本体41の側壁41bの開放端との間に注入された接着剤で接着されている。パッケージ本体41とパッケージキャップ43とを接着するなどにより後述する第1空間44の気密性が確保されるのであれば、パッケージ本体41とベース基板42とは接着されていなくてもよい。この場合、ベース基板42は、例えば、第1外部接続用端子46に固定されることで、パッケージ本体41の側壁41bの開放端上に配置される。
ベース基板42の幅w21は、パッケージ本体41の側壁41b間の幅w12よりも広い(w12<w21)。また、ベース基板42の幅w21は、パッケージ本体41の幅w11よりも狭いことが好ましい(w12<w21<w11)。その理由は、次の通りである。パッケージ本体41の幅w11とパッケージキャップ43の幅w31とを同じにすることで(w11=w31)、パッケージ本体41およびパッケージキャップ43の側壁41b,43bの開放端同士を接着させることができる。これにより、パッケージ40を最も小型化させた構成とすることができるからである。
パッケージ本体41およびベース基板42で囲まれた空間(以下、第1空間とする)44は、上述した圧力伝搬領域30である。第1空間44は、パッケージ本体41とベース基板42とを接着すること、または後述するようにパッケージ本体41とパッケージキャップ43とを接着すること、で気密化されている。この第1空間44に、圧力センサICチップ51および圧電チップ53が配置されている。圧力センサICチップ51と圧電チップ53とは、圧力伝搬領域30を構成する絶縁媒体を介して対向する。圧力伝搬領域30に生じた圧力31が維持される程度にパッケージ40の内部(パッケージ本体41およびパッケージキャップ43で囲まれた空間)の気密性が確保されていればよく、第1空間44と後述する第2空間45とが連続した空間であってもよい。
アクチュエータ10と圧力センサ20との間の絶縁耐圧(耐電圧)は、圧力センサICチップ51と圧電チップ53との間の距離d1で決まる。具体的には、圧力センサICチップ51と圧電チップ53との間の距離d1とは、圧力センサICチップ51のセンサ部21と、圧電チップ53の駆動部と、の間の距離である。圧電チップ53の駆動部とは、送信チップ52からの電圧印加により駆動(変形または振動)し、圧力伝搬領域30に圧力31を生じさせる部分である。
圧力センサICチップ51と圧電チップ53との間の距離d1を離すほど、アクチュエータ10と圧力センサ20との間の絶縁耐圧が大きくなるが、圧力31が分散しやすく、圧力センサ20のセンサ部21の感度が低下する。このため、アクチュエータ10と圧力センサ20との間の絶縁耐圧と、圧力センサ20のセンサ部21の感度と、のトレードオフ関係に基づいて、圧力センサICチップ51と圧電チップ53との間の距離d1を設定することが好ましい。
また、圧力センサICチップ51と圧電チップ53との横方向(チップ表面に平行な方向)の位置は種々変更可能であり、少なくとも、圧力センサICチップ51のセンサ部21と、圧電チップ53の駆動部と、が絶縁媒体を介して対向していればよい。例えば、圧力センサICチップ51および圧電チップ53のうち、相対的にチップサイズの小さい一方の半導体チップ全面に他方の半導体チップを対向させることで、パッケージ40の小型化を図ることができる。
パッケージキャップ43は、例えば、樹脂やセラミックなどの一般的なパッケージ材料で成形された凹部状の断面形状の部材である。パッケージキャップ43のパッケージ材料の条件は、パッケージ本体41と同様である。パッケージキャップ43の平面形状は、パッケージ本体41の底面41aの平面形状と同様であり、例えばパッケージ本体41の底面41aと同じ寸法の略矩形状である。パッケージキャップ43は、凹部をベース基板42側にしてベース基板42のおもて面42aを覆う。パッケージキャップ43は、送信チップ52を保護する機能を有する。また、パッケージキャップ43は、ベース基板42を挟んでパッケージ本体41と対向する。
パッケージ本体41の側壁41bの開放端とパッケージキャップ43の側壁43bの開放端とは、例えば、両部材間の隙間に注入された接着剤で接着されている。パッケージキャップ43の側壁43b間にベース基板42が位置する。ベース基板42の幅w21は、パッケージキャップ43の側壁43b間の幅w32と同じであってもよい(w21=w32)。パッケージキャップ43およびベース基板42で囲まれた空間(以下、第2空間とする)45は気密化されている。第1,2空間44,45が連続している場合には、連続した第1,2空間44,45が気密化されている。この第2空間45に、送信チップ52が配置されている。第2空間45に封止材(不図示)が充填(モールド)されていてもよい。
第1外部接続用端子46は、パッケージ本体41の側壁41bを深さ方向に貫通する。第1外部接続用端子46の一端は、パッケージ本体41の底面41aからパッケージ40の外部に露出されている。第1外部接続用端子46の一端は、一次側の外部回路(不図示)や第1電源14に電気的に接続されている。一次側の外部回路から第1外部接続用端子46に各種信号が入力される。第1外部接続用端子46の他端は、ベース基板42のスルーホール42cを介してベース基板42のおもて面42aに露出されている。第1外部接続用端子46の他端は、ベース基板42のおもて面42aの回路パターンを介して送信チップ52に電気的に接続されている。
このように第1外部接続用端子46を配置することで、パッケージ本体41の底面41a側に入力された電気信号をベース基板42上の各部に伝達可能となる。第1外部接続用端子46は、複数(例えば少なくとも3つ)配置されている。例えば、第1外部接続用端子46は、一次側の外部回路から入力信号INの入力を受ける端子や、第1電源14の電源電位VCCを印加する端子、第1電源14の最低電位(接地電位GND)を印加する端子などである(図1参照)。図2には、1つの第1外部接続用端子46のみを図示するが、図示省略する他の第1外部接続用端子46も図示された第1外部接続用端子46と同様にパッケージ本体41の側壁41bに配置される。
第2外部接続用端子47は、パッケージ本体41の底面41aを深さ方向に貫通する。第2外部接続用端子47の一端は、パッケージ本体41の底面41aからパッケージ40の外部に露出されている。第2外部接続用端子47は、複数(例えば少なくとも3つ)配置されている。例えば、第1外部接続用端子46は、二次側の外部回路に出力信号OUTを出力する端子や、第2電源24の電源電位VBを印加する端子、第2電源24の最低電位VSを印加する端子、圧力センサの特性調整用端子などである(図1参照)。図2には、1つの第2外部接続用端子47のみを図示するが、図示省略する他の第2外部接続用端子47も図示された第2外部接続用端子47と同様にパッケージ本体41に配置される。第2外部接続用端子47の一端は二次側の外部回路(不図示)に電気的に接続されており、この二次側の外部回路に出力信号OUTが出力される。第2外部接続用端子47の他端は、例えば略L字状に折れ曲がって第1空間44に露出されている。第2外部接続用端子47の他端は、例えばボンディングワイヤ56により圧力センサICチップ51に形成された受信回路22に電気的に接続されている。
二次側の外部回路は、例えば、インバータを構成するMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor:MOS型電界効果トランジスタ)やIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor:絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ)などのスイッチング素子である。スイッチング素子を駆動するゲートドライバやスイッチング素子の異常を検出した際のアラーム出力回路として実施の形態1にかかる信号伝達装置を用いる場合、パッケージ40は、例えば、スイッチング素子とともにIPM(Intelligent Power Module:インテリジェントパワーモジュール(不図示))に組み込まれ封止される。
ゲートドライバとして実施の形態1にかかる信号伝達装置を用いる場合について説明する。二次側の外部回路がIGBTの場合、例えば、IGBTのコレクタ端子が高電圧電源の高電位側(例えば、400V)に接続され、IGBTのエミッタ端子が別のIGBTのコレクタ端子、第2電源24の最低電位VSを印加する端子と接続される。IGBTのゲート端子が出力信号OUTと接続される。なお、別のIGBTのエミッタ端子は、高電圧電源の低電位側(例えば、接地電位(GND))に接続される。IGBTと別のIGBTは相補的にオンオフ制御される。IGBTがオン状態の場合、最低電位VSを印加する端子の電位は400V程度となる。
また、別のIGBTのゲートドライバとして本発明を用いることもできる。アラーム出力回路として実施の形態1にかかる信号伝達装置を用いる場合について説明する。図1において、送信回路11が第2電源24の最低電位VSを印加する端子に接続され、受信回路22が第1電源14の最低電位である例えば接地電位GNDに接続される。この場合、受信回路22は、IGBTの状態を検出する状態検出回路(図示しない)からの信号の入力を受ける。状態検出回路は、IGBTの過電圧、過熱などの異常を検出する。状態検出回路は、送信回路11内部に設けることができる。送信回路11は、状態検出回路から異常を検出した信号を受信すると、上述したように、アクチュエータ10およびセンサ部21を介して受信回路22に信号を伝達する。受信回路22は、アラーム信号を出力信号OUTとして外部に出力する。アラーム出力回路としての信号伝達装置を、ゲートドライバとしての信号伝達装置と同時に用いる場合は、アラーム出力回路の受信回路22は、異常信号を受信した際に、ゲートドライバの送信回路11にIGBTをオフする信号を出力することができる。また、別のIGBTのアラーム出力回路として本発明を用いることもできる。
以上、説明したように、実施の形態1によれば、アクチュエータの圧電素子と圧力センサのセンサ部とをそれぞれ異なる部材に形成して単一のモジュールに集積化することで、同一の第1空間に配置した圧電素子とセンサ部との間に物理的に距離を空けることができる。このため、圧電素子とセンサ部との間の距離(圧電チップと半導体チップ間の距離)でアクチュエータと圧力センサとの間の絶縁耐圧を設定することができる。これにより、チップサイズに律速されず圧電素子とセンサ部との間の距離を設定可能であり、印加電圧の大きさに基づいてアクチュエータと圧力センサとの間の絶縁耐圧を種々設定することができる。したがって、単一のモジュールに集積化され電気的に絶縁された圧電素子と圧力センサとの間で、絶縁性能の高い信号伝達を行うことができる。
また、実施の形態1によれば、圧力センサICチップ、圧電チップ、送信チップおよびパッケージのすべてに一般的な市販品を用いることができるため、既存の組み立て装置や組み立て方法を用いてモジュールを容易に組み立てることができる。また、実施の形態1によれば、圧力を媒体として信号伝達を行うため、例えばフォトカプラを用いる場合よりも寿命が長い。また、実施の形態1によれば、ディジタル信号だけでなく、アナログ信号(交流信号のみ)も伝達可能であるため、応用範囲が広く、様々なモジュールに適用可能である。
(実施の形態2)
次に、実施の形態2にかかる信号伝達装置の構成について説明する。図3は、実施の形態2にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。実施の形態2にかかる信号伝達装置の回路構成は、実施の形態1にかかる信号伝達装置と同様である(図1参照)。実施の形態2にかかる信号伝達装置が実施の形態1にかかる信号伝達装置と異なる点は、パッケージキャップを設けずに、封止樹脂61で送信チップ52を保護している点である。すなわち、パッケージ60は、パッケージ本体41およびベース基板62のみで構成され、パッケージ本体41とベース基板62とに囲まれ気密化された第1空間44のみを有する。
パッケージ60の内部(第1空間44)には、実施の形態1と同様に、圧力センサICチップ51および圧電チップ53が配置されている。送信チップ52は、裏面をベース基板62のおもて面62aに接合され、パッケージ60の外部に配置されている。符号62b,62cは、それぞれベース基板62の裏面およびスルーホールである。封止樹脂61は、送信チップ52およびボンディングワイヤ54を覆う。ベース基板62の幅w21は、例えば、パッケージ本体41の幅w11と同じである(w21=w11)。
以上、説明したように、実施の形態2によれば、パッケージキャップを設けない場合においても、パッケージ本体とベース基板とを接着することで第1空間の気密性を確保することができるため、実施の形態1と同様の効果を得ることができる。
(実施の形態3)
