JP2024004317A - 撮像レンズ製造装置及びカメラモジュール製造装置 - Google Patents

Abstract

【課題】タンジェンシャル像面及びサジタル像面それぞれの像面の傾きを抑えた、より高精度な撮像レンズ製造装置を提供する。【解決手段】撮像レンズ製造装置（１００）は、少なくとも固定レンズ（１１２）を保持するステージ（１４０）と、調整レンズ（１１１）を保持し、かつ、撮像レンズ（１１０）の光軸（Ｌ）に対して垂直な面内における、固定レンズに対する調整レンズの位置を調整可能とするレンズ調整機構（１３０）と、光源（１６０）と、光源からの光を透過する３つ以上のスリット（１５１）を有するレチクル（１５０）と、スリットを透過した複数の光束を、撮像レンズを介してそれぞれ検出する、複数のセンサー（１２１）を有する光検出部（１２０）と、を備え、レンズ調整機構はさらに、光軸に対する調整レンズの傾き角度を調整可能であり、傾き角度の調整は、光軸上に位置する回転中心点を中心として調整レンズが回転することにより行われる。【選択図】図１

Description

本発明は、撮像素子により撮像された撮像情報に基づいてレンズを調整する撮像レンズ製造装置及びカメラモジュール製造装置に関する。

昨今急速に進むカメラモジュールの高解像化及び高性能化により、部品精度を上記高解像化に対応して向上させることが難しくなっている。撮像レンズの製造プロセスにおいて撮像レンズを構成する複数のレンズ間の組立精度が撮像レンズの製造プロセスにおける良品率に大きく影響するため、高精度な組立精度が必要とされている。

ところで、撮像レンズの製造プロセスにおいて、鏡筒本体に配置された複数のレンズのうち、一部のレンズを調整レンズとして、位置を調整することで、撮像レンズの光学性能を調整する方法が知られている。例えば、撮像素子により撮像された撮像情報を元に、光軸に対するタンジェンシャル像面の傾きの絶対値と前記光軸に対するサジタル像面の傾きの絶対値とが略等しくなるように、調整レンズを水平移動させることで、像面の傾きを調整する方法が、特許文献１により提案されている。

特開２０１０－２３０７４５号公報

しかしながら、特許文献１には、調整レンズをどのように調整するのかについては記載されていない。さらに、特許文献１に記載されている発明では、調整後にタンジェンシャル像面とサジタル像面に傾きが残る。そのため、特許文献１では、調整後の撮像レンズを効果的に使用するためには、撮像レンズまたはカメラモジュールのイメージセンサーのどちらかの傾きの調整が必要になる。

本発明の一態様は、上記問題を鑑み、タンジェンシャル像面及びサジタル像面それぞれの像面の傾きを抑えた、より高精度な撮像レンズを製造可能な撮像レンズ製造装置及びカメラモジュール製造装置を提供することを目的とする。

上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る撮像レンズ製造装置は、複数枚のレンズを備える撮像レンズであって、前記複数枚のレンズのうちの一部のレンズが、組み立て時の調整レンズとして構成されている撮像レンズを製造する、撮像レンズ製造装置であって、少なくとも前記調整レンズ以外の前記レンズを保持するステージと、前記調整レンズを保持し、かつ、前記撮像レンズの光軸に対して垂直な面内における、前記調整レンズ以外の前記レンズに対する前記調整レンズの位置を調整可能とするレンズ調整機構と、光源と、前記撮像レンズと前記光源との間に配置され、前記光源からの光を透過する３つ以上のスリットを有するレチクルと、前記光源からの光が、前記スリットを透過することで得られた複数の光束を、前記撮像レンズを介してそれぞれ検出する、複数のセンサーを有する光検出部と、を備え、前記レンズ調整機構はさらに、前記光軸に対する前記調整レンズの傾き角度を調整可能であり、前記傾き角度の調整は、前記光軸上に位置する回転中心点を中心として前記調整レンズが回転することにより行われることを特徴とする。

本発明の他の態様に係る撮像レンズ製造装置は、複数枚のレンズを備える撮像レンズであって、前記複数枚のレンズのうちの一部のレンズが、組み立て時の調整レンズとして構成されている撮像レンズを製造する、撮像レンズ製造装置であって、少なくとも前記調整レンズ以外の前記レンズを保持するステージと、前記調整レンズを保持し、かつ、前記撮像レンズの光軸に対して垂直な面内における、前記調整レンズ以外の前記レンズに対する前記調整レンズの位置を調整可能とするレンズ調整機構と、前記撮像レンズのタンジェンシャル方向及びサジタル方向の光学性能が評価可能であるようにパターンが形成されているチャートと、前記撮像レンズによって前記チャートを撮像する撮像素子と、を備え、前記レンズ調整機構はさらに、前記光軸に対する前記調整レンズの傾き角度を調整可能であり、前記傾き角度の調整は、前記光軸上に位置する回転中心点を中心として前記調整レンズが回転することにより行われることを特徴とする。

本発明の一態様に係るカメラモジュール製造装置は、複数枚のレンズを備える撮像レンズであって、前記複数枚のレンズのうちの一部のレンズが、組み立て時の調整レンズとして構成されている撮像レンズと、撮像素子と、を有するカメラモジュールを製造する、カメラモジュール製造装置であって、前記カメラモジュールを保持するステージと、前記調整レンズを保持し、かつ、前記撮像レンズの光軸に対して垂直な面内における、前記調整レンズ以外の前記レンズに対する前記調整レンズの位置を調整可能とするレンズ調整機構と、前記撮像レンズのタンジェンシャル方向及びサジタル方向の光学性能が評価可能であるようにパターンが形成されているチャートと、を備え、前記レンズ調整機構はさらに、前記光軸に対する前記調整レンズの傾き角度を調整可能であり、前記傾き角度の調整は、前記撮像レンズの光軸上に位置する回転中心点を中心として前記調整レンズが回転することにより行われることを特徴とする。

本発明の一態様によれば、タンジェンシャル像面及びサジタル像面それぞれの像面の傾きを抑えた、より高精度な撮像レンズを製造可能な撮像レンズ製造装置及びカメラモジュール製造装置を提供することができる。

本発明の実施形態１に係る撮像レンズ製造装置の概略構成の一例を示す模式図である。 前記撮像レンズ製造装置のレンズ調整機構による調整レンズの調整の一例を示す説明図である。 前記撮像レンズ製造装置のレチクルの一例を示す上面図である。 前記撮像レンズ製造装置の光束経路の一例を示す模式図である。 調整レンズの主点から回転中心点までの光軸方向の距離ｒの一例を示す説明図である。 ＰＳと焦点位置の関係を示す模式図である。 各光束において、光軸方向の位置と光学性能との関係を示す模式図である。 前記撮像レンズ製造装置の撮像レンズの製造方法の一例を示すフローチャートである。 本発明の実施形態２に係る撮像レンズ製造装置の概略構成の一例を示す模式図である。 前記撮像レンズ製造装置のチャートの一例を示す上面図である。 本発明の実施形態３に係るカメラモジュール製造装置の概略構成の一例を示す模式図である。

〔実施形態１〕
以下、本発明の実施形態について、詳細に説明する。ただし、以下の説明は本発明に係る撮像レンズ製造装置の一例であり、本発明の技術的範囲は図示例に限定されるものではない。なお、図面には、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸の互いに直交する座標系を適宜に記載した。この座標系において、撮像レンズ製造装置１００に撮像レンズ１１０を設置した場合の撮像レンズ１１０の光軸Ｌ方向をＺ軸方向とする。また、Ｚ軸方向と直交する撮像レンズ製造装置１００の幅方向をＸ軸方向とし、Ｘ軸方向及びＺ軸方向と直交する撮像レンズ製造装置１００の奥行方向をＹ軸方向とする。

（撮像レンズ製造装置１００）
図１は、本発明の実施形態１に係る撮像レンズ製造装置１００の概略構成の一例を示す模式図である。撮像レンズ製造装置１００は、複数枚のレンズを備える撮像レンズ１１０であって、複数枚のレンズのうちの一部のレンズが、組み立て時の調整レンズ１１１として構成されている撮像レンズ１１０を製造する装置である。

撮像レンズ１１０は、調整レンズ１１１と、固定レンズ１１２と、レンズバレル１１３とから構成されている。レンズバレル１１３は、固定レンズ１１２を保持し、ステージに１４０に固定されている。調整レンズ１１１及び固定レンズ１１２はそれぞれ複数枚であってもよい。

撮像レンズ製造装置１００は、光検出部１２０と、レンズ調整機構１３０と、ステージ１４０と、レチクル１５０と、光源１６０と、デフォーカス機構１７０と、制御部１８０と、を備えている。

ステージ１４０は、例えばレンズバレル１１３を保持するように構成されていることによって、少なくとも調整レンズ１１１以外のレンズ（固定レンズ１１２）を保持する。ステージ１４０は撮像レンズ１１０の光軸Ｌ方向に駆動するデフォーカス機構１７０に保持されている。

デフォーカス機構１７０は、ステージ１４０に保持された、調整レンズ１１１以外のレンズ（固定レンズ１１２）に対するレチクル１５０の距離を、光軸Ｌ方向に変化させるデフォーカス動作を行う。デフォーカス機構１７０は、ステージ１４０を光軸Ｌ方向に移動させることで、デフォーカス動作を実施する。

光源１６０は、撮像レンズ１１０に向かって光を射出する。

（レンズ調整機構１３０）
レンズ調整機構１３０は、調整レンズ１１１を保持し、かつ、撮像レンズ１１０の光軸Ｌに対して垂直な面内（Ｘ軸及びＹ軸を通る面内）における、固定レンズ１１２に対する調整レンズ１１１の位置を調整可能とする。

図２は、撮像レンズ製造装置１００のレンズ調整機構１３０による調整レンズ１１１の調整の一例を示す説明図である。図２の２００１に示すように、調整レンズ１１１は、光軸Ｌに垂直な面内で位置が調整される（図２の２００１の白抜き矢印）。

レンズ調整機構１３０は、調整レンズ１１１を保持しながら、調整レンズ１１１を光軸Ｌに垂直な面内に調整可能な２軸の微動ステージを備えている。これにより、調整レンズ１１１を光軸Ｌに垂直な面内で移動させ、撮像レンズ１１０の調整を実施する。

また、図２の２００２及び２００３に示すように、レンズ調整機構１３０は、光軸Ｌに対する調整レンズ１１１の傾き角度を調整可能であり、傾き角度の調整は、光軸Ｌ上に位置する回転中心点ＲＣを中心として調整レンズ１１１が回転することにより行われる。これにより、タンジェンシャル像面及びサジタル像面それぞれの像面の傾きを抑え、光軸Ｌを傾かせることなく調整レンズ１１１の調整を実現することができる。

言い換えると、レンズ調整機構１３０は、調整レンズ１１１を保持しながら、調整レンズ１１１を光軸Ｌに垂直なＸ方向とＹ方向及びθＸ方向とθＹ方向に調整可能な４軸の微動ステージを備えている。θＸ方向及びθＹ方向の回転調整は、傾き調整の回転中心ＲＣを中心として実施される。上記構成により、調整レンズ１１１がＸ方向、Ｙ方向、θＸ方向及びθＹ方向に移動されることで、撮像レンズ１１０の調整が実施される。

