JP7382904B2 - マイクロリソグラフィ用マスクを測定するためのデバイス、および自動合焦方法 - Google Patents
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Description
- マスクを結像するための焦点面をもつ結像光学ユニット、
- マスクを据えるための物体ステージ、および、
- 物体ステージと結像光学ユニットとの間の相対移動を生成するための移動モジュール
を含む。
a)ギャップとして具現化された合焦構造をマスク上の合焦像面で結像するステップであり、前記合焦像面が、結像光学ユニットの焦点面と交差する、結像するステップと、
b)ステップa)から生じる合焦構造の焦点火線を記録するステップと、
c)焦点火線の記録に基づいて結像デバイスの焦点面とマスクの表面との間の距離を決定するステップと、
d)方法ステップc)から突き止められた距離だけマスクを移動させるステップと、
e)距離があらかじめ決められた値よりも小さくなるまで、ステップa)からステップd)を繰り返すステップと
を含む。
[当初請求項1]
マイクロリソグラフィ用マスク(3)を結像デバイス(2)で測定するためのデバイス(30)であって、前記結像デバイス(2)が、
前記マスク(3)を結像するための焦点面(20)をもつ結像光学ユニット(9)と、
前記マスク(3)を据えるための物体ステージ(11)と、
物体ステージ(11)と結像光学ユニット(9)との間の相対移動を生成するための移動モジュール(18)と、
前記焦点面(20)と交差する合焦像面(19)内における合焦構造(13)の結像を介して合焦像を発生させるための自動合焦デバイス(1)と
を含み、
前記合焦構造(13)がギャップ(21、21’、21”)として具現化される
ことを特徴とするデバイス(30)。
[当初請求項2]
複数のギャップ(21、21’、21”)が前記合焦構造(13)に形成される
ことを特徴とする当初請求項1に記載のデバイス(30)。
[当初請求項3]
前記ギャップ(21、21’、21”)が、互いに対して回転されて配列される
ことを特徴とする当初請求項2に記載のデバイス(30)。
[当初請求項4]
前記移動モジュール(18)が、前記物体ステージ(11)および前記マスク(3)および/または前記結像光学ユニット(9)を移動させるように構成される
ことを特徴とする当初請求項1~3のいずれかに記載のデバイス(30)。
[当初請求項5]
前記移動モジュール(18)が、前記物体ステージ(11)および前記マスク(3)を、結像面内において、前記ギャップ(21、21’、21”)の前記結像の向きに対して斜めに、特に、対角線的に移動させるように構成される
ことを特徴とする当初請求項4に記載のデバイス(30)。
[当初請求項6]
マイクロリソグラフィ用マスク(3)を、結像光学ユニット(9)をもつ結像デバイス(2)で測定するためのデバイス(30)のための自動合焦方法であって、以下の方法ステップ、すなわち、
a)ギャップ(21、21’、21”)として具現化された合焦構造(13)を、前記マスク(3)上の合焦像面(19)内において結像するステップであり、前記合焦像面が、前記結像光学ユニット(9)の焦点面(20)と交差する、結像するステップと、
b)ステップa)から生じる前記合焦構造(13)の焦点火線(focus caustic)(25)を記録するステップと、
c)前記焦点火線(25)の記録(26、26’)に基づいて、前記結像デバイス(2)の前記焦点面(20)と前記マスク(3)の表面との間の距離を決定するステップと、
d)方法ステップc)から突き止められた前記距離だけ前記マスク(3)を移動させるステップと、
e)前記距離があらかじめ決められた値よりも小さくなるまで、ステップa)からステップd)を繰り返すステップと
を含む、自動合焦方法。
[当初請求項7]
火線中心(24)が、前記ギャップ(21、21’、21”)の前記焦点火線(25)における最も高い強度の場所として決定される
ことを特徴とする当初請求項6に記載の方法。
[当初請求項8]
火線中心(24)が、前記ギャップ(21、21’、21”)の結像された前記焦点火線(25)における最も狭いくびれの場所として決定される
ことを特徴とする当初請求項6または7に記載の方法。
[当初請求項9]
前記合焦構造(13)が、複数のギャップ(21、21’、21”)を含み、前記結像デバイス(2)の前記焦点面(20)と前記マスク(3)の前記表面との間の距離が、前記ギャップ(21、21’、21”)の前記結像の前記火線中心(24)の評価によって決定される
ことを特徴とする当初請求項6~8のいずれかに記載の方法。
[当初請求項10]
基準線(23)が、前記焦点火線(25)の記録(26)の際に形成される
ことを特徴とする当初請求項6~9のいずれかに記載の方法。
[当初請求項11]
前記基準線(23)の位置が、代替の合焦方法によって決定される
ことを特徴とする当初請求項10に記載の方法。
[当初請求項12]
前記マスク(3)の前記表面と前記焦点面(20)との間の前記距離が、前記火線中心(24)と前記基準線(23)との間の距離から決定される
ことを特徴とする当初請求項7~11のいずれかに記載の方法。
[当初請求項13]
前記マスク(3)が、自動焦点光学ユニット(14)の光学軸に垂直な平面内での焦点測定中に、前記ギャップ(21、21’、21”)の前記結像の向きに対して斜めに移動される
ことを特徴とする当初請求項6~12のいずれかに記載の方法。
[当初請求項14]
前記焦点火線(25)の結像が、前記評価の前に正規化される
ことを特徴とする当初請求項6~13のいずれかに記載の方法。
[当初請求項15]
前記正規化が、前記ギャップ(21、21’、21”)の前記焦点火線(25)の像(26)の像ラインごとのエネルギーを一致させることによって達成される
ことを特徴とする当初請求項14に記載の方法。
2 結像デバイス;顕微鏡