次に、実施の形態3にかかる信号伝達装置の構成について説明する。図4は、実施の形態3にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。実施の形態3にかかる信号伝達装置の回路構成は、実施の形態1にかかる信号伝達装置と同様である(図1参照)。実施の形態3にかかる信号伝達装置が実施の形態2にかかる信号伝達装置と異なる点は、送信チップ52をパッケージ60の内部に集積化している点である。すなわち、アクチュエータ10および圧力センサ20を構成するすべての半導体チップが圧力伝搬領域30である第1空間44に集積化されている。
具体的には、第1空間44には、送信チップ71、圧電チップ72、センサチップ(第1半導体基板)73および受信チップ(第3半導体基板)74が配置されている。センサチップ73とは、圧力センサ20のセンサ部21を構成する半導体チップである。受信チップ74とは、圧力センサ20の受信回路22を構成する半導体チップである。センサチップ73および受信チップ74に代えて、センサ部21および受信回路22を一体的に形成した圧力センサICチップを配置してもよい。
送信チップ71の裏面および圧電チップ72の裏面は、ベース基板62の裏面62bに接合されている。送信チップ71および圧電チップ72は、互いに離して配置されている。送信チップ71のおもて面電極は、ボンディングワイヤ75により圧電チップ72の金属電極13aまたは金属電極13bのいずれか一方に電気的に接続されている。送信チップ71のおもて面電極は、ボンディングワイヤ76によりベース基板62の裏面62bの回路パターン(不図示)を介して圧電チップ72の金属電極13aまたは金属電極13bのいずれか他方と電気的に接続されている。
センサチップ73の裏面および受信チップ74の裏面は、パッケージ本体41の凹部内において、パッケージ本体41の底面41aに接合されている。センサチップ73および受信チップ74は、互いに離して配置されている。センサチップ73および受信チップ74のおもて面電極(不図示)同士は、例えばボンディングワイヤ77により電気的に接続されている。受信チップ74のおもて面電極は、例えばボンディングワイヤ78により第2外部接続用端子47の他端に電気的に接続されている。
以上、説明したように、実施の形態3によれば、パッケージ本体およびベース基板で囲まれた空間(第1空間)にすべての半導体チップを集積化した場合においても、実施の形態1,2と同様の効果を得ることができる。
(実施の形態4)
次に、実施の形態4にかかる信号伝達装置の構成について説明する。図5は、実施の形態4にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。実施の形態4にかかる信号伝達装置の回路構成は、実施の形態1にかかる信号伝達装置と同様である(図1参照)。実施の形態4にかかる信号伝達装置が実施の形態2にかかる信号伝達装置と異なる点は、インタポーザ(中継部材)82を介してパッケージ本体81とベース基板62とを接着してパッケージ80を構成している点である。すなわち、ベース基板62、インタポーザ82および圧力センサICチップ91で囲まれ気密化された空間(第1空間)85が圧力伝搬領域30である。
具体的には、パッケージ本体81は、第1,2外部接続用端子83,84と一体成形された平板状の断面形状の部材である。パッケージ本体81のおもて面81aには、圧力センサICチップ91の裏面91bが接合されている。圧力センサICチップ91の平面形状は、例えばパッケージ本体81と同じ寸法の略矩形状である。すなわち、圧力センサICチップ91の幅w41は、パッケージ本体81の幅w11と同じである(w41=w11)。圧力センサICチップ91には、圧力センサICチップ91を貫通するビア(Through Silicon Via:TSV)92が形成されている。
圧力センサICチップ91のおもて面91aには、インタポーザ82が接合されている。具体的には、例えば、圧力センサICチップ91のTSV92を貫通する端子部材83aと、インタポーザ82のスルーホール86を貫通する端子部材83bと、の端部同士が半田接合される。その後、圧力センサICチップ91とインタポーザ82とは、両部材間の隙間に注入された接着剤で接着される。端部同士を半田接合した端子部材83a,83bで第1外部接続用端子83が構成される。インタポーザ82は、例えば圧力センサICチップ91と同じ寸法の矩形枠状の平面形状を有する。インタポーザ82は、例えば、一般的なパッケージ材料で形成されていてもよい。
ベース基板62は、裏面62bを圧力センサICチップ91側にしてインタポーザ82に接着され、インタポーザ82を挟んで圧力センサICチップ91に対向する。ベース基板62とインタポーザ82とは、例えば、両部材間の隙間に注入された接着剤で接着されている。送信チップ52は、実施の形態2と同様に、ベース基板62のおもて面62aに接合され、パッケージ80の外部において封止樹脂61に覆われている。圧電チップ53は、実施の形態2と同様に、裏面53bがベース基板62の裏面62bに接合され、第1空間85に配置されている。圧力センサICチップ91と圧電チップ53との間の距離d1は、インタポーザ82の厚さt1で種々調整可能である。
第1,2外部接続用端子83,84は、パッケージ本体81を深さ方向に貫通して、パッケージ本体81のおもて面81aおよび裏面81bに略垂直に配置されている。第1外部接続用端子83は、実施の形態1と同様に、複数配置されている。第1外部接続用端子83の一端は、パッケージ本体81の裏面81bからパッケージ80の外部に露出されている。第1外部接続用端子83の一端は、実施の形態1と同様に、一次側の外部回路(不図示)や第1電源14(図1参照)に電気的に接続されている。第1外部接続用端子83の他端は、圧力センサICチップ91のTSV92と、インタポーザ82およびベース基板62のスルーホール86,62cと、を介して実施の形態1と同様にベース基板62のおもて面62aに露出されている。
第1外部接続用端子83の他端は、実施の形態1と同様に、ベース基板62のおもて面62aの回路パターンに電気的に接続されている。第2外部接続用端子84の一端は、パッケージ本体81の裏面81bからパッケージ80の外部に露出されている。第2外部接続用端子84の一端は、実施の形態1と同様に、二次側の外部回路(不図示)や第2電源24(図1参照)に電気的に接続されている。第2外部接続用端子84の他端は、圧力センサICチップ91のTSV92を介してインタポーザ82に達する。第2外部接続用端子84の他端は、圧力センサICチップ91のTSV92を介して第1空間85に露出されていてもよい。第2外部接続用端子84は、圧力センサICチップ91のTSV92を介して圧力センサICチップ91に電気的に接続されている。
以上、説明したように、実施の形態4によれば、実施の形態1〜3と同様の効果を得ることができる。また、実施の形態4によれば、圧力センサICチップのTSVを介して圧力センサICチップと第2外部接続用端子とを電気的に接続することができる。このため、圧力センサICチップと第2外部接続用端子とをワイヤボンディングするためのコストを低減させることができる。また、実施の形態4によれば、TSV内に端子部材を埋め込んだ一般的な市販の圧力センサICチップを用いてモジュールを組み立てることができるため、汎用性が高い。
(実施の形態5)
次に、実施の形態5にかかる信号伝達装置の構成について説明する。図6は、実施の形態5にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。実施の形態5にかかる信号伝達装置の回路構成は、実施の形態1にかかる信号伝達装置と同様である(図1参照)。実施の形態5にかかる信号伝達装置が実施の形態4にかかる信号伝達装置と異なる点は、パッケージ(ケース)およびベース基板を用いずに、インタポーザ82、圧力センサICチップ91および送信チップ101で囲まれた空間(第1空間)102を圧力伝搬領域30としている点である。
具体的には、送信チップ101のおもて面101aは、例えば全面を覆う封止樹脂103で保護されている。封止樹脂103に代えて、保護シートを用いてもよい。送信チップ101のおもて面101aを保護する必要がない場合には、封止樹脂103を設けなくてもよい。送信チップ101の裏面101bには、圧電チップ53の裏面53bが接合されている。また、送信チップ101は、裏面101bを圧力センサICチップ91側にしてインタポーザ82に接合され、インタポーザ82を挟んで圧力センサICチップ91に対向する。圧力センサICチップ91およびインタポーザ82の構成および接合方法は、実施の形態4と同様である。
さらに、インタポーザ82は、送信チップ101の裏面101bに接合されている。具体的には、例えば、インタポーザ82のスルーホール86を貫通する端子部材83bと、送信チップ101のTSV106を貫通する端子部材83cと、の端部同士が半田接合される。その後、圧力センサICチップ91とインタポーザ82とは、両部材間の隙間に注入された接着剤で接着される。端部同士を半田接合した端子部材83a〜83cで第1外部接続用端子83が構成される。このようにインタポーザ82と、圧力センサICチップ91および送信チップ101とを接合することで、第1空間102の気密性が確保される。インタポーザ82、圧力センサICチップ91および送信チップ101の各幅は、第1空間102を形成可能な寸法であればよく、それぞれ異なっていてもよい。
第1空間102には、圧電チップ53が配置されている。圧電チップ53の金属電極13aまたは金属電極13b(図1参照)のいずれか一方は、ボンディングワイヤ55およびシリコン貫通電極104を介して、送信チップ101の送信回路11に電気的に接続されている。シリコン貫通電極104とは、送信チップ101を貫通するビア(TSV)105に埋め込まれた電極である。また、インタポーザ82は上述したように例えば一般的なパッケージ材料で形成され、圧力センサICチップ91および送信チップ101は例えばシリコン(Si)チップ(半導体チップ)である。このため、パッケージおよびベース基板を用いていなくても、組立て中や実使用時に内部圧力や外部圧力により歪まない程度の強度が得られる。
第1外部接続用端子83は、圧力センサICチップ91のTSV92、インタポーザ82のスルーホール86および送信チップ101のTSV106を貫通する。第1外部接続用端子83は、実施の形態1と同様に、複数配置されている。第1外部接続用端子83の一端は、圧力センサICチップ91の裏面91bに露出されている。第1外部接続用端子83の一端は、実施の形態1と同様に、一次側の外部回路(不図示)や第1電源14(図1参照)に電気的に接続されている。第1外部接続用端子83の他端は、送信チップ101のおもて面101aに露出され、送信回路11に電気的に接続されている。
第2外部接続用端子84は、圧力センサICチップ91のTSV92を貫通する。第2外部接続用端子84の一端は、圧力センサICチップ91の裏面91bに露出されている。第2外部接続用端子84の一端は、実施の形態1と同様に、二次側の外部回路(不図示)や第2電源24(図1参照)に電気的に接続されている。第2外部接続用端子84の他端は、圧力センサICチップ91のおもて面91aに達する。第2外部接続用端子84の他端は、インタポーザ82に接していてもよいし、第1空間102に露出されていてもよい。第2外部接続用端子84の他端は、圧力センサICチップ91のおもて面91aの受信回路22に電気的に接続されている。
以上、説明したように、実施の形態5によれば、インタポーザおよび半導体チップのみで第1空間を形成した場合においても、実施の形態1〜4と同様の効果を得ることができる。また、実施の形態5によれば、構成部材を少なく簡略化された構成とすることができ、モジュールのコストを低減させることができる。
(実施の形態6)
次に、実施の形態6にかかる信号伝達装置の構成について説明する。図7は、実施の形態6にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。実施の形態6にかかる信号伝達装置の回路構成は、実施の形態1にかかる信号伝達装置と同様である(図1参照)。実施の形態6にかかる信号伝達装置が実施の形態5にかかる信号伝達装置と異なる点は、圧電チップ53のおもて面53aに硬度の高い材料からなる部材(以下、高硬度部材)107を接着し、圧力センサICチップ91のセンサ部21(図1参照)との間の距離を狭めている点である。高硬度部材107を設けることで、圧力センサICチップ91のセンサ部21との間の距離d2を狭めて、圧力センサ20のセンサ部21の感度を向上させている。
具体的には、高硬度部材107は、圧電チップ53の駆動部に接着されている。高硬度部材107は、圧力伝搬領域30を構成する絶縁媒体であり、圧力伝搬領域30を構成する他の絶縁媒体(気体、液状およびゲル)よりも硬度の高い材料からなる。具体的には、高硬度部材107は、例えば、アルミニウム(Al)やセラミックで形成されていてもよく、好ましくは電導性を有していないセラミックであることがよい。また、高硬度部材107は、圧力伝搬領域30の他の絶縁媒体を介して、圧力センサICチップ91に形成された少なくともセンサ部21に対向する。