また、レンズ調整機構１３０は、光軸Ｌ方向に駆動可能な微動ステージを備え、調整レンズ１１１を光軸Ｌ方向に駆動可能である。これにより、調整レンズ１１１と固定レンズ１１２との適切なレンズ間距離を調整することができるだけでなく、光軸Ｌに垂直な面内での調整レンズ１１１の調整の際に、調整レンズ１１１と固定レンズ１１２とを離隔させることが可能となる。その結果、撮像レンズ１１０を調整する際の調整レンズ１１１と固定レンズ１１２との摩擦抵抗を低減することができる。

調整レンズ１１１は、上記位置調整が行われた後に、固定レンズ１１２と接触する位置にまで光軸Ｌ方向に移動されて最終的に固定レンズ１１２に固定される。

（レチクル１５０）
レチクル１５０は、撮像レンズ１１０と光源１６０との間に配置され、光源１６０からの光を透過する３つ以上のスリット１５１を有する。光源１６０からの光が、スリット１５１を透過することで複数の光束が得られる。

図１に示すように、上記の複数の光束は、光軸Ｌと一致する光軸光束ＲＬと、光軸Ｌに対して対称である方向に出射される一対の光束群である、一対の第１光束Ｒａ、一対の第２光束Ｒｂ、一対の第３光束（図示無）及び一対の第４光束（図示無）と、を含む。

図３は、撮像レンズ製造装置１００のレチクル１５０の一例を示す上面図である。図３に示すように、スリット１５１は、光軸スリット１５１Ｌと、一対の第１スリット１５１ａと、一対の第２スリット１５１ｂと、一対の第３スリット１５１ｃと、一対の第４スリット１５１ｄと、を含む。

光源１６０からの光が、光軸スリット１５１Ｌ、一対の第１スリット１５１ａ、一対の第２スリット１５１ｂ、一対の第３スリット１５１ｃ及び一対の第４スリット１５１ｄを透過することで、それぞれ、光軸光束ＲＬ、一対の第１光束Ｒａ、一対の第２光束Ｒｂ、一対の第３光束及び一対の第４光束が得られる。

レチクル１５０において、各スリット１５１は以下のように配置される。光軸スリット１５１Ｌは、光軸スリット１５１Ｌを通過する光束が、光軸Ｌに沿った光軸光束ＲＬとなるように配置される。すなわち、光軸スリット１５１Ｌは、光軸Ｌ上に配置される。

一対の第１スリット１５１ａは、一対の第１光束Ｒａがそれぞれ最大像高に対して６割以上の像高（第１調整像高）に相当するように配置される。すなわち一対の第１スリット１５１ａは、それぞれの第１光束Ｒａが、像面において、最大像高に対して６割以上の像高の位置で集光するように配置される。更に言い換えると、それぞれの第１スリット１５１ａが像面において、最大像高に対して６割以上の像高の位置で像を結ぶように配置される。

一対の第２スリット１５１ｂは一対の第２光束Ｒｂがそれぞれ最大像高に対して１割以上５割以下の像高（第２調整像高）に相当するように配置される。すなわち一対の第２スリット１５１ｂは、それぞれの第２光束Ｒｂが、像面において、最大像高に対して１割以上５割以下の像高の位置で集光するように配置される。更に言い換えると、それぞれの第２スリット１５１ｂが像面において、最大像高に対して１割以上５割以下の像高の位置で像を結ぶように配置される。

一対の第３スリット１５１ｃは、それぞれの第３光束が第１光束Ｒａから、光軸Ｌ周りに回転した方向に出射されるように配置される。一対の第４スリット１５１ｄは、それぞれの第４光束が第２光束Ｒｂから、光軸Ｌ周りに回転した方向に出射されるように配置される。

ここで、像高は光軸Ｌに垂直な面における、光軸Ｌからの距離であり、光軸Ｌに垂直な面上において、光軸Ｌを中心とした同心円上の像高は等しくなる。また、最大像高は、光軸Ｌに垂直な面におけるイメージサークルの半径と一致してもよい。イメージサークル半径は結像可能な最大半径を示す。

また、撮像レンズ１１０の調整に用いる像高を調整像高と定義する。例えば、調整像高を最大像高の５割とした場合、光軸Ｌに垂直な面における光軸Ｌを通る１つの軸上には、最大像高の５割の調整像高の位置が２箇所存在する。

図３に示すように、例えば、一対の第１スリット１５１ａは、光軸スリット１５１Ｌに対して対称である。また、一対の第３スリット１５１ｃは、光軸スリット１５１Ｌに対して対称である。第１スリット１５１ａと第３スリット１５１ｃとは、光軸スリット１５１Ｌを中心とする同一円上において９０度ピッチで、交互に配置されている。

一対の第２スリット１５１ｂは、光軸スリット１５１Ｌに対して対称である。また、一対の第４スリット１５１ｄは、光軸スリット１５１Ｌに対して対称である。第２スリット１５１ｂと第４スリット１５１ｄとは、光軸スリット１５１Ｌを中心とする同一円上において９０度ピッチで、交互に配置されている。

第２スリット１５１ｂは、光軸スリット１５１Ｌと第１スリット１５１ａとを通る直線上に配置され、第４スリット１５１ｄは、光軸スリット１５１Ｌと第３スリット１５１ｃを通る直線上に配置されている。

なお、レチクル１５０におけるスリット１５１の位置は上記に限らず、撮像レンズ１１０の調整に用いる像高（調整像高）に相当する光束を生成できるようにレチクル１５０に配置されていればよい。撮像レンズ１１０は、１つ以上の調整像高に基づき調整される。したがって、例えば、スリット１５１は、光軸スリット１５１Ｌ及び第１スリット１５１ａのみを有していてもよい。

また、撮像レンズ１１０は、２つ以上の調整像高に基づき調整されることが望ましい。その場合、例えば、光軸スリット１５１Ｌ、第１スリット１５１ａ及び第２スリット１５１ｂのみを有していてもよく、光軸スリット１５１Ｌ、第１スリット１５１ａ及び第４スリット１５１ｄを有していてもよい。２つ以上の調整像高に基づき調整されることが望ましい理由について、詳細は後述する。

レチクル１５０は、撮像レンズ１１０の焦点面に概一致する箇所に設置されており、金属の薄板からなる。またスリット１５１は、任意の像高におけるタンジェンシャル方向とサジタル方向の光学性能を測定する為、各方向に沿った十字形状で有ることが望ましい。

光源１６０から射出された光は、スリット１５１を通過し、撮像レンズ１１０に入射し、撮像レンズ１１０を通過後、光検出部１２０を構成するセンサー１２１に検出される。

（光検出部１２０）
光検出部１２０は、光源１６０からの光が、スリット１５１を透過することで得られた複数の光束を、撮像レンズ１１０を介してそれぞれ検出する、複数のセンサー１２１を有する。

図１に示すように、光検出部１２０は、４個以上のセンサー１２１を有する。具体的には、センサー１２１は、光軸センサー１２１Ｌと、第１センサー１２１ａと、第２センサー１２１ｂと、第３センサー（図示無）と、第４センサー（図示無）と、を備えている。

光軸センサー１２１Ｌは、光軸光束ＲＬを検出する。言い換えると、光軸センサー１２１Ｌは、イメージサークルにおいて中心の光を検出する。光軸センサー１２１Ｌは、光軸Ｌと略一致する位置に配置されている。

第１センサー１２１ａから第４センサーは、イメージサークルにおいて周辺像高の光を検出する。周辺像高は、光軸Ｌから任意の距離が離隔された位置の像高である。

第１センサー１２１ａは、一対の第１光束Ｒａのそれぞれを検出する。一対の第１センサー１２１ａは、光軸Ｌに対称に配置されている。第２センサー１２１ｂは、一対の第２光束Ｒｂのそれぞれを検出する。一対の第２センサー１２１ｂは、光軸Ｌに対称に配置されている。

第３センサーは、一対の第３光束のそれぞれを検出する。第３センサーは、光軸Ｌに対称に配置され、第１センサー１２１ａから光軸Ｌ周りに回転した位置に配置されている。第４センサーは、一対の第４光束のそれぞれを検出する。第４センサーは、光軸Ｌに対称に配置され、第２センサー１２１ｂから光軸Ｌ周りに回転した位置に配置されている。

なお、図１では、光源１６０からの光の射出方向に向かって凸となる扇状となるように各センサー１２１が配置されているが上記に限らない。しかしながら、各センサー１２１を扇状に配置することで、撮像レンズ製造装置１００の大きさを抑制することができる。

また、センサー１２１を扇状に配置する場合、ドーム形状を有する支持部（図示無）を用いて当該支持部のドーム形状部の内側にセンサー１２１を設置することで、センサー１２１を扇状に配置することができる。このようにドーム形状を有する支持部を用いてセンサー１２１を扇状に配置する場合、当該支持部にセンサー１２１を設置することでセンサー１２１の設置角度がおおよそ決まるため、センサー１２１の設置角度を調整しやすくなる。

第１光束Ｒａを検出する第１センサー１２１ａと、第３光束を検出する第３センサーとは、光軸Ｌを中心とする同一円上において９０度ピッチで、交互に配置されている。さらに、第２光束Ｒｂを検出する第２センサー１２１ｂと、第４光束を検出する第４センサーとは、光軸Ｌを中心とする同一円上において９０度ピッチで、交互に配置されている。すなわち、本実施形態では、光検出部１２０は、９個のセンサー１２１を備えている。

図１では、光検出部１２０として、光軸光束ＲＬを検出する位置に光軸センサー１２１Ｌが配置され、調整像高に相当する光を検出する位置に４個のセンサー１２１が配置されているのが図示されている。光検出部１２０は、さらに、図示しない軸方向に、他の４個のセンサー１２１を備えている。

なお、１つの調整像高に基づき撮像レンズ１１０が調整される場合は、例えば、光軸センサー１２１Ｌを配置し、第１センサー１２１ａと、第３センサーとが、光軸Ｌを中心とする同一円上において９０度ピッチで、交互に配置される。この場合、合計５個のセンサー１２１が配置される。

また、センサー１２１は、光軸Ｌを中心として必ずしも９０度ピッチで配置する必要はない。センサー１２１が１つの調整像高につき３個以上配置され、かつ、センサー１２１が光軸Ｌを中心に既知の角度で配置されていれば、像面の傾きをＸ軸方向とＹ軸方向の成分に変換することで、調整レンズ１１１のＸ軸方向とＹ軸方向の調整量を求めることができる。

例えば、撮像レンズ１１０が、１つの調整像高に基づき調整される場合であれば、光検出部１２０は、光軸センサー１２１Ｌと、以下のように配置される第１センサー１２１ａと、を備えていてもよい。例えば、上記第１センサー１２１ａは、中心が光軸Ｌであり、半径が第１調整像高となる同心円上において、光軸Ｌを中心に１２０°ピッチで配置されていてもよい。この場合、光検出部１２０は合計４個のセンサー１２１を備えることになる。

