JP6528173B2 - 電解槽および次亜塩素酸水製造装置 - Google Patents
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Description
均一な電界を形成する複数の電極と、
電極を囲繞して隔離すると共に次亜塩素酸を含有する電解液を希釈水中に排出するための開口を備えたフレームと、
前記フレームに固定され、前記電極を固定すると共に電解のための原料を前記電極の間に形成される単位電解セルに供給するための供給開口が形成された下蓋と、
前記フレームに固定され、前記電極を固定すると共に電解により生成した次亜塩素酸を含む電解液を前記単位電解セルから前記フレームとの間に形成される空間に排出するため排出開口が形成された上蓋と、
を備え、前記上蓋および下蓋は、電界下で含塩素物質により劣化しない材料で形成された、電解槽が提供される。
2 :供給パイプ
3 :ポンプ
4 :供給口
4 :原料供給口
5 :開口
5 :供給開口
6 :下蓋
7 :電極
9 :上蓋
10 :排出開口
11 :開口
11a :電解液
12 :微酸性電解水
13 :電源
14 :水
14a :希釈水
15 :フレーム
16 :筐体
17 :排出口
18 :出力端子
19 :希釈水供給口
21 :水密ジョイント
A :矢線
Claims (8)
- 次亜塩素酸水を製造するための電解槽であって、
均一な電界を形成する複数の電極と、
電極を囲繞して隔離すると共に次亜塩素酸を含有する電解液を希釈水中に排出するための開口を備えたフレームと、
前記フレームに固定され、前記電極を固定すると共に電解のための原料を前記電極の間に形成される単位電解セルに供給するための供給開口が前記電極間に形成された下蓋と、
前記フレームに固定され、前記電極を固定すると共に電解により生成した次亜塩素酸を含む電解液を前記単位電解セルから前記フレームとの間に形成される空間に排出するため排出開口が前記電極間に形成された上蓋と、
を備え、前記上蓋および下蓋は、前記フレームの材料よりも電界下で含塩素物質により劣化しない材料で形成され、
前記フレームの材料よりも電界下で含塩素物質により劣化しない材料は、セラミックス、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、パーフルオロアルコキシアルカン、エチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー、パーフルオロエチレン−プロペンコポリマー、エチレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマーまたはこれらの混合物またはマトリックス中に分散させた複合材からなる群から選択される、電解槽。 - 前記上蓋および下蓋のそれぞれ上部および下部に形成され、前記上蓋および前記下蓋それぞれに形成された各前記開口に連続する共通流路を備える請求項1に記載の電解槽。
- 電解液を希釈水中に排出するための開口は、上部に形成された共通流路を介して前記電解液を希釈するための水流中に直接開口する、請求項1または2に記載の電解槽。
- 前記電解槽は、複極式電解槽である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の電解槽。
- 前記原料は、塩酸、アルカリ金属塩化物の溶液またはこれらの混合物である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の電解槽。
- 原料を電気分解して、次亜塩素酸水を含む電解液を生成する電解槽と、
前記電解槽を収容し、前記電解槽の周囲に前記次亜塩素酸水を希釈するための希釈水を流通させると共に前記電解液を希釈した微酸性電解水を排出するための排出口とを備えた筐体とを備える次亜塩素酸水製造装置であって、
前記電解槽が、
均一な電界を形成する複数の電極と、
電極を囲繞して隔離すると共に次亜塩素酸を含有する電解液を希釈水中に排出するための開口を前記電極間に備えたフレームと、
前記フレームに固定され、前記電極を固定すると共に電解のための原料を前記電極の間に形成される単位電解セルに供給するための供給開口が前記電極間に形成された下蓋と、
前記フレームに固定され、前記電極を固定すると共に電解により生成した次亜塩素酸を含む電解液を前記単位電解セルから前記フレームとの間に形成される空間に排出するため排出開口が形成された上蓋と、
を備え、前記上蓋および下蓋は、前記フレームの材料よりも電界下で含塩素物質により劣化しない材料で形成され、前記フレームの材料よりも電界下で含塩素物質により劣化しない材料は、セラミックス、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、パーフルオロアルコキシアルカン、エチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー、パーフルオロエチレン−プロペンコポリマー、エチレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマーまたはこれらの混合物または分散体からなる群から選択され、
前記排出口が、前記筐体の最上部であって前記開口の直上に形成された、次亜塩素酸水製造装置。 - 前記筐体の前記排出口の形成された部分は、前記排出口に向かって上る傾斜を有する、請求項6に記載の次亜塩素酸水製造装置。
- pH5.0〜6.5を有し、有効塩素濃度が、10〜80mg/Lを有する殺菌性を有する次亜塩素酸水を製造する、請求項6または7に記載の次亜塩素酸水製造装置。
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