高硬度部材107の平面形状は、圧力センサICチップ91のセンサ部21の平面形状と同じ(すなわち略円形状)とし、センサ部21全体に対向することが好ましい。具体的には、高硬度部材107は、例えば、圧力センサICチップ91に近づくほど幅w51を狭くした円錐台状をなしていてもよい。高硬度部材107と圧力センサICチップ91とは接触していてもよいが(すなわちd2=0)、圧力伝搬領域30での絶縁耐圧を確保するために離して配置することが好ましい(d2>0)。
実施の形態6を実施の形態1〜4に適用してもよい。
以上、説明したように、実施の形態6によれば、実施の形態1〜5と同様の効果を得ることができる。また、実施の形態6によれば、圧電チップに高硬度部材を接着することで、圧力センサのセンサ部との距離を狭めることができるため、圧力センサのセンサ部の感度を向上させることができる。
(実施の形態7)
次に、実施の形態7にかかる信号伝達装置の構成について説明する。図8は、実施の形態7にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。実施の形態7にかかる信号伝達装置の回路構成は、実施の形態1にかかる信号伝達装置と同様である(図1参照)。実施の形態7にかかる信号伝達装置が実施の形態1にかかる信号伝達装置と異なる点は、アクチュエータ10と圧力センサ20との配置を入れ替えた点である。すなわち、送信チップ52および圧電チップ53がパッケージ本体41の底面41aに配置され、センサチップ141および受信チップ142がベース基板42に配置されている。
具体的には、パッケージ本体41の凹部内において、パッケージ本体41の底面41aに、送信チップ52の裏面が接合されている。送信チップ52のおもて面電極はボンディングワイヤ147により、第2外部接続用端子47の一端に電気的に接続されている。また、パッケージ本体41の凹部内において、パッケージ本体41の底面41aには凹部143が設けられ、当該凹部143を塞ぐように、パッケージ本体41の底面41aに圧電チップ53の裏面が接合されている。送信チップ52および圧電チップ53は、互いに離して配置されている。
パッケージ本体41の底面41aの凹部143により、パッケージ本体41の底面41aと圧電チップ53との間に隙間143aが生じていることで、圧電チップ53の変形や振動が抑制されない。このため、圧電チップ53の圧力変換効率が低下することを抑制することができる。パッケージ本体41の底面41aの凹部143に代えて、圧電チップ53の変位や振動を吸収する導電性緩衝材(不図示)を配置してもよい。圧電チップ53の金属電極13aまたは金属電極13b(図1参照)のいずれか一方は、ボンディングワイヤ146により、送信チップ52に電気的に接続されている。圧電チップ53の金属電極13aまたは金属電極13bの他方は、パッケージ本体41の底面41aの回路パターンに電気的に接続されている。圧電チップ53の金属電極13aまたは金属電極13bの他方は、図示しないボンディングワイヤにより底面41aの回路パターンと送信チップ52のおもて面電極とを接続することにより、送信チップ52に電気的に接続されている。
受信チップ142の裏面は、ベース基板42のおもて面42aに接合されている。受信チップ142のおもて面電極は、ボンディングワイヤ144により、ベース基板42のおもて面42aの回路パターンに電気的に接続されている。センサチップ141の裏面は、ベース基板42の裏面42bに接合されている。センサチップ141のおもて面電極は、ボンディングワイヤ145により、ベース基板42の裏面42bの回路パターンに電気的に接続されている。センサチップ141は、実施の形態1と同様に、圧電チップ53と同一の第1空間44において、圧電チップ53と物理的に距離d1を空けて配置されている。
パッケージ40の構成は、実施の形態1と同様である。実施の形態7においては、第2外部接続用端子47が一次側の端子となり、第1外部接続用端子46が二次側の端子となる。すなわち、第2外部接続用端子47の一端に一次側の外部回路(不図示)が電気的に接続され、一次側の外部回路から第2外部接続用端子47に各種信号が入力される。第1外部接続用端子46の一端に二次側の外部回路(不図示)が電気的に接続され、第1外部接続用端子46から二次側の外部回路に出力信号OUTが出力される。
以上、説明したように、実施の形態7によれば、圧電チップおよびセンサチップの配置を入れ替えたとしても、実施の形態1〜6と同様の効果を得ることができる。すなわち、圧力センサICチップのセンサ部と、圧電チップの駆動部と、が絶縁媒体を介して対向していればよく、同一の気密な空間において圧電チップとセンサチップとの配置は種々変更可能である。
(実施の形態8)
次に、実施の形態8にかかる信号伝達装置の構成について説明する。図9は、実施の形態8にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。実施の形態8にかかる信号伝達装置の回路構成は、実施の形態1にかかる信号伝達装置と同様である(図1参照)。実施の形態8にかかる信号伝達装置が実施の形態3にかかる信号伝達装置と異なる点は、アクチュエータ10と圧力センサ20との配置を入れ替えた点である。すなわち、送信チップ71および圧電チップ72がパッケージ本体41の底面41aに配置され、センサチップ73および受信チップ74がベース基板62に配置されている。
具体的には、パッケージ本体41の凹部内において、パッケージ本体41の底面41aには、送信チップ71の裏面が接合されている。送信チップ71のおもて面電極は、ボンディングワイヤ151により、第2外部接続用端子47の一端に電気的に接続されている。また、パッケージ本体41の凹部内において、パッケージ本体41の底面41aには、導電性緩衝材152を介して圧電チップ72の裏面が接合されている。送信チップ71および圧電チップ72は、互いに離して配置されている。
導電性緩衝材152により圧電チップ72の変位や振動が吸収されることで、圧電チップ72の変形や振動が抑制されない。このため、圧電チップ72の圧力変換効率が低下することを抑制することができる。導電性緩衝材152に代えて、実施の形態7のように、パッケージ本体41の底面41aに凹部を設けてもよい。圧電チップ72の金属電極13aまたは金属電極13bのいずれか一方は、ボンディングワイヤ75により、送信チップ71に電気的に接続されている。圧電チップ72の金属電極13aまたは金属電極13b(図1参照)の他方は、導電性緩衝材152を介してパッケージ本体41の底面41aの回路パターンに電気的に接続されている。圧電チップ72の金属電極13aまたは金属電極13bの他方は、図示しないボンディングワイヤにより底面41aの回路パターンと送信チップ71のおもて面電極とを接続することにより、送信チップ71に電気的に接続されている。
センサチップ73の裏面および受信チップ74の裏面は、ベース基板62の裏面62bに接合されている。センサチップ73および受信チップ74は、互いに離して配置されている。センサチップ73および受信チップ74のおもて面電極(不図示)同士は、実施の形態3と同様に、例えばボンディングワイヤ77により電気的に接続されている。受信チップ74のおもて面電極は、ボンディングワイヤ153により、スルーホールを介してベース基板62のおもて面62aの回路パターンに電気的に接続され、ベース基板62のおもて面62aの回路パターンを介して第1外部接続用端子46に電気的に接続されている。センサチップ73は、実施の形態3と同様に、圧電チップ72と同一の第1空間44において、圧電チップ72と物理的に距離d1を空けて配置されている。
パッケージ60の構成は、実施の形態1と同様である。実施の形態8においては、第2外部接続用端子47が一次側の端子となり、第1外部接続用端子46が二次側の端子となる。すなわち、第2外部接続用端子47の一端に一次側の外部回路(不図示)が電気的に接続され、一次側の外部回路から第2外部接続用端子47に各種信号が入力される。第1外部接続用端子46の一端に二次側の外部回路(不図示)が電気的に接続され、第1外部接続用端子46から二次側の外部回路に出力信号OUTが出力される。
以上、説明したように、実施の形態8によれば、圧電チップおよびセンサチップの配置を入れ替えたとしても、実施の形態1〜7と同様の効果を得ることができる。
(実施の形態9)
次に、実施の形態9にかかる信号伝達装置の構成について説明する。図10は、実施の形態9にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。実施の形態9にかかる信号伝達装置の回路構成は、実施の形態1にかかる信号伝達装置と同様である(図1参照)。実施の形態9にかかる信号伝達装置が実施の形態3にかかる信号伝達装置と異なる点は、ベース基板62の、圧電チップ72と対向する部分に開口部161を有する点である。
ベース基板62の開口部161を塞ぐように、ベース基板62の裏面62bに圧電チップ72が接合されている。このため、第1空間44の気密性は保たれている。ベース基板62と圧電チップ72との接合によって第1空間44の気密性を確保するために、実施の形態1と同様にパッケージキャップ43を設け、パッケージ本体41とパッケージキャップ43とを接合することもできる。ベース基板62の開口部161により、ベース基板62と圧電チップ72とが接触しない部分が生じていることで、圧電チップ72の変形や振動が抑制されない。このため、圧電チップ72の圧力変換効率が低下することを抑制することができる。
以上、説明したように、実施の形態9によれば、実施の形態1〜8と同様の効果を得ることができる。
(実施の形態10)
次に、実施の形態10にかかる信号伝達装置の構成について説明する。図11は、実施の形態10にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。実施の形態10にかかる信号伝達装置の回路構成は、実施の形態1にかかる信号伝達装置と同様である(図1参照)。実施の形態10にかかる信号伝達装置が実施の形態4にかかる信号伝達装置と異なる点は、次の2点である。
1つ目の相違点は、インタポーザ171を介して2枚のベース基板(以下、第1,2ベース基板とする)62,172を接着してパッケージ170を構成している点である。第1,2ベース基板62,172およびインタポーザ171で囲まれ気密化された空間(第1空間)173が圧力伝搬領域30である。インタポーザ171の構成は、実施の形態5と同様である。第1空間173において、第1ベース基板62の裏面62bと第2ベース基板172のおもて面172aとが対向する。第1ベース基板62には、実施の形態4と同様に、第1ベース基板62を挟んで対向するように送信チップ52および圧電チップ53が接合されている。圧電チップ53が第1空間173に配置される。送信チップ52は、パッケージ170の外部において封止樹脂61に覆われている。
第2ベース基板172には、第2ベース基板172を挟んで対向するようにセンサチップ181および受信チップ182が接合されている。センサチップ181は、実施の形態5と同様に、圧電チップ53と同一の第1空間173において、圧電チップ53と物理的に距離d1を空けて配置されている。センサチップ181の裏面は、第2ベース基板172のおもて面172aに接合されている。センサチップ181のおもて面電極(不図示)は、ボンディングワイヤ183により、第2ベース基板172のおもて面172aの回路パターンに電気的に接続されている。
受信チップ182の裏面は、第2ベース基板172の裏面172bに接合されている。受信チップ182のおもて面電極(不図示)は、ボンディングワイヤ184により、第2ベース基板172の裏面172bの回路パターンに電気的に接続されている。受信チップ182は、パッケージ170の外部において封止樹脂174に覆われている。第2ベース基板172のおもて面172aおよび裏面172bの回路パターン同士は図示省略するスルーホールを介して電気的に接続されることで、センサチップ181と受信チップ182とが電気的に接続されている。
2つ目の相違点は、第1ベース基板62と圧電チップ53との間に、金属や有機材料などを用いた導電性スペーサ175が配置されている点である。圧電チップ53の裏面の電極は、導電性スペーサ175を介して第1ベース基板62の裏面62bの回路パターンに電気的に接合されている。導電性スペーサ175により、第1ベース基板62と圧電チップ53との間に隙間175aが生じていることで、圧電チップ53の変形や振動が抑制されない。このため、圧電チップ53の圧力変換効率が低下することを抑制することができる。
第1外部接続用端子176は、インタポーザ171を深さ方向に貫通している。第1外部接続用端子176は、実施の形態1と同様に、複数配置されている。第1外部接続用端子176の一端は、第2ベース基板172のスルーホール172cを介して第2ベース基板172の裏面172bに露出されている。第1外部接続用端子176の一端は、実施の形態4と同様に、一次側の外部回路(不図示)や第1電源14(図1参照)に電気的に接続されている。第1外部接続用端子176の他端は、第1ベース基板62のスルーホール62cを介して実施の形態1と同様に第1ベース基板62のおもて面62aに露出されている。