また、撮像レンズ１１０が、２つの調整像高に基づき調整される場合であれば、光検出部１２０は、上述した１つの調整像高に基づき調整される場合のセンサー１２１に加え、以下のように配置される第２センサー１２１ｂを備えていてもよい。例えば、上記第２センサー１２１ｂは、中心が光軸Ｌであり、半径が第２調整像高となる同心円上において、光軸Ｌを中心に１２０°ピッチで配置されていてもよい。この場合、光検出部１２０は合計７個のセンサー１２１を備えることになる。

さらに、撮像レンズ１１０が、３つの調整像高に基づき調整される場合であれば、上述した２つの調整像高に基づき調整される場合のセンサー１２１に加え、以下のように配置される第３調整像高に相当する第５光束を検出する第５センサーを備えていてもよい。例えば、第５センサーは、中心が光軸Ｌであり、半径が第３調整像高となる同心円上において、光軸Ｌを中心に１２０°ピッチで配置されていてもよい。この場合、光検出部１２０は合計１０個のセンサー１２１を備えることになる。

なお、レチクル１５０に配置されるスリット１５１は、各センサー１２１に対応して配置される。

（制御部１８０）
制御部１８０は、撮像レンズ製造装置１００の各部を制御するとともに、それぞれのセンサー１２１が検出した光束による画像からそれぞれの光学性能を導出する。具体的には、制御部１８０は、それぞれのセンサー１２１が検出した光束による画像から光学性能としてＭＴＦ（Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｆｕｎｃｔｉｏｎ）を導出する。

制御部１８０は、デフォーカス機構１７０を制御して、デフォーカス動作をさせながら一対の第１光束ＲａについてのＭＴＦを導出した結果に基づいて、タンジェンシャル像面及びサジタル像面の傾きを算出する。

制御部１８０は、撮像レンズ１１０のデフォーカス動作を行うことで、デフォーカスに対応したＭＴＦの評価が可能であり、撮像レンズ１１０の調整像高における焦点情報を取得することができる。焦点情報は、例えば、各光束の焦点位置の情報を含む。制御部１８０はさらに、焦点情報を基に、タンジェンシャル像面及びサジタル像面の焦点距離の差を求めることができる。

制御部１８０は、算出したタンジェンシャル像面及びサジタル像面の傾きに基づいて、レンズ調整機構１３０を制御する。

具体的には、制御部１８０はタンジェンシャル像面及びサジタル像面の傾きから（１）光軸Ｌに対して垂直な面内における、固定レンズ１１２に対する調整レンズ１１１の位置の調整量、及び、（２）調整レンズ１１１の傾き角度の回転調整量を算出する。また、制御部１８０は、算出した調整レンズ１１１の上記調整量に基づき、制御部１８０はレンズ調整機構１３０により（１）光軸Ｌに対して垂直な面内における、固定レンズ１１２に対する調整レンズ１１１の位置、及び、（２）調整レンズ１１１の傾き角度の調整を行う。

さらに、制御部１８０は、レンズ調整機構１３０を制御して、調整レンズ１１１を、調整レンズ１１１以外のレンズ（固定レンズ１１２）に当接するように光軸Ｌ方向に駆動する。

（像面の傾きの算出）
以下に、制御部１８０による像面の傾きの算出の一例について、図４を用いて説明する。図４は、撮像レンズ製造装置１００の光束経路の一例を示す模式図である。図４は、像面が傾いている撮像レンズ１１０を示している。具体的には、図４に示す撮像レンズ１１０は、光軸スリットＩＨ０を透過する光軸光束ＲＩＨ０の焦点位置にピントを合わせた状態であるとき、スリットＩＨ１を透過した光束ＲＩＨ１が理想像面よりも前方に合焦し、スリットＩＨ２を透過した光束ＲＩＨ２が理想像面よりも後方に合焦する。ここで、理想像面は、光軸光束ＲＩＨ０を通る光軸Ｌに垂直な面である。スリットＩＨ１とスリットＩＨ２とは、光軸Ｌに対称な位置で配置されおり、像面に傾きがない場合、光束ＲＩＨ１と光束ＲＩＨ２の焦点位置は、理想像面上となり、理想像面において光軸Ｌに対称な位置となる。

一般的な撮像レンズ１１０は全ての像高において、一般的に平坦である理想像面上に、傾きなく結像することが求められる。つまり、光軸スリットＩＨ０を透過する光軸光束ＲＩＨ０の焦点位置と、光束ＲＩＨ１及び光束ＲＩＨ２の焦点位置が等しくなることが理想である。しかしながら、撮像レンズ１１０を製造する過程で、各レンズの製造バラつきや、組立ての同軸ズレや傾きによって、図４に示すように、理想像面から像面に傾きが生じる。

ここで、像面の傾きを、下記のようにＰｅａｋ Ｓｅｐａｒａｔｉｏｎ（ＰＳ）として、下記式（１）及び下記式（２）のように定める。

ＰＳ ＝ ＦＰ１－ＦＰ２ 式（１）
ＦＰ１は、撮像レンズ１１０の光束ＲＩＨ１のＴ面（タンジェンシャル像面）またはＳ面（サジタル像面）での焦点位置である。ＦＰ２は、ＦＰ１と光軸Ｌまでの距離が同一であり、かつ、方向がマイナス方向の像高におけるＴ面またはＳ面での焦点位置である。すなわち、ＦＰ２は光束ＲＩＨ２のＴ面またはＳ面での焦点位置である。このように、傾きＰＳは、Ｔ面またはＳ面における一対のセンサー１２１位置間での光軸Ｌ方向焦点位置の差で求めることができる。

像面に傾きが生じていない場合ＰＳは０であり、像面に傾きが生じている場合は、傾き角度と周辺像高の位置に対応したＰＳが発生する。

（調整レンズ１１１の調整量の算出）
次に、制御部１８０による調整レンズ１１１の各調整量の求め方について、以下に説明する。

光軸Ｌに対して垂直な面内における調整レンズ１１１の位置の調整において、ＰＳは光軸Ｌに対して垂直な面内の移動量とおおよそ線形関係に有り、下記式（２）及び式（３）のように示すことができる。ただし、調整レンズ１１１が撮像レンズ１１０を構成する他のレンズに比べ屈折率が小さい場合や、光学設計が破綻するような大きなＰＳである場合は、その限りではない。

ＰＳ１≒ｋ１ｘ＋ＰＳｉ１ 式（２）
ＰＳ２≒ｋ２ｘ＋ＰＳｉ２ 式（３）
ここで、ＰＳ１はＴ面における焦点距離の差であり、ＰＳ２はＳ面における焦点距離の差である。ｋ１はＴ面における光軸Ｌに対して垂直な面内における移動量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度（以降、感度ｋ１と称する）であり、ｋ２はＳ面における光軸Ｌに対して垂直な面内における移動量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度（以降、感度ｋ２と称する）である。ｘは、光軸Ｌに対して垂直な面内における調整レンズ１１１の移動量（位置の調整量）であり、ＰＳｉ１はＴ面における調整前の焦点距離の差であり、ＰＳｉ２はＳ面における調整前の焦点距離の差である。

式（２）及び式（３）から、調整レンズの水平移動によってＴ面とＳ面の像面傾きを無くす、すなわちＰＳ１とＰＳ２とを同時に０にするためには、下記式（４）を満足する必要が有る。

ｘ＝－ＰＳｉ１／ｋ１＝－ＰＳｉ２／ｋ２ 式（４）
しかしながら実際には、ＰＳｉ１／ｋ１＝ＰＳｉ２／ｋ２を満足することは難しい。ｋ１及びｋ２は、光学設計によって決まり、同一規格の製品であれば、個々の撮像レンズ１１０で大きく変わることはないが、ＰＳｉ１とＰＳｉ２は、生産プロセス上でバラつきを持つ値であり、個々の撮像レンズ１１０で種々の値を取るからである。

そこで、撮像レンズ製造装置１００では、光軸Ｌに対して垂直な面内において調整レンズ１１１の位置を調整することに加え、回転中心点ＲＣを中心として調整レンズ１１１を回転させ光軸Ｌに対する調整レンズ１１１の角度を調整する。これにより、撮像レンズ製造装置１００は、Ｔ面とＳ面の像面の傾きをなくすように調整レンズ１１１を調整して撮像レンズ１１０を製造することが可能となる。

光軸Ｌに対して垂直な面内における調整レンズ１１１の位置の移動において、傾きＰＳは移動量とおおよそ線形関係に成り立つことは前述した通りであるが、調整レンズ１１１の傾き角度についても同様の関係性が成り立つ。すなわち、下記式（５）及び式（６）が成り立つ。

ＰＳ１≒ｋ３ｔ＋ＰＳｉ１ 式（５）
ＰＳ２≒ｋ４ｔ＋ＰＳｉ２ 式（６）
ここで、ＰＳ１はＴ面における焦点距離の差であり、ＰＳ２はＳ面における焦点距離の差である。

また、ｋ３はＴ面における回転量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度であり（以降、感度ｋ３と称する）、ｋ４はＳ面における回転量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度（以降、感度ｋ４と称する）である。ｔは調整レンズ１１１の回転量である。ＰＳｉ１はＴ面における調整前の焦点距離の差であり、ＰＳｉ２はＳ面における調整前の焦点距離の差である。

なお詳しくは後述するが、感度ｋ３及び感度ｋ４には、調整レンズ１１１の回転量によって発生する光軸Ｌに対して垂直な面内の位置の移動によるＰＳ変動成分も含むことに注意する必要がある。

調整レンズ１１１の光軸Ｌに対して垂直な面内における調整レンズ１１１の位置の移動と、調整レンズ１１１の回転は、互いに独立にＰＳ１およびＰＳ２を変動させる。つまり、式（２）、式（３）、式（５）及び式（６）により、下記式（７）及び式（８）が成立つ。

ＰＳ１≒（ｋ１ｘ＋ｋ３ｔ）＋ＰＳｉ１ 式（７）
ＰＳ２≒（ｋ２ｘ＋ｋ４ｔ）＋ＰＳｉ２ 式（８）
したがって、Ｔ面とＳ面の像面傾き、すなわちＰＳ１とＰＳ２を同時に０にするためには、下記式（９）及び式（１０）の連立方程式を解き、光軸Ｌに対して垂直な面内における調整レンズ１１１の位置の調整量ｘ（以降、面内調整量ｘと称する）、及び、調整レンズ１１１の回転調整量ｔを求めればよい。

ＰＳｉ１－（ｋ１ｘ＋ｋ３ｔ）＝０ 式（９）
ＰＳｉ２－（ｋ２ｘ＋ｋ４ｔ）＝０ 式（１０）
ところで、調整レンズ１１１を回転させると、調整レンズ１１１が光軸Ｌに対して垂直な面内の位置の移動し、ＰＳ値が変動する。そのため、前述の通り、回転量単位当たりで変化するＰＳ量の感度ｋ３及び感度ｋ４には、調整レンズ１１１の回転量によって発生する光軸Ｌに対して垂直な面内の位置の移動によるＰＳ変動成分も含む必要がある。

