JP6513582B2 - マスク検査方法およびマスク検査装置 - Google Patents
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Description
図1は、第1の実施形態のマスク検査装置1を示す図である。図2Aは、第1の実施形態のマスク検査装置1を適用可能なマスク2の一例を示す平面図である。図2Bは、図2AのIIB−IIB断面図である。図1のマスク検査装置1は、例えば、図2Aおよび図2Bに示されるEUVマスク(以下、単にマスクともいう)2のパターンの欠陥を検査するために用いることができる。
次に、マスク検査装置1を適用したマスク検査方法について説明する。図3は、第1の実施形態のマスク検査方法を示すフローチャートである。図4は、第1の実施形態のマスク検査方法を示す斜視図である。第1の実施形態のマスク検査方法では、図4の破線矢印に示す方向に検査領域205のストライプ206が連続的にスキャンされるように、XYθテーブル6を移動させる。なお、図4では、最も+Y方向に位置するストライプ206Aが最終ストライプ206Aである。また、第1の実施形態のマスク検査方法では、ストライプ206に沿って光をスキャンしながら、フォトダイオードアレイ8で撮像された光学画像に基づいてストライプ206上のパターン204(図1参照)の欠陥を検査する。以下、パターン204の欠陥検査の過程でのフォーカス合わせを中心に説明する。
次に、第2の実施形態として、フレーム単位で最終ストライプ206Aの位置を変更する実施形態について説明する。なお、第2の実施形態において、第1の実施形態に対応する構成部については、同一の符号を用いて重複した説明を省略する。図6は、第2の実施形態のマスク検査方法を示すフローチャートである。図7は、第2の実施形態のマスク検査方法を示す模式図である。
次に、第3の実施形態として、オーバーラップ量の調整によって最終ストライプ206Aの位置を変更する実施形態について説明する。なお、第3の実施形態において、第1の実施形態に対応する構成部については、同一の符号を用いて重複した説明を省略する。図8は、第3の実施形態のマスク検査方法を示すフローチャートである。図9は、第3の実施形態のマスク検査方法において、フレーム間のオーバーラップおよびストライプ間のオーバーラップを示す模式図である。
次に、第4の実施形態として、最終ストライプ206A自体を変更する実施形態について説明する。なお、第4の実施形態において、第1の実施形態に対応する構成部については、同一の符号を用いて重複した説明を省略する。図10は、第4の実施形態のマスク検査方法を示すフローチャートである。図11Aは、第4の実施形態のマスク検査方法において、最終ストライプ206Aの位置の変更前におけるフォーカス合わせの対象位置を示す模式図である。図11Bは、最終ストライプ206Aの位置の変更後におけるフォーカス合わせの対象位置を示す模式図である。
2 マスク
201 パターン領域
203 遮光帯
11 フォーカス機構
16 ストライプ管理回路
Claims (8)
- パターンを有するパターン領域と、前記パターン領域を囲み、前記パターン領域と高さが異なる周辺領域とを有するマスクのパターンの欠陥を検査するマスク検査方法であって、
前記パターン領域のうち欠陥を検査すべき検査領域を、第1方向に延び、かつ、前記第1方向に直交する第2方向において隣り合う複数のストライプに分割し、
前記複数のストライプのうち最後に検査すべき最終ストライプのフォーカス合わせの対象位置と、前記検査領域とを比較し、
前記対象位置が前記検査領域外にある場合に、前記対象位置が前記検査領域内となるように前記第2方向に前記最終ストライプの位置を変更し、
各ストライプの前記対象位置へのフォーカス合わせを行いながら、各ストライプに沿って検査光を走査することを特徴とするマスク検査方法。 - パターンを有するパターン領域と、前記パターン領域を囲み、前記パターン領域と高さが異なる周辺領域とを有するマスクのパターンの欠陥を検査するマスク検査方法であって、
前記パターン領域のうち欠陥を検査すべき検査領域を、第1方向に延び、かつ、前記第1方向に直交する第2方向において隣り合う複数のストライプに分割し、
前記複数のストライプのうち最後に検査すべき最終ストライプのフォーカス合わせの対象位置と、前記検査領域とを比較し、
前記対象位置が前記検査領域外にある場合に、前記最終ストライプの全体が前記検査領域外となるように前記第2方向に前記最終ストライプの位置を変更し、かつ、そのフォーカス合わせの対象位置が前記検査領域内にある前記最終ストライプの直前のストライプを新たな最終ストライプに変更し、
各ストライプの前記対象位置へのフォーカス合わせを行いながら、各ストライプに沿って検査光を走査することを特徴とするマスク検査方法。 - 前記最終ストライプの位置の変更は、前記最終ストライプの全体が前記検査領域内に収まるように行うことを特徴とする請求項1に記載のマスク検査方法。
- 前記最終ストライプの位置の変更は、前記ストライプを構成するフレームの単位で行うことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のマスク検査方法。
- 前記検査領域の前記複数のストライプへの分割は、隣り合う前記ストライプ同士が前記第2方向においてオーバーラップするように行い、
前記最終ストライプの位置の変更は、隣り合うストライプ同士のオーバーラップ量を変更することで行うことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のマスク検査方法。 - 前記検査領域の前記複数のストライプへの分割は、各ストライプを構成するフレーム同士が前記第2方向においてオーバーラップするように行い、
前記最終ストライプの位置の変更は、隣り合うフレーム同士のオーバーラップ量を変更することで行うことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のマスク検査方法。 - パターンを有するパターン領域と、前記パターン領域を囲み、前記パターン領域と高さが異なる周辺領域とを有するマスクのパターンの欠陥を検査するマスク検査装置であって、
前記パターン領域のうち前記欠陥を検査すべき検査領域を、第1方向に延び、かつ、前記第1方向に直交する第2方向において隣り合う複数のストライプに分割するストライプ管理部と、
各ストライプのフォーカス合わせの対象位置へのフォーカス合わせを行うフォーカス機構と、を備え、
前記ストライプ管理部は、前記複数のストライプのうち最後に検査すべき最終ストライプのフォーカス合わせの対象位置が前記検査領域外にある場合に、前記対象位置が前記検査領域内となるように前記第2方向に前記最終ストライプの位置を変更することを特徴とするマスク検査装置。 - パターンを有するパターン領域と、前記パターン領域を囲み、前記パターン領域と高さが異なる周辺領域とを有するマスクのパターンの欠陥を検査するマスク検査装置であって、
前記パターン領域のうち前記欠陥を検査すべき検査領域を、第1方向に延び、かつ、前記第1方向に直交する第2方向において隣り合う複数のストライプに分割するストライプ管理部と、
各ストライプのフォーカス合わせの対象位置へのフォーカス合わせを行うフォーカス機構と、を備え、
前記ストライプ管理部は、前記複数のストライプのうち最後に検査すべき最終ストライプのフォーカス合わせの対象位置が前記検査領域外にある場合に、前記最終ストライプの全体が前記検査領域外となるように前記第2方向に前記最終ストライプの位置を変更し、かつ、そのフォーカス合わせの対象位置が前記検査領域内にある前記最終ストライプの直前のストライプを新たな最終ストライプに変更することを特徴とするマスク検査装置。
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