第1外部接続用端子176の他端は、実施の形態1と同様に、第1ベース基板62のおもて面62aの回路パターンに電気的に接続されている。第2外部接続用端子177は、第2ベース基板172に接合されている。第2外部接続用端子177は、実施の形態1と同様に、複数配置されている。第2外部接続用端子177の一端は、実施の形態1と同様に、二次側の外部回路(不図示)や第2電源24(図1参照)に電気的に接続されている。第2外部接続用端子177の他端は、第2ベース基板172の裏面172bの回路パターンを介して受信チップ182に電気的に接続されている。
実施の形態10を実施の形態2〜6に適用し、圧電チップと、当該圧電チップを接合した部材との間に導電性スペーサにより隙間を生じさせることで、圧電チップの変形や振動が抑制されない構成としてもよい。実施の形態10を実施の形態7〜9に適用し、パッケージ本体の底面の凹部や、導電性緩衝材、ベース基板の開口部に代えて、導電性スペーサを配置してもよい。
以上、説明したように、実施の形態10によれば、インタポーザおよびベース基板のみで第1空間を形成した場合においても、実施の形態1〜9と同様の効果を得ることができる。
(実施の形態11)
次に、実施の形態11として、本発明にかかる信号伝達装置の動作について、アナログ出力方式を適用した場合を例に図1,2,12,13を参照しながら説明する。図12は、アナログ出力方式を適用した場合の動作波形を示すタイムチャートである。図12の横軸は時間であり、縦軸はアナログ電気信号の電圧値(振幅)である。図13は、アナログ出力方式を適用した場合の出力特性および受信回路の構成を示す説明図である。図13(a)にはアナログ電気信号の直線性(リニアリティ)を示し、図13(b)にはアナログ出力方式を適用した場合の受信回路22のブロック図を示す。図13(a)の横軸はセンサ部21による圧力31の検出範囲(圧力検出範囲)であり、縦軸は出力信号OUTの電圧値(出力電圧)である(図15においても同様)。
まず、図12,13(b)に示すように、一次側の外部回路(不図示)からアナログの入力信号INが入力され、アクチュエータ10の送信回路11に伝達される。送信回路11は、接地電位GNDを基準とし、第1電源14の電源電位VCCを最高電位として動作(オン)し、入力信号INの入力を受けて第1アナログ電気信号111を出力する。第1アナログ電気信号111は、連続して電圧値(振幅)が増加または減少する直線状の特性を有する。具体的には、第1アナログ電気信号111は、入力信号INの電圧値に応じて所定角度で直線的(リニア)に増加して最大値を示し、その後、所定角度で直線的に減少して最小値を示す三角波電気信号(交流信号)である。第1アナログ電気信号111の最大値は例えば第1電源14(図1参照)の電源電位VCCであり、最小値は第1電源14の最低電位(接地電位GND)であってもよい。
アクチュエータ10の圧電素子12は、第1アナログ電気信号111を受けて駆動(変形または振動)し、圧力伝搬領域30に第1アナログ電気信号111の電圧値に応じた圧力31を生じさせる。この圧力31は、圧力伝搬領域30の絶縁媒体を介して圧力センサ20のセンサ部21に伝搬される。センサ部21は、圧力伝搬領域30に生じた圧力31を検出し、当該圧力31の増減に比例して連続して電圧値が増加または減少する第2アナログ電気信号112に変換する。第2アナログ電気信号112は、送信回路11(図1参照)による第1アナログ電気信号111と同様の直線状の特性(不図示)を有する。
圧力センサ20の受信回路22は、例えば増幅器25を備え、第2電源24(図1参照)の最低電位VSを基準とし、第2電源24の電源電位VBを最高電位として動作(オン)する。増幅器25は、センサ部21により変換された第2アナログ電気信号112を所定の増幅率で増幅し、第2アナログ電気信号112と同様の直線状の特性を有する第3アナログ電気信号113を出力する(図13(a),13(b)参照)。すなわち、第3アナログ電気信号113は、送信回路11による第1アナログ電気信号111と同様の直線状の特性を有する交流信号となる。第3アナログ電気信号113の最大値は例えば第2電源24の電源電位VBであり、最小値は第2電源24の最低電位VSであってもよい。第3アナログ電気信号113は、アナログの出力信号OUTとして第2外部接続用端子47(図2参照)から二次側の外部回路(不図示)に出力される。
このように、アクチュエータ10の圧電素子12と圧力センサ20のセンサ部21との間で圧力31を伝搬することで、一次側から二次側への信号伝達が行われる。この圧力31による信号伝達において、アクチュエータ10の圧電素子12と圧力センサ20のセンサ部21との間は圧力伝搬領域30において物理的に距離d1があり(図2等を参照)、高い絶縁耐圧で直流(DC:Direct Current)的に絶縁されている。すなわち、入力信号INと出力信号OUTとの間が直流的に絶縁される。このため、アクチュエータ10の圧電素子12から圧力センサ20のセンサ部21へ絶縁性能の高い信号伝達が可能となる。
このような圧力31による信号伝達は、アナログ出力方式だけでなく、ディジタル出力方式にも適用可能である。ディジタル出力方式を適用した場合における本発明にかかる信号伝達装置の動作について図1,14,15を参照しながら説明する。図14は、ディジタル出力方式を適用した場合の動作波形を示すタイムチャートである。図14の横軸は時間であり、縦軸はディジタル電気信号の電圧値(振幅)である(図16においても同様)。図15は、ディジタル出力方式を適用した場合の出力特性および受信回路の構成を示す説明図である。図15(a)にはディジタル電気信号の非直線性を示し、図15(b)にはディジタル出力方式の場合のブロック図を示す。
まず、図14,15(b)に示すように、一次側の外部回路(不図示)からディジタルの入力信号INが入力され、アクチュエータ10の送信回路11に伝達される。送信回路11は、接地電位GNDを基準とし、第1電源14の電源電位VCCを最高電位として動作し、入力信号INの入力を受けて、所定の変調方式に基づいた振幅や周波数、位相で第1ディジタル電気信号121を出力する。第1ディジタル電気信号121は、High(H)レベルの入力信号INの入力を受けたときに最大値を示し、Low(L)レベルの入力信号INの入力を受けたときに最小値を示す2値であらわされる非直線状の特性を有する例えば矩形波電気信号である。第1ディジタル電気信号121の最大値および最小値は、例えばアナログ出力方式と同様である。
アクチュエータ10の圧電素子12(図1参照)は、第1ディジタル電気信号121が最大値を示すときに駆動(オン)し、圧力伝搬領域30に第1ディジタル電気信号121の電圧値に応じた圧力31を生じさせる。圧電素子12は、第1ディジタル電気信号121が最小値を示すときにオフ状態となる。圧力伝搬領域30に生じた圧力31は、圧力伝搬領域30の絶縁媒体を介して圧力センサ20のセンサ部21に伝搬される。センサ部21は、圧力伝搬領域30に生じた圧力31を検出し、当該圧力31の増減に応じて離散的に増減する第2ディジタル電気信号122に変換する。
圧力センサ20の受信回路22は、例えば増幅器25および比較器(コンパレータ)26を備え、第2電源24の最低電位VSを基準とし、第2電源24の電源電位VBを最高電位として動作する。増幅器25は、センサ部21により変換された第2ディジタル電気信号122を所定の増幅率で増幅し、直線状の特性を有する第3ディジタル電気信号123を出力する。比較器26は、変調方式に対応した復調方式により第3ディジタル電気信号123を復調し、非直線状の特性を有する第4ディジタル電気信号124を出力する。
具体的には、比較器26は、増幅器25により増幅された第3ディジタル電気信号123の電圧値と、基準電圧回路27の基準電圧と、を比較する。基準電圧回路27の基準電圧は、圧力伝搬領域30に生じた圧力31を2値化するための基準となる圧力(以下、基準圧力とする)120に対応するセンサ部21の出力電圧(第2ディジタル電気信号122の電圧値)に基づく値である。比較器26の出力電圧(すなわち第4ディジタル電気信号124)は、第3ディジタル電気信号123の電圧値が基準電圧以上である場合に電源電圧(第2電源24の電源電位VB)となり、基準電圧未満である場合に例えば第2電源24の最低電位VSとなる(図15(a)参照)。
すなわち、比較器26により出力された第4ディジタル電気信号124は、送信回路11による第1ディジタル電気信号121と同様に非直線状の特性を有し、最大値および最小値の2値であらわされる矩形波電気信号となる(図14)。第4ディジタル電気信号124の最大値および最小値は、例えばアナログ出力方式と同様である。第4ディジタル電気信号124は、ディジタルの出力信号OUTとして第2外部接続用端子47から二次側の外部回路(不図示)に出力される。
ディジタル出力方式においては、例えば、インバータを構成するMOSFETやIGBTなどのスイッチング素子のゲート駆動用ドライバとして有用である。
また、ディジタル出力方式を適用して疑似的に直線性を示す出力信号OUTを出力することも可能である。図16は、ディジタル出力方式を適用した場合の動作波形の別の一例を示すタイムチャートである。図16に示すように、一次側の外部回路(不図示)から所定時間T内にHighレベルおよびLowレベルのディジタルの入力信号INが交互に繰り返し入力され、アクチュエータ10の送信回路11に伝達される。すなわち、送信回路11には、所定時間T内に複数の周期分のディジタルの入力信号INが伝達される。このとき、Lowレベルの入力信号INの入力間隔(時間差)を段階的に短くまたは長く、もしくは段階的に長くした後に短くするなどしてHighレベルの入力信号INの時間幅w1を設定する。
送信回路11は、所定時間T内に複数の周期(例えば時間軸の早い方向から符号131a〜131fとする)分の非直線状の特性を有する第1ディジタル電気信号131を出力する。第1ディジタル電気信号131の各周期131a〜131fの最大値および最小値は、例えば上述したディジタル出力方式と同様である。各周期131a〜131fの時間幅(振幅)w1のデータ値は、Lowレベルの入力信号INの入力間隔に基づいて割り付けられる。例えば、入力信号INの各周期131a〜131fの時間幅w1のデータ値を時間軸の早い方から順に記号0,3,2,1,1,0とする。入力信号INの周期131a〜131fの時間幅w1の大小関係は、例えば記号0<記号1<記号2<記号3である。
そして、上述したディジタル出力方式を適用した場合と同様に、第1ディジタル電気信号131によりアクチュエータ10の圧電素子12が駆動し、圧力センサ20のセンサ部21に圧力31が伝搬される。センサ部21により圧力31が第2アナログ電気信号(不図示)に変換され、受信回路22の増幅器25により第2アナログ電気信号が増幅され、第3アナログ電気信号133として出力される。受信回路22は、比較器26を備えない。すなわち、受信回路22の構成は、アナログ出力方式を適用した場合と同様である(図13(b)参照)。第3アナログ電気信号133は、送信回路11による第1ディジタル電気信号131と同様の非直線状の特性を有する矩形波電気信号となる。
すなわち、第3アナログ電気信号133は、所定時間T内に複数の周期(例えば時間軸の早い方向から符号133a〜133fとする)が連続する矩形波電気信号となる。第3アナログ電気信号133は、出力信号OUTとして第2外部接続用端子47から二次側の外部回路(不図示)に出力される。第3アナログ電気信号133の各周期133a〜133fの時間幅w1のデータ値は、それぞれ送信回路11による第1ディジタル電気信号131の各周期131a〜131fと同様となる。第3アナログ電気信号133は、入力信号INの各周期131a〜131fの時間幅w1のデータ値の大小に基づいて、複数の周期(133a〜133f)分を1周期分として疑似的に直線状の特性を有する連続した1周期分のアナログの出力信号OUTとして出力される。
以上、説明したように、実施の形態11によれば、実施の形態1〜10と同様の効果を得ることができる。
(実施の形態12)
次に、実施の形態12にかかる信号伝達装置の構成について説明する。図20は、実施の形態12にかかる信号伝達装置の回路構成を示す回路図である。実施の形態12にかかる信号伝達装置が実施の形態1にかかる信号伝達装置と異なる点は、圧電素子に代えてソレノイドバルブ302を備えたアクチュエータ10を用いる点である。すなわち、図20に示すように、アクチュエータ10は、送信回路301およびソレノイドバルブ302を備える。第1電源14は、送信回路301の駆動に必要な電圧と、ソレノイドバルブ302の駆動に必要な電流と、を供給可能な程度の電力を有する。圧力センサ20の構成および動作は、実施の形態1と同様である。
