JP6522529B2 - マスク検査方法およびマスク検査装置 - Google Patents
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 212
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 41
- 238000013459 approach Methods 0.000 claims description 110
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 34
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 23
- 238000013461 design Methods 0.000 description 7
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 7
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 6
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
Images
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
図1は、第1の実施形態のマスク検査装置1を示す図である。図2Aは、第1の実施形態のマスク検査装置1を適用可能なマスク2の一例を示す平面図である。図2Bは、図2AのIIB−IIB断面図である。図1のマスク検査装置1は、例えば、図2Aおよび図2Bに示されるEUVマスク(以下、単にマスクともいう)2のパターンの欠陥を検査するために用いることができる。
次に、マスク検査装置1を適用したマスク検査方法について説明する。図3は、第1の実施形態のマスク検査方法を示すフローチャートである。図4は、第1の実施形態のマスク検査方法を示す斜視図である。第1の実施形態のマスク検査方法では、図4の破線矢印に示す方向に検査領域205のストライプ206が連続的にスキャンされるように、XYθテーブル6を移動させる。XYθテーブル6を移動させながら、フォトダイオードアレイ8で撮像された光学画像に基づいてストライプ206上のパターン204(図1参照)の欠陥を検査する。以下、パターン204の欠陥検査の過程でのフォーカス合わせを中心に説明する。
次に、第2の実施形態として、マスク2の傾きに応じてオートフォーカスの初期値すなわち基準点を補正する実施形態について説明する。なお、第2の実施形態において、第1の実施形態に対応する構成部については、同一の符号を用いて重複した説明を省略する。図6は、第2の実施形態のマスク検査装置1を示す図である。
次に、第3の実施形態として、現在の検査対象ストライプの終端近傍においてフォーカスを固定する実施形態について説明する。なお、第3の実施形態において、第1の実施形態に対応する構成部については、同一の符号を用いて重複した説明を省略する。図9は、 第3の実施形態を示すマスク検査方法のフローチャートである。
2 マスク
201 パターン領域
202 非パターン領域
203 遮光帯
6 XYθテーブル
17 テーブル制御回路
18 オートフォーカス制御回路
Claims (7)
- パターンを有するパターン領域と、前記パターン領域の周囲に設けられ、パターンを有しない非パターン領域と、前記パターン領域と前記非パターン領域との間において前記パターン領域を囲み、前記パターン領域および前記非パターン領域より高さが低い遮光帯とを有するマスクのパターンの欠陥を検査するマスク検査方法であって、
前記マスクが載置されたステージが助走を開始するときのフォーカス合わせの実行位置である助走開始位置が前記遮光帯内にある場合に、前記助走開始位置を前記非パターン領域内に変更し、
前記非パターン領域内の助走開始位置で前記フォーカス合わせを実行し、
前記非パターン領域内の助走開始位置から前記ステージの助走を開始させ、少なくとも前記非パターン領域内の助走開始位置でのフォーカス合わせの完了から前記実行位置が前記遮光帯を通過するまでの間、前記フォーカス合わせの完了時のフォーカスを維持し、
前記実行位置が前記パターン領域のうち前記欠陥を検査すべき検査領域に入ったときに、オートフォーカスでのフォーカス合わせに切換えることを特徴とするマスク検査方法。 - 前記検査領域を設定し、
設定された前記検査領域に応じた前記助走開始位置を取得することを特徴とする請求項1に記載のマスク検査方法。 - 前記マスクの傾きを測定し、
前記非パターン領域内の助走開始位置でのフォーカス合わせの際に、前記マスクの傾きと、前記非パターン領域内の助走開始位置から前記検査領域の開始位置までの距離とに基づいて、前記助走開始位置と前記検査領域の開始位置との高さの差分を算出し、
前記高さの差分に応じて、前記検査領域でのオートフォーカスにおけるフォーカスの初期値を補正することを特徴とする請求項1または2に記載のマスク検査方法。 - 前記マスクの傾きの測定は、前記欠陥の検査の開始前に前記検査領域を所定ストライプ分スキャンした結果に基づいて行うことを特徴とする請求項3に記載のマスク検査方法。
- 前記マスクの傾きの測定は、前記欠陥を検査する位置に前記マスクを搬入するときに行うことを特徴とする請求項3に記載のマスク検査方法。
- 前記実行位置が前記検査領域のストライプの終端近傍に到達したときにフォーカスを固定することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のマスク検査方法。
- パターンを有するパターン領域と、前記パターン領域の周囲に設けられ、パターンを有しない非パターン領域と、前記パターン領域と前記非パターン領域との間において前記パターン領域を囲み、前記パターン領域および前記非パターン領域より高さが低い遮光帯とを有するマスクを載置可能なステージと、
前記ステージを移動する移動機構と、
前記マスクに対するフォーカス合わせを実行するフォーカス機構と、
前記ステージが助走を開始するときの前記フォーカス合わせの実行位置である助走開始位置が前記遮光帯内にある場合に、前記助走開始位置を前記非パターン領域内に変更し、前記非パターン領域内の助走開始位置から前記ステージの助走を開始させる制御を行うステージ制御部と、
前記非パターン領域内の助走開始位置で前記フォーカス合わせを実行し、少なくとも前記非パターン領域内の助走開始位置でのフォーカス合わせの完了から前記実行位置が前記遮光帯を通過するまでの間、前記フォーカス合わせの完了時のフォーカスを維持し、前記実行位置が前記パターン領域のうち前記欠陥を検査すべき検査領域に入ったときに、オートフォーカスでのフォーカス合わせに切換える制御を行うフォーカス制御部と、を備えることを特徴とするマスク検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016007329A JP6522529B2 (ja) | 2016-01-18 | 2016-01-18 | マスク検査方法およびマスク検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016007329A JP6522529B2 (ja) | 2016-01-18 | 2016-01-18 | マスク検査方法およびマスク検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017129634A JP2017129634A (ja) | 2017-07-27 |
JP6522529B2 true JP6522529B2 (ja) | 2019-05-29 |
Family
ID=59395610
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016007329A Active JP6522529B2 (ja) | 2016-01-18 | 2016-01-18 | マスク検査方法およびマスク検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6522529B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7394599B2 (ja) * | 2019-11-22 | 2023-12-08 | 株式会社ホロン | リターディング電圧を用いた電子線検査装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3414689B2 (ja) * | 2000-03-02 | 2003-06-09 | 日本電気株式会社 | 焦点合わせ方法および焦点検知装置 |
JP2002072448A (ja) * | 2000-08-30 | 2002-03-12 | Fujitsu Ltd | 反射型マスク検査装置および反射型マスク検査方法 |
JP2008112178A (ja) * | 2007-11-22 | 2008-05-15 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | マスク検査装置 |
JP2010206177A (ja) * | 2009-02-06 | 2010-09-16 | Toshiba Corp | 露光用マスク及びその製造方法並びに半導体装置の製造方法 |
JP2012078164A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Nuflare Technology Inc | パターン検査装置 |
TW201543138A (zh) * | 2014-03-20 | 2015-11-16 | Toppan Printing Co Ltd | 反射型空白光罩、反射型光罩、反射型光罩之製造方法、曝光方法及曝光裝置 |
JP6513582B2 (ja) * | 2016-01-18 | 2019-05-15 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マスク検査方法およびマスク検査装置 |
-
2016
- 2016-01-18 JP JP2016007329A patent/JP6522529B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017129634A (ja) | 2017-07-27 |
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A621 | Written request for application examination |
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