具体的に説明する。図５は、調整レンズ１１１の主点ＰＰから回転中心点ＲＣまでの光軸Ｌ方向の距離Ｄの一例を示す説明図である。図５に示すように、調整レンズ１１１が回転する場合、回転中心点ＲＣの位置によって、下記式（１１）のように光軸Ｌに対して垂直な面内の位置が移動する。

ｘｔ＝Ｄｓｉｎｔ 式（１１）
ここで、Ｄは調整レンズ１１１の主点ＰＰから回転中心点ＲＣまでの光軸Ｌ方向の距離であり（以降、距離Ｄと称する。）、ｘｔは、調整レンズ１１１の回転による、光軸Ｌに対して垂直な面内での調整レンズ１１１の移動量であり（以降、回転による移動量ｘｔと称する。）、ｔは調整レンズ１１１の回転量である。例えば、Ｄ＝１ｍｍ、ｔ＝０．２度である場合、回転による移動量ｘｔはおおよそ３．５μｍとなる。

調整レンズ１１１の調整誤差を小さくするためには、回転による移動量ｘｔより、面内調整量ｘが主であることが望ましい。そのため、回転による移動量ｘｔは、下記式（１２）を満たす必要がある。

｜ｘ／ｘｔ｜≧１ 式（１２）
式（１２）を満足しない、または、式（９）と式（１０）の連立方程式で解が求められない場合、制御部１８０は、回転中心点ＲＣを調整することで、調整レンズ１１１の主点ＰＰから回転中心点ＲＣまでの光軸Ｌ方向の距離を変更し、回転による移動量ｘｔを調整する。その調整方法については後述する。

（回転量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度の算定）
上述したように、距離Ｄは、式（９）と式（１０）の感度ｋ３および感度ｋ４を変動させる主要因である。

当然ながら、感度ｋ３及び感度ｋ４は不変の定数であることが望ましい。しかし距離Ｄは、撮像レンズ製造装置１００の仕様や、撮像レンズ製造装置１００における撮像レンズ１１０の製造環境によって変動し、一定に保つことができない場合がある。

言い換えれば、式（９）および式（１０）における感度ｋ３及び感度ｋ４の値は、実生産において、一定に保つことが困難である場合がある。それは例えば、撮像レンズ製造装置１００が複数ある場合であって、各装置の調整を一定に合わせることが困難である場合や、撮像レンズ製造装置１００の稼働中に撮像レンズ製造装置１００の状態が変動する場合等が考えられる。さらに、例えば、撮像レンズ１１０の製造過程において、調整レンズ１１１を把持する高さがその時々で変動する場合や、調整レンズ１１１の主点ＰＰの高さの個体差が無視できない場合等も考えられる。

そこで、制御部１８０は、タンジェンシャル像面における回転量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度ｋ３、及び、サジタル像面における回転量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度ｋ４を、回転中心点ＲＣを中心として調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させることで算出する。

つまり、制御部１８０は、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させることで、撮像レンズ製造装置１００固有の感度ｋ３及び感度ｋ４を算定する。所定の角度ｔｃは任意に決めることができるが、大きすぎると誤差を生じる可能性があるため、｜ｔｃ｜＜１度とすることが好ましい。例えば、所定の角度ｔｃはθＸ方向に０．５度とすることができる。

制御部１８０は、まず、調整前の撮像レンズ１１０についてデフォーカスＭＴＦ測定を行い、調整前の撮像レンズ１１０についてＴ面の傾きＰＳｉ１及びＳ面の傾きＰＳｉ２を算出する。制御部１８０は、傾きＰＳｉ１及び傾きＰＳｉ２を算出した撮像レンズ１１０について、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させる。制御部１８０は、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させた状態で撮像レンズ１１０のデフォーカスＭＴＦ測定を行う。そして、制御部１８０は、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させた状態での傾きＰＳ、すなわち、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させた状態でのＴ面の傾きＰＳ１ｃと、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させた状態でのＳ面の傾きＰＳ２ｃと、を算出する。

調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させたとき、式（７）および式（８）から下記の関係が成立つ。

ＰＳ１ｃ≒（ｋ１ｘ＋ｋ３ｔｃ）＋ＰＳｉ１ 式（７－１）
ＰＳ２ｃ≒（ｋ２ｘ＋ｋ４ｔｃ）＋ＰＳｉ２ 式（８－１）
ここで、式（７－１）及び式（８－１）において、ｔｃが既知、ＰＳ１ｃ、ＰＳ２ｃ、ＰＳｉ１、ＰＳｉ２が光学性能の測定から既知、またｋ１とｋ２が設計値から不変として既知であり、ｋ３とｋ４とが未知のパラメータとなる。

したがって、制御部１８０は、上記式（７－１）、式（８－１）を解き、下記式（１３）及び式（１４）に基づき、感度ｋ３および感度ｋ４の同定を行うことで、感度ｋ３及び感度ｋ４を算出する。

ｋ３＝（ＰＳ１ｃ－ＰＳｉ１）／ｔｃ 式（１３）
ｋ４＝（ＰＳ２ｃ－ＰＳｉ２）／ｔｃ 式（１４）
（回転中心点ＲＣの調整）
上述したように、式（１２）を満足しない、または、式（９）と式（１０）の連立方程式で解が求められない場合、制御部１８０は、回転中心点ＲＣの位置を調整する。具体的には、調整レンズ１１１の主点ＰＰから本来あるべき回転中心点ＲＣまでの光軸Ｌ方向の距離ｒ（以降、距離ｒ）を算出し、本来あるべき回転中心点ＲＣの位置を導出する。距離ｒは下記式（１５）により算出する。

ｒ＝（ｋ３ｔｃ―ｋ３ｃｔｃ）／（ｋ１ｓｉｎｔｃ） 式（１５）
ここで、ｔｃは、回転中心点ＲＣを中心として調整レンズ１１１を回転させる所定の角度である。ｋ３は、タンジェンシャル像面における回転量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度であり、ｋ１は、タンジェンシャル像面における光軸に対して垂直な面内における移動量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度である。ｋ３ｃは、回転中心点ＲＣの位置が、調整レンズ１１１の主点ＰＰの位置と一致しているとき（距離ｒ＝０のときの）のタンジェンシャル像面における回転量単位当たりの焦点距離の差が変化する感度である（以降、感度ｋ３ｃと称する）。感度ｋ３ｃは、感度ｋ１や感度ｋ２と同じく、調整レンズ１１１の設計値であり、環境により変化しないレンズ固有の定数である。

式（１５）の導出過程を以下に示す。式（１１）のＤにｒを代入したｘｔ＝ｒｓｉｎｔにより、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させたときに発生する回転による移動量ｘｔは、式（１１－１）となる。

ｘｔ＝ｒ×ｓｉｎｔｃ 式（１１－１）
上記ｘｔによるＴａｎＰＳをΔＰＳとして、感度ｋ１を掛け算すると、式（１１－２）となる。

ΔＰＳ＝ｒｋ１ｓｉｎｔｃ 式（１１－２）
式（１１－２）において、ｒ＝０の時はΔＰＳ＝０となる。また、距離ｒの値が変わっても、式（７）のｋ１とＰＳｉ１の値は変わらない。

ｘ＝０で、ｔ＝ｔｃかつｒ＝０でない時のＰＳをＰＳ１ｃ、ｔ＝ｔｃかつｒ＝０の時のＰＳをＰＳ１ｃ´とすると、その差は、ｔｃ傾けたときに発生するｘｔによるＰＳのみ、つまりΔＰＳになる。したがって、下記式（１１－３）が成立つ。

ＰＳ１ｃ－ＰＣ１ｃ´＝ΔＰＳ 式（１１－３）
式（１１）かつｘ＝０と、式（１１－２）とから、下記式（１１－４）が成立つ。

ｋ３ｔｃ－ｋ３ｃｔｃ＝ｒｋ１ｓｉｎｔｃ 式（１１－４）
これにより、ｒ＝（ｋ３ｔｃ―ｋ３ｃｔｃ）／（ｋ１ｓｉｎｔｃ） 式（１５）が導出される。

制御部１８０は、距離ｒとなるように、回転中心点ＲＣの位置を調整する。制御部１８０は、調整レンズ１１１の主点ＰＰから調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させた際の回転中心点ＲＣまでの光軸Ｌ方向の距離と、距離ｒとの差に基づき、回転中心点ＲＣの位置を調整してもよい。なお、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させる際の回転中心点ＲＣの位置は、例えば過去の実績値等により決定される。

制御部１８０は、回転中心点ＲＣを調整する場合、マニュアル的に装置の手動で調整を実施してもよい。また、制御部１８０は、図示しない回転中心点ＲＣの自動調整機構を備え、自動で回転中心点ＲＣの調整をおこなってもよい。これにより、距離ｒ算出後、速やかに調整を行うことができるので、回転中心点ＲＣの調整で撮像レンズ製造装置１００を長時間止めることなく、連続的に稼働を続けることが可能となる。

また、距離ｒは、０ｍｍ≦ｒ≦６ｍｍに調整することが望ましい。距離ｒが０より小さくなると、調整レンズ１１１の回転により、調整レンズ１１１と固定レンズ１１２とが衝突するおそれがあり、距離ｒが６ｍｍより大きくなると、式（１２）を満たすことが難しくなるためである。

例えば、調整レンズ１１１の面内調整量ｘ＝１００μｍ、調整レンズ１１１の回転調整量ｔ＝１度であるとき、式（１１）及び式（１２）により、ｒ≦（ｘ／ｓｉｎｔ）となり、式（１２）を満たす距離ｒの上限が約５．７ｍｍとなる。なお、ここでは、式（１１）の距離Ｄを距離ｒとして説明している。

調整レンズ１１１の面内調整量ｘ及び調整レンズ１１１の回転調整量ｔは、上記で例示した調整レンズ１１１の面内調整量ｘが１００μｍ程度、調整レンズ１１１の回転調整量ｔが１度程度を限度とすることが想定される。上記限度を超える調整量が必要な場合は、通常、厳しい組立精度を求められるスマートフォン等向けの撮像レンズ１１０では光学性能が全く出ず、傾きＰＳを測定することもできないからである。したがって、距離ｒは、０ｍｍ≦ｒ≦６ｍｍに調整することが望ましい。

（調整像高の設定）
調整像高の設定は像面の傾きの算出に関わる。図６及び図７を用いて、調整像高の設定について説明する。図６は、傾きＰＳと焦点位置との関係を示す模式図である。図６の横軸は理想像面上の像高の位置を示し、縦軸は光軸Ｌ方向の焦点位置を示す。図６に示す、ＦＰ０、ＦＰ１及びＦＰ２は、それぞれ、図４に示す光軸光束ＲＩＨ０、光束ＲＩＨ１及び光束ＲＩＨ２の焦点位置である。また、図６に示す、像高ＩＨ１Ｇ及び像高ＩＨ２Ｇは、像面に傾きがない場合の光束ＲＩＨ１及び光束ＲＩＨ２の理想像面上の合焦点であり、調整像高と一致する。