具体的には、送信回路301は、実施の形態1と同様に、第1電源14の最低電位である例えば接地電位GNDを基準とし、第1電源14の電源電位VCCを最高電位として動作する集積回路である。送信回路301は、入力信号INの入力を受けて電気信号を送信し、ソレノイドバルブ302に電流を供給し駆動させる例えば開ループの電流制御回路である。具体的には、送信回路301は、ソレノイドバルブ302のソレノイドコイル(巻き線状のコイルからなる固定部)に電流を供給し、ソレノイドコイルの励磁電流に応じた磁界を発生させて、ソレノイドコイルの内側(巻き線の内側)に可動可能に配置されたプランジャ(磁性体からなる可動部)を一方向に直線的に可動させる。
送信回路301は、ソレノイドバルブ302への電流供給時に、ソレノイドコイルの内側にプランジャを引き込んで(プルして)ソレノイドバルブ302を閉じる、または、ソレノイドコイルの内側からプランジャを押し出して(プッシュして)ソレノイドバルブ302を開く、のいずれかの動作でソレノイドバルブ302を駆動させる。また、送信回路301は、発熱によってソレノイドバルブ302が故障に至るような過剰な電流がソレノイドコイルに流れないように、ソレノイドバルブ302に供給される電流量を制御する機能を備えていてもよい。
送信回路301は、ソレノイドコイルの内側にプランジャを引き込むときにソレノイドコイルに流れる電流(引き込み電流)が最大となるように、ソレノイドバルブ302に供給される電流量を制御する。かつ、送信回路301は、ソレノイドコイルの内側にプランジャを完全に引き込んだ状態で保持(ホールド)するときにソレノイドコイルに流れる電流(保持電流)の量が引き込み電流よりも少なくなるように、ソレノイドバルブ302に供給される電流量を制御する。また、送信回路301は、ソレノイドコイルに流れる電流を制御してソレノイドコイルのインダクタンスを制御するフィードバック機能を備えた閉ループの電流制御(例えばPWM制御)回路であってもよい。
ソレノイドバルブ302は、電磁石の原理を利用してソレノイドコイルに生じた電気的エネルギー(電流)を機械的な運動エネルギーに変換してプランジャを直線可動させる電磁弁である。ソレノイドコイルの一端は送信回路301に接続され、他端は第1電源14の最低電位に接続されている。送信回路301から電流が供給されたときにプランジャに作用する力は、ソレノイドコイルの内側にプランジャを引き込む方向、または、ソレノイドコイルの内側からプランジャを押し出す方向のいずれか一方向である。その反対方向へプランジャを可動する手段(すなわち送信回路301による電流供給を停止し、ソレノイドコイルによる磁界が消失したときにプランジャを可動する手段)は、例えば、プランジャの自重や、バネなどの弾性体による作用力である。
具体的には、送信回路301からの電流供給時に、ソレノイドバルブ302が閉じる、すなわちプランジャがソレノイドコイルの内側に引き込まれる方向に可動するとする。この場合、送信回路301からソレノイドバルブ302への電流供給を停止したときに、ソレノイドバルブ302のプランジャをソレノイドコイルの内側から所定の突出した位置まで移動させる手段は、例えば、プランジャの自由落下である。ソレノイドバルブ302のプランジャがソレノイドコイルの内側(上方)から所定の突出した位置(下方)まで自由落下することで生じる位置変化が圧力31に変換される。圧力31の大きさは、プランジャの自重で調整可能である。
一方、送信回路301からソレノイドバルブ302への電流供給を停止したときに、ソレノイドバルブ302のプランジャがソレノイドコイルの内側に引き込む方向に可動するとする。この場合、例えば、プランジャに取り付けたバネなどの弾性体が伸びた状態から自然長に戻るときに生じる力により、ソレノイドコイルの内側にプランジャを引き込む。送信回路301からソレノイドバルブ302への電流供給時には、ソレノイドバルブ302のプランジャがバネなどの弾性体の力に打ち勝ってソレノイドコイルの内側から押し出す方向に可動するようにソレノイドバルブ302のトルク(押し出す、または引き込む力)をソレノイドコイルに流れる電流量、ソレノイドコイルの巻き数等によって設定する。
図21は、図20に適用されるパッケージの構成を示す断面図である。パッケージ40の内部において、ベース基板42の裏面42bには、圧電チップに代えて、ソレノイドバルブ302のソレノイドコイル311が形成された絶縁基板が接着されている。ソレノイドコイル311の一端は、ボンディングワイヤ55によりベース基板42の裏面42bの回路パターンに接続され、当該回路パターンを介して送信チップ52に電気的に接続されている。ソレノイドコイル311の他端は、ベース基板42の裏面42bの回路パターンを介して第1電源14の最低電位に接続されている。ソレノイドバルブ302は、圧力伝搬領域30を構成する絶縁媒体を介して圧力センサICチップ51と対向する。なお、ベース基板42のおもて面42aの回路パターンと裏面42bの回路パターンとは、図示しないビアホールに充填された導電物質により、適宜電気的に接続されている。
ソレノイドコイル311の内側には、ソレノイドバルブ302のプランジャ312が可動可能な状態で配置されている。ソレノイドバルブ302は、送信回路301からの電流供給時にソレノイドコイル311の内側にプランジャ312を引き込むプル型であってもよいし、送信回路301からの電流供給時にソレノイドコイル311の内側からプランジャ312を押し出すプッシュ型であってもよい。プランジャ312は、ソレノイドコイル311の内側に引き込まれる例えば略円柱状のプランジャ本体312aで構成される。図21には、プランジャ本体312aの、ソレノイドコイル311内に位置する部分を点線で示し、ソレノイドコイル311の外側に位置する部分をハッチングで示す(図22〜26においても同様)。
プランジャ312の、圧力センサICチップ51側の端部312bは、例えば、プランジャ本体312aの軸方向と直交し、かつプランジャ本体312aの底面よりも面積の広い平坦面を有する平板状であってもよい。プランジャ312は、ソレノイドコイル311の内側に引き込まれた状態で、圧力センサICチップ51側の端部312bが後述する可動シート313に点接触または面接触する。図21には、可動シート313を太線で示す(図21〜24においても同様)。プランジャ312は、ソレノイドコイル311の内側から押し出されたときに、可動シート313に圧力センサICチップ51側に押し出す方向の力を加え、可動シート313を介して圧力伝搬領域30に圧力31を生じさせる。
可動シート313は、ソレノイドバルブ302と圧力センサICチップ51との間に配置されている。可動シート313は、パッケージ40の第1空間44を、圧力センサICチップ51側の空間314aと、ソレノイドバルブ302側の空間314bと、に分離する。可動シート313により分離された第1空間44の、圧力センサICチップ51側の空間314aが圧力伝搬領域30である。可動シート313は、プランジャ312との接触箇所を頂上とする凸状に圧力センサICチップ51側に湾曲する弾性率を有する例えば略矩形状の平面形状の樹脂フィルムやゴムシート等である。可動シート313は、圧力伝搬領域30の気密性が確保されるように例えばパッケージ本体41の側壁41bに接着されている。可動シート313は、ソレノイドコイル311の内側から押し出されたプランジャ312から加えられた力によって、パッケージ本体41の側壁41bとの接着箇所を支点として圧力センサICチップ51側に可動する。
以上、説明したように、実施の形態12によれば、圧電素子に代えてソレノイドバルブを配置した場合においても、ソレノイドバルブによって圧力伝搬領域に圧力を生じさせることができるため、実施の形態1〜11と同様の効果を得ることができる。
(実施の形態13)
次に、実施の形態13にかかる信号伝達装置の構成について説明する。図22は、実施の形態13にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。実施の形態13にかかる信号伝達装置の回路構成は、実施の形態12にかかる信号伝達装置と同様である(図20参照)。実施の形態13にかかる信号伝達装置は、実施の形態2にかかる信号伝達装置(図3参照)に実施の形態12を適用したものである。すなわち、パッケージキャップを設けない構成のパッケージ60の第1空間44に、圧電チップに代えて、実施の形態12と同様にソレノイドバルブ302および可動シート313が配置されている。
以上、説明したように、実施の形態13によれば、実施の形態1〜12と同様の効果を得ることができる。
(実施の形態14)
次に、実施の形態14にかかる信号伝達装置の構成について説明する。図23は、実施の形態14にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。実施の形態14にかかる信号伝達装置の回路構成は、実施の形態12にかかる信号伝達装置と同様である(図20参照)。実施の形態14にかかる信号伝達装置は、実施の形態4にかかる信号伝達装置(図5参照)に実施の形態12を適用したものである。すなわち、インタポーザ82を介してパッケージ本体81とベース基板62とを接着してなるパッケージ80の第1空間85に、圧電チップに代えて、実施の形態12と同様にソレノイドバルブ302および可動シート313が配置されている。可動シート313は、圧力伝搬領域30の気密性が確保されるように例えばインタポーザ82に接着されている。
以上、説明したように、実施の形態14によれば、実施の形態1〜13と同様の効果を得ることができる。
(実施の形態15)
次に、実施の形態15にかかる信号伝達装置の構成について説明する。図24は、実施の形態15にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。実施の形態15にかかる信号伝達装置の回路構成は、実施の形態12にかかる信号伝達装置と同様である(図20参照)。実施の形態15にかかる信号伝達装置は、実施の形態5にかかる信号伝達装置(図6参照)に実施の形態12を適用したものである。すなわち、圧力センサICチップ91と送信チップ101との間に配置したインタポーザ82のみで構成されたパッケージ80の第1空間102に、圧電チップに代えて、実施の形態12と同様にソレノイドバルブ302および可動シート313が配置されている。可動シート313は、圧力伝搬領域30の気密性が確保されるように例えばインタポーザ82に接着されている。
以上、説明したように、実施の形態15によれば、実施の形態1〜14と同様の効果を得ることができる。
(実施の形態16)
次に、実施の形態16にかかる信号伝達装置の構成について説明する。図25は、実施の形態16にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。実施の形態16にかかる信号伝達装置の回路構成は、実施の形態12にかかる信号伝達装置と同様である(図20参照)。実施の形態16にかかる信号伝達装置が実施の形態15にかかる信号伝達装置と異なる点は、可動シートに代えて、ソレノイドバルブ302のプランジャ312によって圧力伝搬領域30の気密性を確保している点である。
具体的には、プランジャ312の、圧力センサICチップ51側の端部312cは、プランジャ本体312aの軸方向と直交し、かつプランジャ本体312aの底面よりも面積の広い平坦面を有する平板状であり、インタポーザ82の内壁に接触する。プランジャ312の、圧力センサICチップ51側の端部312cの各辺(四方)は、圧力伝搬領域30の気密性が確保されるように、かつプランジャ312の動作を妨げないように、インタポーザ82の内壁に接触している。すなわち、プランジャ312の、圧力センサICチップ91側の端部312cは、パッケージ80の第1空間102を、圧力センサICチップ91側の圧力伝搬領域30となる空間314aと、ソレノイドバルブ302側の空間314bと、に分離する。プランジャ312は、ソレノイドコイル311の内側から押し出されたときに、圧力伝搬領域30全体に直に圧力31を生じさせる。
以上、説明したように、実施の形態16によれば、可動シートに代えて他部材で圧力伝搬領域の気密性を確保した場合においても、実施の形態1〜15と同様の効果を得ることができる。
(実施の形態17)
次に、実施の形態17にかかる信号伝達装置の構成について説明する。図26は、実施の形態17にかかる信号伝達装置の構成を示す断面図である。実施の形態17にかかる信号伝達装置の回路構成は、実施の形態12にかかる信号伝達装置と同様である(図20参照)。実施の形態17にかかる信号伝達装置が実施の形態15にかかる信号伝達装置と異なる点は、可動シートに代えて、第2インタポーザ315によって圧力伝搬領域30の気密性を確保している点である。
具体的には、ソレノイドバルブ302と圧力センサICチップ91との間に、パッケージ80を構成するインタポーザ(以下、第1インタポーザとする)82の内壁に四方が接着された例えば略矩形状の平面形状の第2インタポーザ315が設けられている。第2インタポーザ315は、パッケージ80の第1空間102を、圧力センサICチップ91側の圧力伝搬領域30となる空間314aと、ソレノイドバルブ302側の空間314bと、に分離する。第2インタポーザ315には、プランジャ312と対向する部分に、プランジャ312の、圧力センサICチップ91側の端部312bと略同じ平面形状の開口部315aを有する。