3 マスク
4 照明源
5 第1の偏向ミラー
6 第2の偏向ミラー
7 結像対物レンズ
8 チューブ光学ユニット
9 結像光学ユニット
10 CCDカメラ
11 物体ステージ
12 第3の偏向ミラー
13 合焦構造
14 自動焦点光学ユニット
15 偏向ミラー
16 偏向ミラー
18 移動モジュール
19 合焦像面
20 焦点面
x、y 空間の方向
S CCDエリアセンサ
21、21’、21” ギャップ
23 基準線
24 火線中心
25 焦点火線
26、26’ 像
30 デバイス
40 方法ステップ1
41 方法ステップ2
42 方法ステップ3
43 方法ステップ4
44 方法ステップ5
Claims (8)
- マイクロリソグラフィ用マスク(3)を結像デバイス(2)で測定するためのデバイス(30)であって、前記結像デバイス(2)が、
前記マスク(3)を結像するための焦点面(20)をもつ結像光学ユニット(9)と、
前記マスク(3)を据えるための物体ステージ(11)と、
物体ステージ(11)と結像光学ユニット(9)との間の相対移動を生成するための移動モジュール(18)と、
前記焦点面(20)と交差する合焦像面(19)内における合焦構造(13)の結像を介して合焦像を発生させることにより前記合焦構造(13)の焦点火線(focus caustic)(25)を生じさせるための自動合焦デバイス(1)と
を含み、
前記合焦構造(13)がスリット孔(21、21’、21”)として具現化され、
火線中心(24)が、前記スリット孔(21、21’、21”)の前記焦点火線(25)における最も高いエネルギー強度の場所として、または、前記スリット孔(21、21’、21”)の結像された前記焦点火線(25)における最も狭いくびれの場所として決定され、
前記マスク(3)の表面と前記焦点面(20)との間の距離が、前記火線中心(24)と基準線(23)との間の距離から決定され、前記基準線(23)は、前記焦点面(20)内に前記マスク(3)の最適位置が与えられる場合に火線中心(24)が存在する場所を表し、
複数のスリット孔(21、21’、21”)が前記合焦構造(13)に形成され、
前記スリット孔(21、21’、21”)が、互いに対して回転されて配列される、
ことを特徴とするデバイス(30)。 - 前記移動モジュール(18)が、前記物体ステージ(11)および前記マスク(3)および/または前記結像光学ユニット(9)を移動させるように構成される
ことを特徴とする請求項1に記載のデバイス(30)。 - 前記移動モジュール(18)が、前記物体ステージ(11)および前記マスク(3)を、結像面内において、前記マスク(3)のx方向またはy方向に延びる前記スリット孔(21、21’、21”)の前記結像の向きに対して斜めに移動させるように構成される
ことを特徴とする請求項2に記載のデバイス(30)。 - マイクロリソグラフィ用マスク(3)を、結像光学ユニット(9)をもつ結像デバイス(2)で測定するためのデバイス(30)のための自動合焦方法であって、以下の方法ステップ、すなわち、
a)スリット孔(21、21’、21”)として具現化された合焦構造(13)を、前記マスク(3)上の合焦像面(19)内において結像するステップであり、前記合焦像面が、前記結像光学ユニット(9)の焦点面(20)と交差する、結像するステップと、
b)ステップa)から生じる前記合焦構造(13)の焦点火線(focus caustic)(25)を記録するステップと、
c)前記焦点火線(25)の記録(26、26’)に基づいて、前記結像デバイス(2)の前記焦点面(20)と前記マスク(3)の表面との間の距離を決定するステップと、
d)方法ステップc)から突き止められた前記距離だけ前記マスク(3)を移動させるステップと、
e)前記距離があらかじめ決められた値よりも小さくなるまで、ステップa)からステップd)を繰り返すステップと
を含み、
火線中心(24)が、前記スリット孔(21、21’、21”)の前記焦点火線(25)における最も高いエネルギー強度の場所として、または、前記スリット孔(21、21’、21”)の結像された前記焦点火線(25)における最も狭いくびれの場所として決定され、
前記マスク(3)の表面と前記焦点面(20)との間の距離が、前記火線中心(24)と基準線(23)との間の距離から決定され、前記基準線(23)は、前記焦点面(20)内に前記マスク(3)の最適位置が与えられる場合に火線中心(24)が存在する場所を表し、
複数のスリット孔(21、21’、21”)が前記合焦構造(13)に形成され、
前記スリット孔(21、21’、21”)が、互いに対して回転されて配列される、
自動合焦方法。 - 前記合焦構造(13)が、複数のスリット孔(21、21’、21”)を含み、前記結像デバイス(2)の前記焦点面(20)と前記マスク(3)の前記表面との間の距離が、前記スリット孔(21、21’、21”)の前記結像の前記火線中心(24)の評価によって決定される
ことを特徴とする請求項4に記載の方法。 - 前記マスク(3)が、自動焦点光学ユニット(14)の光学軸に垂直な平面内での焦点測定中に、前記マスク(3)のx方向またはy方向に延びる前記スリット孔(21、21’、21”)の前記結像の向きに対して斜めに移動される
ことを特徴とする請求項4~5のいずれかに記載の方法。 - 前記焦点火線(25)の結像のエネルギーが、前記評価の前に正規化される
ことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 前記正規化が、結像されたラインにわたるエネルギーの合計が、結像されたラインごとに同一になるように、前記スリット孔(21、21’、21”)の前記焦点火線(25)の像(26)の結像されたラインごとのエネルギーを一致させることによって達成される
ことを特徴とする請求項7に記載の方法。
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