図６に示すように、傾きＰＳは、焦点位置ＦＰ１と焦点位置ＦＰ２の差となる。そのため、像面の傾き角度が同じであったとしても、調整像高が大きくなるほど、傾きＰＳの絶対値が大きくなるのは明らかである。言い換えれば、調整像高が大きいほど、像面の傾きによる影響が反映されやすいため、調整像高が大きいほど、調整レンズ１１１の調整量に対する傾きＰＳの感度が大きいといえる。したがって、調整レンズ１１１の調整量を算出する際には調整像高が大きいほど精度が高くなり好ましい。

傾きＰＳを求めるための調整像高の絶対値は、撮像レンズ１１０のイメージサークル半径の６割以上であることが望ましい。また、光学系のイメージサークル端である１０割（最大像高）以降は一般的な光学設計において諸公差が大きくなる為、焦点位置を取得する上で、調整精度の悪化を招くことがある。そのため、調整像高はイメージサークル半径の６割から９割が好ましい。

ただし、イメージサークル半径の６割以上の調整像高（第１調整像高、以降、大調整像高と称する）に基づく調整レンズ１１１の調整は、傾きＰＳの感度が大きくなるため、下記のような問題がある。すなわち、例えば、調整レンズ１１１の調整前の設置位置が固定レンズ１１２の光軸Ｌから大きく外れているような場合、調整レンズ１１１で大きな調整量が必要となる。この場合において、焦点位置ＦＰ１及び焦点位置ＦＰ２がデフォーカス範囲を外れると、ＭＴＦの評価ができず像面の傾きを検出できないことがある。

上記問題の対策として、デフォーカス範囲を広げることが考えられるが、これは撮像レンズ製造装置１００での生産に要する時間を増やすことになり、生産効率を下げることになる。

またデフォーカス範囲を広げたとしても、傾きＰＳが大きい場合、一般的に大調整像高におけるＭＴＦは大きく値が下がる傾向が有り、焦点位置ＦＰ１及び焦点位置ＦＰ２の検出精度は、著しく低下する。

そのため、大調整像高において像面の傾きを検出できない場合、イメージサークル半径の１割から５割（第２調整像高、以下、小調整像高と称する）で調整レンズ１１１の調整を行うことも有効である。

図７は、各光束において光軸Ｌ方向の位置と光学性能との関係を示す模式図である。図７の横軸は光軸Ｌ方向の位置を示し、縦軸は光学性能を示す。一例として、図１に示す撮像レンズ製造装置１００を用いて、図７について以下に説明する。

図７のグラフ６０は、図１に示す光軸光束ＲＬの光軸Ｌ方向の位置における光学性能を示す。ここで、光学性能にはＭＴＦが適用できる。図７のグラフ６１及びグラフ６２は、図１に示す一対の第１光束Ｒａの光軸Ｌ方向の位置における光学性能を示す。図７のグラフ６３及びグラフ６４は、図１に示す一対の第２光束Ｒｂの光軸Ｌ方向の位置における光学性能を示す。つまり、図７のグラフ６１及びグラフ６２は、大調整像高に対応する第１光束Ｒａの光学性能を示し、図７のグラフ６３及びグラフ６４は、小調整像高に対応する第２光束Ｒｂの光学性能を示す。

グラフ６０からグラフ６４において、それぞれ光学性能が最大となる光軸Ｌ方向の位置が、各光束の焦点位置となり、焦点位置ＦＰ３及び焦点位置ＦＰ４は、小調整像高に対応する一対の第２光束Ｒｂの各々の焦点位置を示す。

図７には、小調整像高に対応する第２光束Ｒｂにより算出された傾きＰＳ及びデフォーカス範囲が示されている。図７に示すように、小調整像高では調整レンズ１１１の調整量に対する感度が小さいことから、焦点位置ＦＰ３及び焦点位置ＦＰ４（小調整像高による傾きＰＳ）が、デフォーカスの範囲を外れにくくなる。また、光学性能の劣化も比較的少ないため、焦点位置ＦＰ３及び焦点位置ＦＰ４を検出しやすい。

本実施形態では、大調整像高に対応する位置だけでなく、小調整像高に対応する位置にもセンサー１２１及びスリット１５１を配置している。これにより、２つの調整像高について一度のデフォーカス動作で同時に傾きＰＳを取得することができるので、より高精度な調整を行うことができる。

また、例えば大調整像高での傾きＰＳの値が一定の閾値を超える場合や、大調整像高での傾きＰＳの測定が不能であった場合に、小調整像高での傾きＰＳで調整量を計算して、調整レンズ１１１の調整を行うことができる。

また、例えば、調整レンズ１１１の調整を、大調整像高と小調整像高とで、ラフ調整と本調整の２回以上に分けることで、ラフ調整での調整量を抑えることができる。これにより、大きな調整量を必要とする場合であっても、デフォーカス範囲を抑えながら、高精度な撮像レンズ１１０の調整を行うことができる。

（撮像レンズの製造方法）
本実施形態の撮像レンズ製造装置１００を用いて、撮像レンズ１１０の製造を実現する方法の一例を説明する。なお、以下の例では、調整像高が大調整像高と小調整像高との２種あり、１つの調整像高につき、同心円上の各４個の点において調整に用いるＭＴＦを検出するものとする。つまり、センサー１２１は、図１に示す撮像レンズ製造装置１００と同様に９つ配置され、レチクル１５０に配置されるスリット１５１も、センサー１２１に対応して配置されている。なお、大調整像高は、イメージサークル半径の６割以上の調整像高（第１調整像高）を示し、小調整像高は、イメージサークル半径の１割から５割の調整像高（第２調整像高）を示す。

図８は、本実施形態の撮像レンズ製造装置１００による撮像レンズ１１０の製造方法の一例を示すフローチャートである。

ステップＳ０１において、制御部１８０は、撮像レンズ１１０の光学性能測定（デフォーカスＭＴＦ測定）を実施する。より詳細には、まず、デフォーカス機構１７０によって撮像レンズ１１０を微小ステップずつデフォーカスするごとに、光検出部１２０によりスリット１５１を透過した光束の検出を行う。

次に、光検出部１２０が検出した各光束の像について、制御部１８０は、撮像レンズ１１０の光学性能として、Ｔ面及びＳ面のＭＴＦを導出する。そして、制御部１８０は、ＭＴＦにより算出された焦点位置から、調整前のＴ面の傾きに相当するＴ面における調整前の焦点距離の差ＰＳｉ１、及び調整前のＳ面の傾きに相当するＳ面における調整前の焦点距離の差ＰＳｉ２を算出する。

ステップＳ０２において、制御部１８０は、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させるようにレンズ調整機構１３０を制御する。なお、このときの回転中心点ＲＣは、例えば、過去の実績値等により決定される。

ステップＳ０３において、制御部１８０は、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させた状態のまま、再度撮像レンズ１１０の光学性能測定（デフォーカスＭＴＦ測定）を行う。制御部１８０は、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させた状態でのＴ面における焦点距離の差ＰＳ１ｃ、Ｓ面における焦点距離の差ＰＳ２ｃを算出する。

ステップＳ０４において、制御部１８０は、式（１３）及び式（１４）を用いて感度ｋ３及び感度ｋ４の同定を行う。

その後、ステップＳ０４－１において、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させた状態から、所定の角度ｔｃ回転させる前の状態（Ｓ０１の状態）に戻す。

ステップＳ０５において、制御部１８０は、式（９）及び式（１０）の連立方程式を解くことにより、式（１２）を満たす面内調整量ｘと、回転調整量ｔと、を求める。なお、ステップＳ０５において、式（９）及び式（１０）のｋ３及びｋ４には、ステップＳ０４で算出された値が代入され、式（９）及び式（１０）のＰＳｉ１及びＰＳｉ２には、ステップＳ０１で算出されたＰＳｉ１およびＰＳｉ２が代入される。

また、前述のステップＳ０２からステップＳ０５の手順は、光軸Ｌに対して垂直な面内における互いに垂直な２軸方向（Ｘ軸方向およびＹ軸方向）のうち、いずれかの軸方向（例えばＸ軸方向）での調整レンズ１１１の面内調整量ｘ及び回転調整量ｔを実施する手順を記載している。しかしながら、センサー１２１及びスリット１５１の対は、Ｘ軸方向とＹ軸方向にそれぞれ配置している。したがって、いずれかの一方の軸方向（例えばＸ軸方向）だけでなく他の軸方向（例えば、Ｙ軸方向）での調整レンズ１１１の面内調整量ｘ及び回転調整量ｔについても、同時に算出される。

次に、ステップＳ０６において、制御部１８０は、ステップＳ０５で面内調整量ｘと回転調整量ｔの解が得られたかどうかを判断する。ステップＳ０５において、面内調整量ｘと回転調整量ｔの解が得られた場合（ステップＳ０６でＹＥＳ）、ステップＳ０７において、レンズ調整機構１３０は、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させる前に戻した状態（Ｓ０１の状態）から、調整レンズ１１１の面内調整量ｘ及び回転調整量ｔの調整を実施する。

一方、制御部１８０は、ステップ０５において面内調整量ｘと回転調整量ｔの解が得られなかった場合（ステップＳ０６でＮＯ）、ステップＳ０８において、制御部１８０は式（１５）により距離ｒを算出する。次に、ステップＳ０９において、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させる前に戻した状態（Ｓ０１の状態）で、制御部１８０は調整レンズ１１１の主点ＰＰから、回転の中心点ＲＣまでの光軸Ｌ方向の距離が、算出した距離ｒとなるように、回転の中心点ＲＣを調整し、ステップＳ０１の処理に戻る。

なお、本製造方法においいて、ステップＳ０１の前に、撮像レンズ１１０における調整レンズ１１１を、固定レンズ１１２から離隔させてもよい。

〔実施形態２〕
本発明の実施形態２に係る撮像レンズ製造装置２００について、以下に説明する。なお、説明の便宜上、実施形態１にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。また、像高に関する説明、制御部１８０Ａにおける撮像レンズ１１０の像面の傾きの求め方、像面の傾きからの調整レンズ１１１の調整量の算出方法、及び調整レンズ１１１の調整方法については実施形態１と同様であるため、その説明を省略する。

図９は、本発明の実施形態２に係る撮像レンズ製造装置２００の概略構成の一例を示す模式図である。図９に示すように、撮像レンズ製造装置２００は、光検出部１２０、レチクル１５０、光源１６０及び制御部１８０に代えてチャート２１０、撮像素子２２０及び制御部１８０Ａを備えることが撮像レンズ製造装置１００と異なり、その他の構成は同じである。

これにより、撮像素子２２０による出力に基づき調整レンズ１１１の調整を行うことができるので、より製品に近い条件で調整レンズ１１１の調整を実現することができる。

（撮像レンズ製造装置２００）
撮像レンズ製造装置２００は、複数枚のレンズを備える撮像レンズ１１０であって、複数枚のレンズのうちの一部のレンズが、組み立て時の調整レンズ１１１として構成されている撮像レンズ１１０を製造する、撮像レンズ製造装置である。