第2インタポーザ315の開口部315aは、ソレノイドバルブ302のプランジャ312の、圧力センサICチップ91側の端部312bによって塞がれている。すなわち、第2インタポーザ315とプランジャ312とで圧力伝搬領域30の気密性が確保されている。第2インタポーザ315の開口部315aは、圧力伝搬領域30の気密性を確保することができ、かつソレノイドバルブ302のプランジャ312の動きを妨げない程度の幅を有する。プランジャ312は、ソレノイドコイル311の内側から押し出されたときに、第2インタポーザ315の開口部315aを介して圧力伝搬領域30に直に圧力31を生じさせる。
以上、説明したように、実施の形態17によれば、可動シートに代えて他部材で圧力伝搬領域の気密性を確保した場合においても、実施の形態1〜16と同様の効果を得ることができる。
実施の形態12〜17にかかる信号伝達装置の動作は、圧電素子に代えてソレノイドバルブ302により圧力伝搬領域30に圧力31を生じさせる点を除いて、上述した実施の形態11にかかる信号伝達装置の動作と同様である。また、実施の形態3,7,8,10にかかる信号伝達装置に実施の形態12を適用し、圧電素子に代えてソレノイドバルブ302を備えたアクチュエータ10を用いてもよい。
(実施の形態18)
次に、実施の形態18として、実施の形態12〜17にかかる信号伝達装置のソレノイドバルブ302の構成の一例について説明する。図27は、実施の形態18にかかる信号伝達装置の一部の構成を示す説明図である。図27(a)には、プランジャ312を装備していない状態のソレノイドコイル311の平面レイアウトを示す。図27(b)には、プランジャ312を装備していない状態のソレノイドコイル311の断面構造を示す。図27(c)には、プランジャ312を装備した状態のソレノイドコイル311の断面構造を示す。図27(a)には、渦巻状コイル322を太線で示し、絶縁基板321の開口部326を塗りつぶした黒丸で示す。図27(b),27(c)には、絶縁基板321の開口部326を塗りつぶした矩形で示し、渦巻状コイル322を図示省略する。
図27(a)に示すように、ソレノイドコイル311は、絶縁基板321の両主面に形成された渦巻状コイル322、渦巻状コイル322の引出線323およびランド部324a,324bを有する。渦巻状コイル322の引出線323は、渦巻状コイル322の外側の端部(巻き終り)に接して設けられている。渦巻状コイル322の一方のランド部324aは引出線323に接し、他方のランド部324bは渦巻状コイル322の内側の端部(巻き始め)に設けられている。符号325は、渦巻状コイル322に発生した熱を外部に放熱する熱伝導層である。これら渦巻状コイル322、引出線323およびランド部324a,324bを有する絶縁基板321が複数積層されてソレノイドコイル311が構成される(図27(b))。
同じ絶縁基板321のおもて面と裏面の渦巻状コイル322の内側のランド部324b同士は、ビアホールに充填された導電物質により接続されている。異なる絶縁基板321の対向する渦巻状コイル322の外側のランド部324a同士は例えば半田バンプ(不図示)で電気的に接続されている。すなわち、渦巻状コイル322を両主面に形成した絶縁基板321を複数積層することで、複数の渦巻状コイル322を円柱状に配置した中空のソレノイドコイル311が構成される。絶縁基板321には、渦巻状コイル322の中心部分に例えば平面形状が円形状の開口部326が形成されている。最も圧力センサ20(図20参照)側に配置される絶縁基板321aの開口部326の直径w61は、例えば、他の絶縁基板321の開口部326の直径w62よりも狭くてもよい。圧力センサ20から最も離れた位置に配置される絶縁基板321bには、開口部326が設けられていない。
複数の絶縁基板321の各開口部326は、深さ方向(絶縁基板321の主面に直交する方向)に対向し、渦巻状コイル322の中心部分に複数の絶縁基板321間にわたる所定深さH1の中空部327を構成する。この中空部327には、プランジャ312が挿入される(図27(c))。中空部327は、中空部327の内部に完全にプランジャ312が収まる深さH1を有する。また、中空部327には、プランジャ312が深さ方向に移動可能となるように、所定深さH2のプランジャ312の可動領域が設けられている。プランジャ312は、例えば略円柱状のプランジャ本体312aで構成される。プランジャ312が中空部327内で最も圧力センサ20側に位置するときに、プランジャ312の、圧力センサ20側の端部312dはソレノイドコイル311の外側に突出している。
プランジャ312のプランジャ本体312aの直径w72は、最も圧力センサ側(図27の右側)に配置される絶縁基板321aの開口部326の直径w61よりも広く、かつ他の絶縁基板321の開口部326の直径w62よりも狭い。プランジャ312の、圧力センサ20側の端部312dは、例えば、プランジャ本体312aと軸方向が等しく、かつプランジャ本体312aよりも直径w71の狭い円柱状である。プランジャ312の、圧力センサ20側の端部312dは、最も圧力センサ20側に配置される絶縁基板321aの開口部326の直径w61よりも狭い。このため、プランジャ312が中空部327内で最も圧力センサ20側に位置するときに、プランジャ本体312aが最も圧力センサ20側に配置される絶縁基板321aに接して支持され、中空部327内に保持される。
プランジャ312は、例えばソレノイドバルブ302への電流供給時に、中空部327の内部に完全に引き込まれ保持される。かつ、プランジャ312は、例えばソレノイドバルブ302への電流供給が停止されたときに、例えばプランジャ312の自重により、中空部327内で最も圧力センサ20側の位置に移動し、その圧力センサ20側の端部312dをソレノイドコイル311の外側に突出させる。すなわち、実施の形態18に例示するソレノイドバルブ302(図27参照)は、電流を供給されたときにソレノイドコイル311の内側にプランジャ312を引き込むプル型である。プランジャ312が中空部327内で最も圧力センサ20側に位置するときに、圧力伝搬領域30(図20参照)に最大圧力31が発生し、圧力センサ20に伝搬される。
上述した図27に示すソレノイドバルブ302の構成は一例であり、複数の渦巻状コイル322の接続方法や、中空部327およびプランジャ312の形状などを種々変更可能である。例えば、中空部327の直径は深さ方向に一様とし、プランジャ312は、圧力センサ20側の端部を、プランジャ本体312aの軸方向と直交し、かつプランジャ本体312aの底面よりも面積の広い平坦面を有する平板状としてもよい。また、図27に示すソレノイドバルブ302は、電流を供給されたときにソレノイドコイル311の内側からプランジャ312を押し出すプッシュ型であってもよい。プッシュ型のソレノイドバルブ302とした場合、上述したように、バネなどの弾性体を用いて、中空部327の内部にプランジャ312を引き込めばよい。また、プル型にせよプッシュ型にせよ、移動後のプランジャ312を元に戻す力として、パッケージ本体の側壁に接着されている可動シート313(図21〜24参照)の復元力を利用するようにしてもよい。
以上、説明したように、実施の形態18によれば、実施の形態12〜17に適用可能であり、実施の形態1〜17と同様の効果を得ることができる。
以上において本発明は、上述した実施の形態に限らず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。例えば、上述した各実施の形態では、一次側から二次側へ信号伝達を行う場合を例に説明しているが、二次側から一次側へ信号を伝達してもよい。また、上述した各実施の形態では、パッケージ本体の底面(または圧力センサICチップの裏面)側で外部回路と電気的に接続される場合を例に第1,2外部接続用端子の配置を説明しているが、第1,2外部接続用端子の配置は種々変更可能である。具体的には、第1,2外部接続用端子の一端は、パッケージ本体41の側壁(またはインタポーザ)から横方向に例えば略L字状に折れ曲がって外部に露出されていてもよいし、パッケージキャップから外部に露出されていてもよい。
また、上述した各実施の形態では、第2外部接続用端子と圧力センサICチップ(または受信チップ)とをワイヤボンディングにより電気的に接続しているが、例えばバンプ(突起状の端子)などを用いたワイヤレスボンディングにより電気的に接続してもよい。また、実施の形態1,2の圧力センサICチップに代えて、実施の形態3と同様にセンサチップおよび受信チップを用いてもよい。また、実施の形態1,2,4〜6の圧力センサICチップをセンサチップに代えて、当該センサチップのおもて面(第1空間に露出する面)の、センサ部以外の部分上に受信チップを配置してもよい。また、実施の形態3において、センサチップのおもて面の、センサ部以外の部分上に受信チップを配置してもよい。また、上述した各実施の形態では、第1空間(圧力伝搬領域)全体に絶縁媒体を充填しているが、少なくとも圧電素子とセンサ部との間の圧力を維持することができればよい。
以上のように、本発明にかかる信号伝達装置は、一次側と二次側とを電気的に絶縁した状態で、一次側と二次側との間で相互に信号を伝達する信号伝達装置に有用であり、特にスイッチング素子を駆動するモジュールに適している。
10 アクチュエータ
11,301 送信回路
12 圧電素子
13a,13b 圧電素子の金属電極
14 第1電源
20 圧力センサ
21 センサ部
22 受信回路
23 ホイートストンブリッジ
24 第2電源
25 増幅器
26 比較器
27 基準電圧回路
30 圧力伝搬領域
31 圧力
40,60,80,170 パッケージ
41,81 パッケージ本体
41a パッケージ本体の底面
41b パッケージ本体の側壁
42,62,172 ベース基板
42a,62a,172a ベース基板のおもて面
42b,62b,172b ベース基板の裏面
42c,62c,172c ベース基板のスルーホール
43 パッケージキャップ
43b パッケージキャップの側壁
44,85,102,173 モジュールを構成する部材で囲まれた空間(第1空間)
45 パッケージキャップおよびベース基板で囲まれた空間(第2空間)
46,83,176 第1外部接続用端子
47,84,177 第2外部接続用端子
51,91 圧力センサICチップ
52,71,101 送信チップ
52a,101a 送信チップのおもて面
53,72 圧電チップ
53a 圧電チップのおもて面
53b 圧電チップの裏面
54〜56,75〜78,144〜147,151,153,183,184 ボンディングワイヤ
61,103,174 封止樹脂
73,141,181 センサチップ
74,142,182 受信チップ
81a パッケージ本体のおもて面
81b パッケージ本体の裏面
82,171,315 インタポーザ
83a〜83c 第1外部接続用端子を構成する端子部材
86 インタポーザのスルーホール
91a 圧力センサICチップのおもて面
91b 圧力センサICチップの裏面
92,105,106 ビア(TSV)
101b 送信チップの裏面
104 シリコン貫通電極
107 高硬度部材
111〜113,133 アナログ電気信号
120 基準圧力
121〜124,131 ディジタル電気信号
131a〜131f ディジタル電気信号の周期
133a〜133f アナログ電気信号の周期
143 パッケージ本体の底面の凹部
143a パッケージ本体の底面の凹部より生じるベース基板と圧電チップとの間の隙間
152 導電性緩衝材
161 ベース基板の開口部
175 導電性スペーサ
175a 導電性スペーサにより生じるベース基板と圧電チップとの間の隙間
302 ソレノイドバルブ
311 ソレノイドコイル
312 プランジャ
312a プランジャ本体
312b〜312d プランジャの、圧力センサ側の端部
313 可動シート
314a 第1空間の、圧力センサ側の空間
314b 第1空間の、ソレノイドバルブ側の空間
315a インタポーザの開口部
321,321a,321b 絶縁基板
322 渦巻状コイル
323 渦巻状コイルの引出線
324a,324b ランド部
325 熱伝導層
326 絶縁基板の開口部
327 ソレノイドコイルの中空部
GND 接地電位
H1 ソレノイドコイルの中空部の深さ
H2 プランジャの可動領域の深さ
IN 入力信号
OUT 出力信号
T 所定時間
t1 インタポーザの厚さ
VB 第2電源の電源電位
VCC 第1電源の電源電位
VS 第2電源の最低電位
d1 圧力センサICチップと圧電チップとの間の距離
d2 圧力センサICチップと高硬度部材との間の距離
w1 ディジタル電気信号の周期の時間幅
w11 パッケージ本体の幅
w12 パッケージ本体の側壁間の幅
w21 ベース基板の幅
w31 パッケージキャップの幅
w32 パッケージキャップの側壁間の幅
w41 圧力センサICチップの幅
w51 高硬度部材の幅
w61,w62 絶縁基板の開口部の直径
w71,w72 プランジャの直径

