JP6523873B2 - マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、およびマスクブランク - Google Patents

マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、およびマスクブランク Download PDF

Info

Publication number
JP6523873B2
JP6523873B2 JP2015167664A JP2015167664A JP6523873B2 JP 6523873 B2 JP6523873 B2 JP 6523873B2 JP 2015167664 A JP2015167664 A JP 2015167664A JP 2015167664 A JP2015167664 A JP 2015167664A JP 6523873 B2 JP6523873 B2 JP 6523873B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
mask
hard mask
manufacturing
mask blank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015167664A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2017044892A (ja
JP2017044892A5 (https=
Inventor
亨 福井
亨 福井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoya Corp filed Critical Hoya Corp
Priority to JP2015167664A priority Critical patent/JP6523873B2/ja
Publication of JP2017044892A publication Critical patent/JP2017044892A/ja
Publication of JP2017044892A5 publication Critical patent/JP2017044892A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6523873B2 publication Critical patent/JP6523873B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
JP2015167664A 2015-08-27 2015-08-27 マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、およびマスクブランク Active JP6523873B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015167664A JP6523873B2 (ja) 2015-08-27 2015-08-27 マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、およびマスクブランク

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015167664A JP6523873B2 (ja) 2015-08-27 2015-08-27 マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、およびマスクブランク

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019085890A Division JP6738935B2 (ja) 2019-04-26 2019-04-26 マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、およびマスクブランク

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2017044892A JP2017044892A (ja) 2017-03-02
JP2017044892A5 JP2017044892A5 (https=) 2018-05-31
JP6523873B2 true JP6523873B2 (ja) 2019-06-05

Family

ID=58211290

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015167664A Active JP6523873B2 (ja) 2015-08-27 2015-08-27 マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、およびマスクブランク

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6523873B2 (https=)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017126020A (ja) * 2016-01-15 2017-07-20 Hoya株式会社 マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、およびマスクブランク

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6979337B2 (ja) * 2017-11-17 2021-12-15 芝浦メカトロニクス株式会社 フォトマスクの製造方法
DE112020003188T5 (de) 2019-07-01 2022-04-07 Furuya Metal Co., Ltd. Auf Ruthenium basierendes Sputtertarget und dessen Herstellung

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001291655A (ja) * 2000-04-07 2001-10-19 Tokyo Electron Ltd 疎水化処理の評価方法、レジストパターンの形成方法及びレジストパターン形成システム
JP5704754B2 (ja) * 2010-01-16 2015-04-22 Hoya株式会社 マスクブランク及び転写用マスクの製造方法
JP5518772B2 (ja) * 2011-03-15 2014-06-11 信越化学工業株式会社 パターン形成方法
KR20150014009A (ko) * 2013-07-25 2015-02-06 에스케이하이닉스 주식회사 미세 패턴 형성 방법
JP6258151B2 (ja) * 2013-09-25 2018-01-10 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランクおよびその製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017126020A (ja) * 2016-01-15 2017-07-20 Hoya株式会社 マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、およびマスクブランク

Also Published As

Publication number Publication date
JP2017044892A (ja) 2017-03-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20190384156A1 (en) Reflective mask blank, reflective mask, and method of manufacturing reflective mask blank
US9709885B2 (en) Photomask blank and method for manufacturing photomask blank
TWI823946B (zh) 反射型光罩基底、反射型光罩及反射型光罩基底之製造方法
JP7573344B2 (ja) マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法
JP6545795B2 (ja) マスクブランク、転写用マスク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法
US20220179300A1 (en) Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device
US9383637B2 (en) Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank for EUV lithography, method of manufacturing reflective mask for EUV lithography and method of manufacturing semiconductor device
KR101811096B1 (ko) 포토마스크 블랭크의 제조 방법
JP6526938B1 (ja) マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法
JP4635610B2 (ja) 反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、及び反射型フォトマスクの製造方法
WO2019188397A1 (ja) マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法
JP6523873B2 (ja) マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、およびマスクブランク
JP6713336B2 (ja) マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法
JP2007017998A (ja) ハーフトーン型位相シフトマスク及びマスクブランク
JP6744100B2 (ja) 転写用マスクの製造方法
JP6738935B2 (ja) マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、およびマスクブランク
JP7254470B2 (ja) 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
WO2023037731A1 (ja) マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180412

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180412

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190213

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190219

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190329

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190416

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190426

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6523873

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250