また、撮像レンズ製造装置２００は、レンズ調整機構１３０と、ステージ１４０と、デフォーカス機構１７０と、制御部１８０Ａと、チャート２１０と、撮像素子２２０と、を備えている。レンズ調整機構１３０、ステージ１４０及びデフォーカス機構１７０は、撮像レンズ製造装置１００と同様の機能を有する。

チャート２１０には、撮像レンズ１１０のタンジェンシャル方向及びサジタル方向の光学性能が評価可能であるようにチャートパターン２１１（パターン）が形成されている。

図１０は、撮像レンズ製造装置２００のチャート２１０の一例を示す上面図である。図１０に示すように、チャート２１０は、複数のチャートパターン２１１を有する。図１０において、チャートパターン２１１は長方形の形状で形成されているが、上記に限らない。チャートパターン２１１はタンジェンシャル方向とサジタル方向の光学性能を、直接的あるいは計算により間接的に求められればよく、その大きさと形状を制限する必要はない。例えば、チャートパターン２１１は台形形状であってもよく、円状形状であってもよい。

チャートパターン２１１は、例えば１つのチャートパターン２１１が、撮像レンズ１１０の中心像高の位置に配置され、それ以外のチャートパターン２１１が、撮像レンズ１１０の周辺像高の位置に配置されている。

具体的には、チャートパターン２１１は、光軸Ｌの位置に配置されるチャートパターン２１１Ｌと、周辺像高に位置するその他のチャートパターン２１１を備えている。周辺像高に位置するその他のチャートパターン２１１は、各々一対を成している。図１０には、複数の一対のチャートパターン２１１の一部の例として、一対のチャートパターン２１１ａ・２１１ｂを示している。一対のチャートパターン２１１ａは光軸Ｌに対して対称であり、同様に、一対のチャートパターン２１１ｂは光軸Ｌに対して対称である。例えば、一対のチャートパターン２１１ａは、第１調整像高（イメージサークル半径の６割以上の調整像高）に配置され、一対のチャートパターン２１１ｂが、第２調整像高（イメージサークル半径の１割から５割の調整像高）に配置されていてもよい。ただし、チャートパターン２１１の数は図示に制限されず、チャートパターン２１１Ｌと、少なくとも１つの一対のチャートパターン２１１があればよい。

チャート２１０は、撮像レンズ１１０に対して所定側に配置され、図示せぬ撮像レンズ製造装置２００の固定部に固定されている。

撮像素子２２０は、撮像レンズ１１０によってチャート２１０を撮像する。撮像素子２２０は、撮像レンズ１１０に対して、チャート２１０とは反対側に配置されている。撮像素子２２０は、各チャートパターン２１１を撮像可能に配置され、撮像レンズ１１０を介して各チャートパターン２１１を撮像する。撮像素子２２０は、撮像したチャートパターン２１１の撮像データを制御部１８０Ａに出力する。

制御部１８０Ａは、デフォーカス機構１７０を制御して、デフォーカス動作をさせながら撮像素子２２０の出力信号から撮像レンズ１１０の光学性能を導出する。また、制御部１８０Ａは、光学性能を導出した結果に基づいて、タンジェンシャル像面及びサジタル像面の焦点距離の差を算出し、算出したタンジェンシャル像面及びサジタル像面の焦点距離の差に基づいて、レンズ調整機構１３０を制御する。

具体的には、制御部１８０Ａは、撮像素子２２０が出力するチャートパターン２１１の撮像データから、撮像レンズ１１０の光学性能として、ＳＦＲ（Ｓｐａｔｉａｌ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｒｅｓｐｏｎｓｅ）を導出する。ここで、ＭＴＦとＳＦＲは、検出手段が異なるものの共に光学性能（解像力）を評価する指標であり、本発明における光学性能評価においては、同等の測定指標として扱うものとする。

また、制御部１８０Ａは、デフォーカス機構１７０を制御してステージ１４０を駆動させ、デフォーカス動作をさせながら撮像素子２２０の出力信号から撮像レンズの光学性能を導出することで、デフォーカスに対応したＳＦＲの評価をすることができる。これにより、制御部１８０Ａは、撮像レンズ１１０の調整像高における焦点情報を取得することができる。

さらに、制御部１８０Ａは撮像レンズ１１０の像面の傾きから調整レンズ１１１の調整量を求めることができ、制御部１８０Ａが求めた撮像レンズ１１０の調整量について、制御部１８０Ａはレンズ調整機構１３０を制御して撮像レンズ１１０の調整を行う。

（撮像レンズの製造方法）
図８を参照し、本実施形態の撮像レンズ製造装置２００を用いて、撮像レンズ１１０の製造を実現する方法を説明する。なお、以下の例では、チャートパターン２１１が大調整像高と小調整像高とに配置され、１つの調整像高につき、同心円上の各４個の点において調整に用いるＳＦＲを検出するものとする。つまり、チャートパターン２１１は９つ配置され、撮像素子２２０は各チャートパターンを撮像可能に配置されている。

撮像レンズ製造装置２００における撮像レンズ１１０の製造方法は、ステップＳ０１及びステップＳ０３のみが撮像レンズ製造装置１００と異なり、その他のステップについては撮像レンズ製造装置１００と同様である。

ステップＳ０１において、制御部１８０Ａは、撮像レンズ１１０の光学性能測定（デフォーカスＳＦＲ測定）を実施する。より詳細には、まず、デフォーカス機構１７０によって撮像レンズ１１０を微小ステップずつデフォーカスするごとに、撮像素子２２０によりチャートパターン２１１を撮像する。

次に、撮像素子２２０が撮像したチャートパターン２１１の撮像データについて、制御部１８０Ａは、撮像レンズ１１０の光学性能として、Ｔ面及びＳ面のＳＦＲを導出する。そして、制御部１８０Ａは、ＳＦＲにより算出された焦点位置から、調整前のＴ面の傾きに相当するＴ面における調整前の焦点距離の差ＰＳｉ１、及び調整前のＳ面の傾きに相当するＳ面における調整前の焦点距離の差ＰＳｉ２を算出する。

ステップＳ０２において、制御部１８０Ａは、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させるようにレンズ調整機構１３０を制御する。

ステップＳ０３において、制御部１８０Ａは、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させた状態のまま、再度撮像レンズ１１０の光学性能測定（デフォーカスＳＦＲ測定）を行う。制御部１８０Ａは、調整レンズ１１１を所定の角度ｔｃ回転させた状態でのＴ面における焦点距離の差ＰＳ１ｃ、Ｓ面における焦点距離の差ＰＳ２ｃを算出する。以降ステップＳ０４からステップＳ０９については、実施形態１と同様である。

〔実施形態３〕
本発明の実施形態３に係るカメラモジュール製造装置３００について、以下に説明する。なお、説明の便宜上、上述の実施形態にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。また、像高に関する説明、制御部１８０Ａにおける撮像レンズ１１０の像面の傾きの求め方、像面の傾きからの調整レンズ１１１の調整量の算出方法、及び調整レンズ１１１の調整方法については上述の実施形態と同様であるため、その説明を省略する。

図１１は、本発明の実施形態３に係るカメラモジュール製造装置３００の概略構成の一例を示す模式図である。図１１に示すように、カメラモジュール製造装置３００は、カメラモジュール半完成品３１０に対して、調整レンズ１１１で光学性能の調整を行うことが撮像レンズ製造装置２００と異なり、その他の構成は同じである。

本実施形態によれば、カメラモジュールの最終製品で最適な光学性能に調整を行うことができる。その結果、タンジェンシャル像面及びサジタル像面それぞれの像面の傾きを抑えた、より高精度な撮像レンズを備えたカメラモジュールを製造可能なカメラモジュール製造装置３００を実現することができる。

（カメラモジュール製造装置３００）
カメラモジュール製造装置３００は、複数枚のレンズを備える撮像レンズ１１０であって、複数枚のレンズのうちの一部のレンズが、組み立て時の調整レンズ１１１として構成されている撮像レンズ１１０と、撮像素子２２０と、を有するカメラモジュールを製造する。

カメラモジュール製造装置３００は、上述したように、カメラモジュール半完成品３１０に対して、調整レンズ１１１で光学性能の調整を行い、カメラモジュールの製造を行う装置である。カメラモジュール製造装置３００は、レンズ調整機構１３０と、ステージ１４０と、デフォーカス機構１７０と、制御部１８０Ａと、チャート２１０と、を備えている。レンズ調整機構１３０、ステージ１４０、デフォーカス機構１７０、制御部１８０Ａ及びチャート２１０は、撮像レンズ製造装置２００と同様の機能を有する。

カメラモジュール半完成品３１０は、撮像レンズ１１０と、レンズバレル１１３と、撮像素子２２０と、レンズホルダ３２０と、センサーカバー３３０と、基板３４０と、を備えている。

レンズホルダ３２０は、レンズホルダ３２０の内面に、固定レンズ１１２を保持するレンズバレル１１３を接着剤で固定し、固定レンズ１１２を保持する。レンズホルダ３２０はセンサーカバー３３０の上面に固定される。また、センサーカバー３３０は基板３４０を介してステージ１４０に固定されている。これにより、ステージ１４０はカメラモジュール半完成品３１０を保持する。また、これにより、ステージ１４０は、少なくても固定レンズ１１２を保持する。

レンズホルダ３２０は、撮像レンズ１１０を光軸Ｌ方向、あるいは光軸Ｌ方向に垂直な方向に駆動するための、アクチュエータ機能を有していてもよい。撮像レンズ１１０が光軸Ｌ方向あるいは光軸Ｌ方向に垂直な方向に駆動することで、オートフォーカスや手振れ補正機能を実現することができる。

センサーカバー３３０は、内部に撮像素子２２０を収容する。センサーカバー３３０の上方（Ｚ軸方向＋側）の面には、撮像素子２２０のチャートパターン２１１の撮像を妨げないように開口部３３０ａが設けられている。センサーカバー３３０の下端と基板３４０の上面とは接着剤で固定されている。撮像レンズ１１０における固定レンズ１１２は、撮像素子２２０に対して、光軸Ｌ方向の位置が精密に保持されていることが望ましい。

基板３４０は、撮像素子２２０の入出力信号を制御部１８０Ａと通信する回路を内包する。撮像素子２２０の下面（撮像レンズ１１０側とは反対側の面）は、基板３４０の上面（撮像レンズ１１０側の面）に接着剤で固定されている。

また、カメラモジュール半完成品３１０は図示しない赤外線カットフィルターを内包していてもよい。赤外線カットフィルターは、センサーカバー３３０において開口部３３０ａに蓋をするように接着されており、撮像素子２２０への不要な波長の光線の侵入を防ぐだけでなく、撮像素子２２０への異物の付着を防ぐ役割を有する。