Claims (19)

  1. 一次側から入力信号の入力を受けて第1電気信号を送信する送信回路と、
    前記第1電気信号に基づいて圧力を発生させる受動素子と、
    前記圧力を検出し、当該圧力を第2電気信号に変換するセンサ部と、
    前記第2電気信号に基づく出力信号を二次側へ出力する受信回路と、
    前記センサ部が設けられた第1半導体基板と、
    前記受動素子と前記センサ部とを電気的に絶縁する絶縁媒体と、
    前記受動素子と前記第1半導体基板とが前記絶縁媒体を挟んで所定距離離して対向し、前記絶縁媒体を介して前記受動素子から前記センサ部へ前記圧力が伝搬される圧力伝搬領域と、
    前記第1半導体基板が配置された凹部を有するパッケージ部材と、
    前記受動素子が配置されたベース基板と、
    を備え、
    前記ベース基板は、前記パッケージ部材の前記凹部の内部に前記受動素子が配置されるように当該凹部を塞ぐ位置に配置され当該パッケージ部材に接着されており、
    前記パッケージ部材および前記ベース基板で囲まれた空間を前記圧力伝搬領域とし、
    前記圧力の伝搬により前記一次側から前記二次側への信号伝達を行うことを特徴とする信号伝達装置。
  2. 一次側から入力信号の入力を受けて第1電気信号を送信する送信回路と、
    前記第1電気信号に基づいて圧力を発生させる受動素子と、
    前記圧力を検出し、当該圧力を第2電気信号に変換するセンサ部と、
    前記第2電気信号に基づく出力信号を二次側へ出力する受信回路と、
    前記センサ部が設けられた第1半導体基板と、
    前記受動素子と前記センサ部とを電気的に絶縁する絶縁媒体と、
    前記受動素子と前記第1半導体基板とが前記絶縁媒体を挟んで所定距離離して対向し、前記絶縁媒体を介して前記受動素子から前記センサ部へ前記圧力が伝搬される圧力伝搬領域と、
    前記第1半導体基板が配置されたパッケージ部材と、
    前記受動素子が配置されたベース基板と、
    前記第1半導体基板と前記ベース基板とを接合する中継部材と、
    を備え、
    前記第1半導体基板、前記ベース基板および前記中継部材で囲まれた空間を前記圧力伝搬領域とし、
    前記圧力の伝搬により前記一次側から前記二次側への信号伝達を行うことを特徴とする信号伝達装置。
  3. 一次側から入力信号の入力を受けて第1電気信号を送信する送信回路と、
    前記第1電気信号に基づいて圧力を発生させる受動素子と、
    前記圧力を検出し、当該圧力を第2電気信号に変換するセンサ部と、
    前記第2電気信号に基づく出力信号を二次側へ出力する受信回路と、
    前記センサ部が設けられた第1半導体基板と、
    前記受動素子と前記センサ部とを電気的に絶縁する絶縁媒体と、
    前記受動素子と前記第1半導体基板とが前記絶縁媒体を挟んで所定距離離して対向し、前記絶縁媒体を介して前記受動素子から前記センサ部へ前記圧力が伝搬される圧力伝搬領域と、
    前記送信回路が設けられた第2半導体基板と、
    前記第1半導体基板と前記第2半導体基板とを接合する枠状の平面形状を有する中継部材と、
    を備え、
    前記第1半導体基板、前記第2半導体基板および前記中継部材で囲まれた空間を前記圧力伝搬領域とし、
    前記圧力の伝搬により前記一次側から前記二次側への信号伝達を行うことを特徴とする信号伝達装置。
  4. 前記送信回路は、アナログの前記入力信号の入力を受けて、連続して振幅が増加または減少する特性を有する前記第1電気信号を送信し、
    前記受信回路は、前記第1電気信号に基づいて連続して振幅が増加または減少する特性を有する前記第2電気信号を前記出力信号として前記二次側へ出力することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の信号伝達装置。
  5. 前記送信回路は、ディジタルの前記入力信号の入力を受けて、離散的に振幅が増加または減少する特性を有する前記第1電気信号を送信し、
    前記受信回路は、前記第1電気信号に基づいて離散的に振幅が増加または減少する前記第2電気信号の電圧値と基準電圧とを比較して、離散的に振幅が増加または減少する特性を有する前記出力信号を前記二次側へ出力することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の信号伝達装置。
  6. 前記入力信号の1周期分で1周期分の前記出力信号が出力されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の信号伝達装置。
  7. 前記送信回路は、所定時間内に複数の周期分のディジタルの前記入力信号の入力を受けて、離散的に振幅が増加または減少する非直線状の特性を有する複数の周期分の前記第1電気信号を送信し、
    前記受信回路は、複数の周期分の前記第1電気信号の非直線性に基づいて離散的に振幅が増加または減少する前記第2電気信号の複数の周期分を1周期分として、疑似的に連続して振幅が増加または減少する直線状の特性を有する前記出力信号を前記二次側へ出力することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の信号伝達装置。
  8. 前記圧力伝搬領域で前記受動素子と前記センサ部とが対向することを特徴とする請求項1〜7のいずれか一つに記載の信号伝達装置。
  9. 前記受動素子に接着され、前記受動素子と前記センサ部との間に位置する、前記絶縁媒体よりも硬度の高い材料からなる高硬度部材をさらに備えることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一つに記載の信号伝達装置。
  10. 前記送信回路が設けられた第2半導体基板をさらに備え、
    前記第2半導体基板は、前記ベース基板に前記受動素子と離して配置されていることを特徴とする請求項に記載の信号伝達装置。
  11. 前記パッケージ部材に一体成形された第1外部接続用端子をさらに備え、
    前記第1外部接続用端子の一端は、前記パッケージ部材の底面から外部に露出し前記一次側の外部回路に電気的に接続され、
    前記第1外部接続用端子の他端は、前記ベース基板のスルーホールを貫通し、前記ベース基板のスルーホールを介して前記送信回路に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の信号伝達装置。
  12. 前記パッケージ部材に一体成形された第1外部接続用端子をさらに備え、
    前記第1外部接続用端子の一端は、前記パッケージ部材から外部に露出し前記一次側の外部回路に電気的に接続され、
    前記第1外部接続用端子の他端は、前記第1半導体基板のビアと、前記中継部材および前記ベース基板のスルーホールと、を貫通し、前記ベース基板のスルーホールを介して前記送信回路に電気的に接続されていることを特徴とする請求項2に記載の信号伝達装置。
  13. 前記第1半導体基板のビア、前記中継部材のスルーホール、および前記第2半導体基板のビアを貫通する第1外部接続用端子をさらに備え、
    前記第1外部接続用端子の一端は、前記第1半導体基板のビアから外部に露出し前記一次側の外部回路に電気的に接続され、
    前記第1外部接続用端子の他端は、前記第2半導体基板のビアを介して前記送信回路に電気的に接続されていることを特徴とする請求項3に記載の信号伝達装置。
  14. 前記受信回路は、前記センサ部と同一の前記第1半導体基板に設けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の信号伝達装置。
  15. 前記受信回路が設けられた第3半導体基板をさらに備え、
    前記第3半導体基板は、前記パッケージ部材の、前記第1半導体基板が配置された面に前記第1半導体基板と離して配置されていることを特徴とする請求項1に記載の信号伝達装置。
  16. 前記パッケージ部材に一体成形された第2外部接続用端子をさらに備え、
    前記第2外部接続用端子の一端は、前記パッケージ部材の底面から外部に露出し前記二次側の外部回路に電気的に接続され、
    前記第2外部接続用端子の他端は、前記圧力伝搬領域に露出し前記受信回路に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1または11に記載の信号伝達装置。
  17. 前記パッケージ部材に一体成形された第2外部接続用端子をさらに備え、
    前記第2外部接続用端子の一端は、前記パッケージ部材から外部に露出し前記二次側の外部回路に電気的に接続され、
    前記第2外部接続用端子の他端は、前記第1半導体基板のビアを介して前記受信回路に電気的に接続されていることを特徴とする請求項2または12に記載の信号伝達装置。
  18. 前記第1半導体基板のビアを貫通する第2外部接続用端子をさらに備え、
    前記第2外部接続用端子の一端は、前記一次側の外部回路に電気的に接続され、
    前記第2外部接続用端子の他端は、前記第1半導体基板のビアを介して前記受信回路に電気的に接続されていることを特徴とする請求項3または13に記載の信号伝達装置。
  19. 前記受動素子は、前記第1電気信号の入力を受けたときに変形または振動することで前記圧力を発生させる、圧電性をもつ強誘電体材料で形成されている、もしくは、前記第1電気信号の入力を受けて磁界が発生したとき、または、前記第1電気信号の入力が停止され磁界が消失したとき、に可動して前記圧力を発生させる磁性体からなる可動部を有することを特徴とする請求項1〜8、10〜18のいずれか一つに記載の信号伝達装置。
JP2017567981A 2016-02-18 2017-01-06 信号伝達装置 Active JP6544447B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016028705 2016-02-18
JP2016028705 2016-02-18
JP2016138834 2016-07-13
JP2016138834 2016-07-13
PCT/JP2017/000332 WO2017141566A1 (ja) 2016-02-18 2017-01-06 信号伝達装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2017141566A1 JPWO2017141566A1 (ja) 2018-05-24
JP6544447B2 true JP6544447B2 (ja) 2019-07-17