なお、カメラモジュール製造装置３００のカメラモジュール製造方法における撮像レンズ１１０の調整は、撮像レンズ製造装置２００と同様に行われる。

〔効果〕
撮像レンズ１１０の光軸Ｌの傾きに合わせて、撮像レンズ１１０またはイメージセンサーの傾きを調整する製造手法は、一般的にアクティブアライメント（以後、ＡＡ）と呼ばれ、カメラモジュールの製造手法として知られている。ただし、ＡＡを行うためには専用の装置を必要とし、装置が高価であることや、製造プロセスが複雑になる問題がある。

また、ＡＡは撮像レンズ１１０の性能を最大限に活用できることから有効なカメラモジュールの製造手法ではあるが、無制限に撮像レンズ１１０の光軸Ｌ傾きを吸収できるものではない。大きく光軸Ｌの傾いた撮像レンズ１１０を使用することは、カメラモジュール製造プロセスの良品率を下げることに繋がりかねない。

したがって、撮像レンズ１１０の調整手段において光軸Ｌの傾きは極力避けるべきものであり、前述の特許文献１における調整手段は、カメラモジュール製造の観点から問題が有る。

それに対して、上述の実施形態の撮像レンズ製造装置１００・２００及びカメラモジュール製造装置３００では、撮像レンズ１１０の調整において光軸Ｌを傾けるものではなく、調整レンズ１１１を光軸Ｌに垂直な面内で移動及び回転させて撮像レンズ１１０の調整を行うものである。その結果、タンジェンシャル像面及びサジタル像面それぞれの像面の傾き、つまり撮像レンズ１１０の光軸Ｌの傾きを抑えた、高精度な撮像レンズ１１０またはカメラモジュールが製造可能となる。また、これによりカメラモジュール製造プロセスの良品率の低下を抑制することができる。

〔ソフトウェアによる実現例〕
撮像レンズ製造装置１００・２００及びカメラモジュール製造装置３００の制御部１８０・１８０Ａの機能は、当該制御部１８０・１８０Ａとしてコンピュータを機能させるためのプログラムにより実現することができる。

この場合、上記装置は、上記プログラムを実行するためのハードウェアとして、少なくとも１つの制御装置（例えばプロセッサ）と少なくとも１つの記憶装置（例えばメモリ）を有するコンピュータを備えている。この制御装置と記憶装置により上記プログラムを実行することにより、上記各実施形態で説明した各機能が実現される。

上記プログラムは、一時的ではなく、コンピュータ読み取り可能な、１または複数の記録媒体に記録されていてもよい。この記録媒体は、上記装置が備えていてもよいし、備えていなくてもよい。後者の場合、上記プログラムは、有線または無線の任意の伝送媒体を介して上記装置に供給されてもよい。

また、上記各制御ブロックの機能の一部または全部は、論理回路により実現することも可能である。例えば、上記各制御ブロックとして機能する論理回路が形成された集積回路も本発明の範疇に含まれる。この他にも、例えば量子コンピュータにより上記各制御ブロックの機能を実現することも可能である。

また、上記各実施形態で説明した各処理は、ＡＩ（Artificial Intelligence：人工知能）に実行させてもよい。この場合、ＡＩは上記制御装置で動作するものであってもよいし、他の装置（例えばエッジコンピュータまたはクラウドサーバ等）で動作するものであってもよい。

〔まとめ〕
本発明の態様１に係る撮像レンズ製造装置（１００）は、複数枚のレンズを備える撮像レンズ（１１０）であって、前記複数枚のレンズのうちの一部のレンズが、組み立て時の調整レンズ（１１１）として構成されている撮像レンズを製造する、撮像レンズ製造装置であって、少なくとも前記調整レンズ以外の前記レンズ（固定レンズ１１２）を保持するステージ（１４０）と、前記調整レンズを保持し、かつ、前記撮像レンズの光軸（Ｌ）に対して垂直な面内における、前記調整レンズ以外の前記レンズに対する前記調整レンズの位置を調整可能とするレンズ調整機構（１３０）と、光源（１６０）と、前記撮像レンズと前記光源との間に配置され、前記光源からの光を透過する３つ以上のスリット（１５１）を有するレチクル（１５０）と、前記光源からの光が、前記スリットを透過することで得られた複数の光束を、前記撮像レンズを介してそれぞれ検出する、複数のセンサー（１２１）を有する光検出部（１２０）と、を備え、前記レンズ調整機構はさらに、前記光軸に対する前記調整レンズの傾き角度を調整可能であり、前記傾き角度の調整は、前記光軸上に位置する回転中心点（ＲＣ）を中心として前記調整レンズが回転することにより行われる。

上記の構成によれば、撮像レンズ製造装置は、光軸に対する調整レンズの傾き角度を調整可能であるので、タンジェンシャル像面及びサジタル像面それぞれの像面の傾きを抑え、光軸Ｌを傾かせることなく調整レンズの調整を実現することができる。その結果、タンジェンシャル像面及びサジタル像面それぞれの像面の傾きを抑えた、より高精度な撮像レンズを製造可能な撮像レンズ製造装置を実現することができる。

本発明の態様２に係る撮像レンズ製造装置（１００）は、上記態様１において、制御部を更に備え、前記制御部は、前記センサー（１２１）が検出した前記光束による画像から前記撮像レンズ（１１０）の光学性能を導出するとともに、前記光学性能を導出した結果に基づいて、タンジェンシャル像面及びサジタル像面の傾きを算出し、算出した前記タンジェンシャル像面及び前記サジタル像面の傾きに基づいて、前記レンズ調整機構（１３０）を制御してもよい。

上記の構成によれば、撮像レンズ製造装置は、レンズの製品としての光学性能を基に撮像レンズの調整を行うことができるため、高精度な撮像レンズの製造を実現することができる。

本発明の態様３に係る撮像レンズ製造装置（２００）は、複数枚のレンズを備える撮像レンズ（１１０）であって、前記複数枚のレンズのうちの一部のレンズが、組み立て時の調整レンズ（１１１）として構成されている撮像レンズを製造する、撮像レンズ製造装置であって、少なくとも前記調整レンズ以外の前記レンズ（固定レンズ１１２）を保持するステージ（１４０）と、前記調整レンズを保持し、かつ、前記撮像レンズの光軸（Ｌ）に対して垂直な面内における、前記調整レンズ以外の前記レンズに対する前記調整レンズの位置を調整可能とするレンズ調整機構（１３０）と、前記撮像レンズのタンジェンシャル方向及びサジタル方向の光学性能が評価可能であるようにパターン（２１１）が形成されているチャート（２１０）と、前記撮像レンズによって前記チャートを撮像する撮像素子（２２０）と、を備え、前記レンズ調整機構はさらに、前記光軸に対する前記調整レンズの傾き角度を調整可能であり、前記傾き角度の調整は、前記光軸上に位置する回転中心点（ＲＣ）を中心として前記調整レンズが回転することにより行われる。

上記の構成によれば、撮像レンズ製造装置は、光軸に対する調整レンズの傾き角度を調整可能であるので、タンジェンシャル像面及びサジタル像面それぞれの像面の傾きを抑え、光軸Ｌを傾かせることなく調整レンズの調整を実現することができる。

また、撮像素子による出力に基づき調整レンズの調整を行うので、より製品に近い条件で調整レンズの調整を実現することができる。その結果、タンジェンシャル像面及びサジタル像面それぞれの像面の傾きを抑えた、より高精度な撮像レンズを製造可能な撮像レンズ製造装置を実現することができる。

本発明の態様４に係る撮像レンズ製造装置（２００）は、上記態様３において、制御部を更に備え、前記制御部は、前記撮像素子（２２０）の出力信号から前記撮像レンズ（１１０）の光学性能を導出するとともに、前記光学性能を導出した結果に基づいて、タンジェンシャル像面及びサジタル像面の傾きを算出し、算出した前記タンジェンシャル像面及び前記サジタル像面の傾きに基づいて、前記レンズ調整機構（１３０）を制御してもよい。

上記の構成によれば、撮像レンズ製造装置は、レンズの製品としての光学性能を基に撮像レンズの調整を行うことができるため、高精度な撮像レンズの製造を実現することができる。

本発明の態様５に係る撮像レンズ製造装置（１００・２００）は、上記態様１から４において、前記光軸（Ｌ）に対して垂直な面内における前記調整レンズ（１１１）の位置を調整する場合の、前記調整レンズの位置の調整量ｘ、及び、前記傾き角度を調整する場合の、前記調整レンズの回転調整量ｔは、式（Ｅ１）、式（Ｅ２）及び式（Ｅ３）：ＰＳｉ１－（ｋ１ｘ＋ｋ３ｔ）＝０ 式（Ｅ１）、ＰＳｉ２－（ｋ２ｘ＋ｋ４ｔ）＝０ 式（Ｅ２）、｜ｘ／ｘｔ｜≧１ 式（Ｅ３）、ＰＳｉ１：タンジェンシャル像面における焦点距離の差、ＰＳｉ２：サジタル像面における焦点距離の差、ｋ１：タンジェンシャル像面における光軸に対して垂直な面内における移動量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度、ｋ２：サジタル像面における光軸に対して垂直な面内における移動量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度、ｋ３：タンジェンシャル像面における回転量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度、ｋ４：サジタル像面における回転量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度、ｘｔ：調整レンズの回転による光軸に対して垂直な面内における移動量を満たしてもよい。

上記の構成によれば、式（Ｅ１）及び式（Ｅ２）は調整レンズの垂直な面内における調整レンズの位置の調整量及び調整レンズの回転調整量を規定する。式（Ｅ１）及び式（Ｅ２）を満たすことで、タンジェンシャル像面及びサジタル像面それぞれの像面の傾きを抑制して、調整レンズを調整することができる。また、式（Ｅ１）及び式（Ｅ２）により撮像レンズ全体の光軸傾きを抑えつつ、調整レンズの垂直な面内における調整レンズの位置の調整量及び調整レンズの回転調整量を簡易な計算により、瞬時に算出することができる。

本発明の態様６に係る撮像レンズ製造装置（１００・２００）は、上記態様５において、前記タンジェンシャル像面における回転量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度（ｋ３）、及び、前記サジタル像面における回転量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度（ｋ４）は、前記回転中心点（ＲＣ）を中心として前記調整レンズ（１１１）を所定の角度（ｔｃ）回転させることで算出されてもよい。

上記の構成によれば、撮像レンズ製造装置及び撮像レンズの保持状態に左右されることなく、最適な調整レンズの垂直な面内における調整レンズの位置の調整量及び調整レンズの回転調整量を算出することができる。

本発明の態様７に係る撮像レンズ製造装置（１００・２００）は、上記態様６において、前記調整レンズの主点から前記回転中心点までの光軸方向の距離ｒを、式（Ｅ４）：ｒ＝（ｋ３ｔｃ―ｋ３ｃｔｃ）／（ｋ１ｓｉｎｔｃ） 式（Ｅ４）、ｔｃ：回転中心点を中心として調整レンズを回転させる所定の角度、ｋ３：タンジェンシャル像面における回転量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度、ｋ１：タンジェンシャル像面における光軸に対して垂直な面内における移動量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度、ｋ３ｃ：ｒ＝０の時のタンジェンシャル像面における回転量単位当たりの焦点距離の差が変化する感度、としてもよい。