Family

ID=59625825

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017567981A Active JP6544447B2 (ja) 2016-02-18 2017-01-06 信号伝達装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US11581480B2 (ja)
JP (1) JP6544447B2 (ja)
CN (1) CN109348738B (ja)
WO (1) WO2017141566A1 (ja)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3062142B1 (en) 2015-02-26 2018-10-03 Nokia Technologies OY Apparatus for a near-eye display
US10650552B2 (en) 2016-12-29 2020-05-12 Magic Leap, Inc. Systems and methods for augmented reality
EP3343267B1 (en) 2016-12-30 2024-01-24 Magic Leap, Inc. Polychromatic light out-coupling apparatus, near-eye displays comprising the same, and method of out-coupling polychromatic light
US10578870B2 (en) 2017-07-26 2020-03-03 Magic Leap, Inc. Exit pupil expander
WO2019113570A1 (en) 2017-12-10 2019-06-13 Magic Leap, Inc. Anti-reflective coatings on optical waveguides
EP3729172A4 (en) 2017-12-20 2021-02-24 Magic Leap, Inc. INSERT FOR AUGMENTED REALITY VIEWING DEVICE
WO2019178567A1 (en) 2018-03-15 2019-09-19 Magic Leap, Inc. Image correction due to deformation of components of a viewing device
EP3803450A4 (en) 2018-05-31 2021-08-18 Magic Leap, Inc. POSITIONING A RADAR HEAD
US11579441B2 (en) 2018-07-02 2023-02-14 Magic Leap, Inc. Pixel intensity modulation using modifying gain values
WO2020010226A1 (en) 2018-07-03 2020-01-09 Magic Leap, Inc. Systems and methods for virtual and augmented reality
US11856479B2 (en) 2018-07-03 2023-12-26 Magic Leap, Inc. Systems and methods for virtual and augmented reality along a route with markers
EP4270016A3 (en) * 2018-07-24 2024-02-07 Magic Leap, Inc. Temperature dependent calibration of movement detection devices
WO2020023543A1 (en) 2018-07-24 2020-01-30 Magic Leap, Inc. Viewing device with dust seal integration
WO2020028834A1 (en) 2018-08-02 2020-02-06 Magic Leap, Inc. A viewing system with interpupillary distance compensation based on head motion
EP3830631A4 (en) 2018-08-03 2021-10-27 Magic Leap, Inc. NON-FUSED POSE DRIFT CORRECTION OF A FUSED TOTEM IN A USER INTERACTION SYSTEM
KR102481648B1 (ko) * 2018-10-01 2022-12-29 삼성전자주식회사 반도체 장치
CN117111304A (zh) 2018-11-16 2023-11-24 奇跃公司 用于保持图像清晰度的图像尺寸触发的澄清
JP7196934B2 (ja) * 2018-12-14 2022-12-27 株式会社大真空 圧電振動デバイス
JP2022519292A (ja) 2019-02-06 2022-03-22 マジック リープ, インコーポレイテッド 複数のプロセッサによって発生される総熱を限定するための標的意図ベースのクロック速度の決定および調節
EP3939030A4 (en) 2019-03-12 2022-11-30 Magic Leap, Inc. REGISTRATION OF LOCAL CONTENT BETWEEN FIRST AND SECOND VIEWERS OF AUGMENTED REALITY
US11445232B2 (en) 2019-05-01 2022-09-13 Magic Leap, Inc. Content provisioning system and method
CN114174895A (zh) 2019-07-26 2022-03-11 奇跃公司 用于增强现实的系统和方法
JP2023502927A (ja) 2019-11-15 2023-01-26 マジック リープ, インコーポレイテッド 外科手術環境において使用するための視認システム
US11945714B2 (en) * 2020-07-30 2024-04-02 Stmicroelectronics S.R.L. Electronic device and corresponding method
CN111855510A (zh) * 2020-08-10 2020-10-30 西人马联合测控(泉州)科技有限公司 线圈芯片及其制备方法、检测芯片和滑油传感器
CN215453267U (zh) * 2021-06-22 2022-01-07 瑞声声学科技(深圳)有限公司 骨传导传感器组件

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52134481A (en) * 1976-05-04 1977-11-10 Nippon Gakki Seizo Kk Piezo-electric conversion device
JPS59149750U (ja) * 1983-03-24 1984-10-06 横河電機株式会社 信号絶縁装置
JPS6133129U (ja) * 1984-07-30 1986-02-28 カシオ計算機株式会社 ピエゾ式インタ−フエ−ス
JPH0812648B2 (ja) * 1986-11-17 1996-02-07 キヤノン株式会社 情報処理装置
JPH0415799U (ja) * 1990-05-31 1992-02-07
US5766975A (en) * 1995-01-09 1998-06-16 Integrated Device Technology, Inc. Packaged integrated circuit having thermal enhancement and reduced footprint size
JPH11340031A (ja) 1998-05-28 1999-12-10 Tokyo Gas Co Ltd ソレノイドコイルおよび電磁弁
JP2000183828A (ja) * 1998-12-11 2000-06-30 Citizen Watch Co Ltd 圧電素子による振動通信システム
US6188322B1 (en) 1999-09-28 2001-02-13 Rockwell Technologies, Llc Method for sensing electrical current
US6583374B2 (en) 2001-02-20 2003-06-24 Rockwell Automation Technologies, Inc. Microelectromechanical system (MEMS) digital electrical isolator
JP2003100937A (ja) * 2001-09-26 2003-04-04 Hitachi Ltd 高周波モジュール
US7183622B2 (en) 2004-06-30 2007-02-27 Intel Corporation Module integrating MEMS and passive components
KR100600808B1 (ko) * 2004-12-08 2006-07-18 주식회사 엠디티 자왜효과를 이용한 가변 인덕터형 mems 압력센서
US7525398B2 (en) * 2005-10-18 2009-04-28 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustically communicating data signals across an electrical isolation barrier
US20070158826A1 (en) * 2005-12-27 2007-07-12 Yamaha Corporation Semiconductor device
US7514285B2 (en) * 2006-01-17 2009-04-07 Honeywell International Inc. Isolation scheme for reducing film stress in a MEMS device
JP2008244244A (ja) 2007-03-28 2008-10-09 Sony Corp 電気機械装置および電気・電子機器
JP4946796B2 (ja) * 2007-10-29 2012-06-06 ヤマハ株式会社 振動トランスデューサおよび振動トランスデューサの製造方法
JP5272857B2 (ja) 2009-04-02 2013-08-28 富士電機株式会社 リニアソレノイドモジュール
US8371175B2 (en) * 2009-10-01 2013-02-12 Rosemount Inc. Pressure transmitter with pressure sensor mount
CN102088320B (zh) * 2009-12-03 2013-10-30 建兴电子科技股份有限公司 超音波系统及其通讯方法
US8569092B2 (en) * 2009-12-28 2013-10-29 General Electric Company Method for fabricating a microelectromechanical sensor with a piezoresistive type readout
JP5426437B2 (ja) * 2010-03-11 2014-02-26 ローム株式会社 圧力センサおよび圧力センサの製造方法
CN201653604U (zh) * 2010-04-09 2010-11-24 无锡芯感智半导体有限公司 一种压力传感器
FR2965991B1 (fr) * 2010-10-12 2013-07-12 St Microelectronics Tours Sas Dispositif acoustique d'isolation galvanique
WO2012141891A1 (en) * 2011-04-12 2012-10-18 Rensselaer Polytechnic Institute Adaptive system for efficient transmission of power and data through acoustic media
JP5639985B2 (ja) * 2011-10-28 2014-12-10 三菱電機株式会社 半導体圧力センサおよび半導体圧力センサの製造方法
JP5813471B2 (ja) * 2011-11-11 2015-11-17 株式会社東芝 Mems素子
US8881596B2 (en) * 2012-01-30 2014-11-11 Continental Automotive Systems, Inc. Semiconductor sensing device to minimize thermal noise
JP5983912B2 (ja) * 2012-02-09 2016-09-06 セイコーエプソン株式会社 電子デバイスおよびその製造方法、並びに電子機器
CN203178006U (zh) * 2013-04-11 2013-09-04 东莞市高晶电子科技有限公司 压力传感器封装结构
US9366593B2 (en) * 2013-09-27 2016-06-14 Infineon Technologies Ag Pressure sensor package with integrated sealing
CN104944359B (zh) * 2014-03-25 2017-02-22 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 Mems器件及其形成方法
US9499397B2 (en) * 2014-03-31 2016-11-22 Freescale Semiconductor, Inc. Microelectronic packages having axially-partitioned hermetic cavities and methods for the fabrication thereof
DE102014211190A1 (de) * 2014-06-12 2015-12-17 Robert Bosch Gmbh Mikromechanische Schallwandleranordnung und ein entsprechendes Herstellungsverfahren

Also Published As

Publication number Publication date
US11581480B2 (en) 2023-02-14
CN109348738A (zh) 2019-02-15
US20180151796A1 (en) 2018-05-31
JPWO2017141566A1 (ja) 2018-05-24
CN109348738B (zh) 2021-11-16
WO2017141566A1 (ja) 2017-08-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6544447B2 (ja) 信号伝達装置
EP2767715B1 (en) Fluid-control device, and method for adjusting fluid-control device
JP5900155B2 (ja) 流体制御装置
EP2555267A1 (en) Transducer module
US9231119B2 (en) Sensor
US20080137289A1 (en) Thermal management system for embedded environment and method for making same
US20160025429A1 (en) Electroactive polymer actuated air flow thermal management module
EP2186352B1 (en) Condenser microphone using the ceramic package whose inside is encompassed by metal or conductive materials
CN103378048A (zh) 半导体封装件、安装结构及半导体封装模块
US20020014814A1 (en) Vibration control device and driving method thereof
EP3796672A1 (en) Package structure of sound producing device and manufacturing method thereof
US20210297787A1 (en) Package structure and methods of manufacturing sound producing chip, forming package structure and forming sound producing apparatus
US20140254835A1 (en) Packaged Microphone System with a Permanent Magnet
KR101846608B1 (ko) 냉각 장치용 시스템
KR102641161B1 (ko) 패키지 구조체 및 사운드 생성 칩 제조 방법, 패키지 구조체 형성 방법 및 사운드 생성 장치 형성 방법
US11805342B2 (en) Sound producing package structure and manufacturing method thereof
US20220009768A1 (en) Sound producing package structure and manufacturing method thereof
EP2555175A1 (en) Transducer module
EP2693772B1 (en) Oscillator
JP2008203117A (ja) 物理量測定モジュールおよび物理量測定器
JP2021044762A (ja) トランスデューサ
CN112292766A (zh) 具有电陶瓷部件的装置
US11758312B2 (en) Sound producing package structure and manufacturing method thereof
WO2021033376A1 (ja) 圧電振動板および圧電発音部品
CN115524845B (zh) 一种具备有源可调谐镜面的mems微镜扫描系统

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180201

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181106

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190107

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20190122

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190415

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20190426

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190521

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190603

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6544447

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250