上記の構成によれば、式（Ｅ４）により、調整レンズの主点から回転中心点までの光軸方向の距離を瞬時に算出することができ、回転中心点の位置の変動を監視することができるため、撮像レンズ製造装置の保守において有効となる。

本発明の態様８に係るカメラモジュール製造装置（３００）は、複数枚のレンズを備える撮像レンズ（１１０）であって、前記複数枚のレンズのうちの一部のレンズが、組み立て時の調整レンズ（１１１）として構成されている撮像レンズと、撮像素子（２２０）と、を有するカメラモジュール（３１０）を製造する、カメラモジュール製造装置であって、前記カメラモジュールを保持するステージ（１４０）と、前記調整レンズを保持し、かつ、前記撮像レンズの光軸（Ｌ）に対して垂直な面内における、前記調整レンズ以外の前記レンズ（固定レンズ１１２）に対する前記調整レンズの位置を調整可能とするレンズ調整機構（１３０）と、前記撮像レンズのタンジェンシャル方向及びサジタル方向の光学性能が評価可能であるようにパターン（２１１）が形成されているチャート（２１０）と、を備え、前記レンズ調整機構はさらに、前記光軸に対する前記調整レンズの傾き角度を調整可能であり、前記傾き角度の調整は、前記撮像レンズの光軸上に位置する回転中心点（ＲＣ）を中心として前記調整レンズが回転することにより行われる。

上記の構成によれば、カメラモジュール製造装置は、光軸に対する調整レンズの傾き角度を調整可能であるので、タンジェンシャル像面及びサジタル像面それぞれの像面の傾きを抑え、光軸Ｌを傾かせることなく調整レンズの調整を実現することができる。

また、撮像素子による出力に基づき調整レンズの調整を行うので、より製品に近い条件で調整レンズの調整を実現することができる。さらに、カメラモジュールの最終製品で最適な光学性能に調整を行うことができる。その結果、タンジェンシャル像面及びサジタル像面それぞれの像面の傾きを抑えた、より高精度な撮像レンズを製造可能なカメラモジュール製造装置を実現することができる。

本発明の態様９に係るカメラモジュール製造装置（３００）は、上記態様８において、制御部を更に備え、前記制御部は、前記撮像素子（２２０）の出力信号から前記撮像レンズ（１１０）の光学性能を導出するとともに、前記光学性能を導出した結果に基づいて、タンジェンシャル像面及びサジタル像面の傾きを算出し、算出した前記タンジェンシャル像面及び前記サジタル像面の傾きに基づいて、前記レンズ調整機構（１３０）を制御してもよい。

上記の構成によれば、カメラモジュール製造装置は、レンズの製品としての光学性能を基に撮像レンズの調整を行うことができるため、高精度な撮像レンズを有するカメラモジュールの製造を実現することができる。

本発明の各態様に係る撮像レンズ製造装置１００・２００及びカメラモジュール製造装置３００は、コンピュータによって実現してもよく、この場合には、コンピュータを上記撮像レンズ製造装置１００・２００及びカメラモジュール製造装置３００が備える各部（ソフトウェア要素）として動作させることにより上記撮像レンズ製造装置１００・２００及びカメラモジュール製造装置３００をコンピュータにて実現させる撮像レンズ製造装置１００・２００及びカメラモジュール製造装置３００の制御プログラム、及びそれを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体も、本発明の範疇に入る。

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。

１００、２００ 撮像レンズ製造装置
１１０ 撮像レンズ
１１１ 調整レンズ
１１２ 固定レンズ（調整レンズ以外のレンズ）
１２０ 光検出部
１２１ センサー
１３０ レンズ調整機構
１４０ ステージ
１５０ レチクル
１５１ スリット
１６０ 光源
１８０、１８０Ａ 制御部
２１０ チャート
２１１ チャートパターン（パターン）
２２０ 撮像素子
３００ カメラモジュール製造装置
３１０ カメラモジュール半完成品（カメラモジュール）
ｋ１、ｋ２、ｋ３、ｋ３ｃ、ｋ４ 感度
Ｌ 光軸
ＰＳ１、ＰＳ２、ＰＳ１ｃ 焦点位置の差
Ｄ、ｒ 距離
Ｒａ 第１光束（光束）
Ｒｂ 第２光束（光束）
ＲＣ 回転中心点
ｔ 回転調整量
ｔｃ 所定の角度
ｘ 面内調整量（調整量）
ｘｔ 回転による移動量（移動量）

Claims (9)

1. 複数枚のレンズを備える撮像レンズであって、前記複数枚のレンズのうちの一部のレンズが、組み立て時の調整レンズとして構成されている撮像レンズを製造する、撮像レンズ製造装置であって、
   少なくとも前記調整レンズ以外の前記レンズを保持するステージと、
   前記調整レンズを保持し、かつ、前記撮像レンズの光軸に対して垂直な面内における、前記調整レンズ以外の前記レンズに対する前記調整レンズの位置を調整可能とするレンズ調整機構と、
   光源と、
   前記撮像レンズと前記光源との間に配置され、前記光源からの光を透過する３つ以上のスリットを有するレチクルと、
   前記光源からの光が、前記スリットを透過することで得られた複数の光束を、前記撮像レンズを介してそれぞれ検出する、複数のセンサーを有する光検出部と、を備え、
   前記レンズ調整機構はさらに、前記光軸に対する前記調整レンズの傾き角度を調整可能であり、前記傾き角度の調整は、前記光軸上に位置する回転中心点を中心として前記調整レンズが回転することにより行われることを特徴とする、撮像レンズ製造装置。
2. 制御部を更に備え、前記制御部は、
   前記センサーが検出した前記光束による画像から前記撮像レンズの光学性能を導出するとともに、前記光学性能を導出した結果に基づいて、タンジェンシャル像面及びサジタル像面の傾きを算出し、
   算出した前記タンジェンシャル像面及び前記サジタル像面の傾きに基づいて、前記レンズ調整機構を制御することを特徴とする、請求項１に記載の撮像レンズ製造装置。
3. 複数枚のレンズを備える撮像レンズであって、前記複数枚のレンズのうちの一部のレンズが、組み立て時の調整レンズとして構成されている撮像レンズを製造する、撮像レンズ製造装置であって、
   少なくとも前記調整レンズ以外の前記レンズを保持するステージと、
   前記調整レンズを保持し、かつ、前記撮像レンズの光軸に対して垂直な面内における、前記調整レンズ以外の前記レンズに対する前記調整レンズの位置を調整可能とするレンズ調整機構と、
   前記撮像レンズのタンジェンシャル方向及びサジタル方向の光学性能が評価可能であるようにパターンが形成されているチャートと、
   前記撮像レンズによって前記チャートを撮像する撮像素子と、を備え、
   前記レンズ調整機構はさらに、前記光軸に対する前記調整レンズの傾き角度を調整可能であり、前記傾き角度の調整は、前記光軸上に位置する回転中心点を中心として前記調整レンズが回転することにより行われることを特徴とする、撮像レンズ製造装置。
4. 制御部を更に備え、前記制御部は、
   前記撮像素子の出力信号から前記撮像レンズの光学性能を導出するとともに、前記光学性能を導出した結果に基づいて、タンジェンシャル像面及びサジタル像面の傾きを算出し、
   算出した前記タンジェンシャル像面及び前記サジタル像面の傾きに基づいて、前記レンズ調整機構を制御することを特徴とする、請求項３に記載の撮像レンズ製造装置。
5. 前記光軸に対して垂直な面内における前記調整レンズの位置を調整する場合の、前記調整レンズの位置の調整量ｘ、及び、前記傾き角度を調整する場合の、前記調整レンズの回転調整量ｔは、式（Ｅ１）、式（Ｅ２）及び式（Ｅ３）：
   ＰＳｉ１－（ｋ１ｘ＋ｋ３ｔ）＝０ 式（Ｅ１）
   ＰＳｉ２－（ｋ２ｘ＋ｋ４ｔ）＝０ 式（Ｅ２）
   ｜ｘ／ｘｔ｜≧１ 式（Ｅ３）
   ＰＳｉ１：タンジェンシャル像面における焦点距離の差
   ＰＳｉ２：サジタル像面における焦点距離の差
   ｋ１：タンジェンシャル像面における光軸に対して垂直な面内における移動量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度
   ｋ２：サジタル像面における光軸に対して垂直な面内における移動量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度
   ｋ３：タンジェンシャル像面における回転量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度
   ｋ４：サジタル像面における回転量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度
   ｘｔ：調整レンズの回転による光軸に対して垂直な面内における移動量
   を満たすことを特徴とする、請求項１から４のいずれか１項に記載の撮像レンズ製造装置。
6. 前記タンジェンシャル像面における回転量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度、及び、前記サジタル像面における回転量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度は、前記回転中心点を中心として前記調整レンズを所定の角度回転させることで算出されることを特徴とする、請求項５に記載の撮像レンズ製造装置。
7. 前記調整レンズの主点から前記回転中心点までの光軸方向の距離ｒを、式（Ｅ４）：
   ｒ＝（ｋ３ｔｃ―ｋ３ｃｔｃ）／（ｋ１ｓｉｎｔｃ） 式（Ｅ４）
   ｔｃ：回転中心点を中心として調整レンズを回転させる所定の角度、
   ｋ３：タンジェンシャル像面における回転量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度
   ｋ１：タンジェンシャル像面における光軸に対して垂直な面内における移動量単位当たりで焦点距離の差が変化する感度
   ｋ３ｃ：ｒ＝０の時のタンジェンシャル像面における回転量単位当たりの焦点距離の差が変化する感度
   とすることを特徴とする、請求項６に記載の撮像レンズ製造装置。
8. 複数枚のレンズを備える撮像レンズであって、前記複数枚のレンズのうちの一部のレンズが、組み立て時の調整レンズとして構成されている撮像レンズと、撮像素子と、を有するカメラモジュールを製造する、カメラモジュール製造装置であって、
   前記カメラモジュールを保持するステージと、
   前記調整レンズを保持し、かつ、前記撮像レンズの光軸に対して垂直な面内における、前記調整レンズ以外の前記レンズに対する前記調整レンズの位置を調整可能とするレンズ調整機構と、
   前記撮像レンズのタンジェンシャル方向及びサジタル方向の光学性能が評価可能であるようにパターンが形成されているチャートと、
   を備え、
   前記レンズ調整機構はさらに、前記光軸に対する前記調整レンズの傾き角度を調整可能であり、前記傾き角度の調整は、前記撮像レンズの光軸上に位置する回転中心点を中心として前記調整レンズが回転することにより行われることを特徴とする、カメラモジュール製造装置。
9. 制御部を更に備え、前記制御部は、
   前記撮像素子の出力信号から前記撮像レンズの光学性能を導出するとともに、前記光学性能を導出した結果に基づいて、タンジェンシャル像面及びサジタル像面の傾きを算出し、
   算出した前記タンジェンシャル像面及び前記サジタル像面の傾きに基づいて、前記レンズ調整機構を制御することを特徴とする、請求項８に記載のカメラモジュール製造装置。

Images