JP6520205B2 - 半導体ウェーハのゲッタリング能力評価方法、それを用いた半導体ウェーハの判定方法および製造方法 - Google Patents
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Description
すなわち、本発明の要旨構成は以下のとおりである。
を特徴とする。
図1のフローチャートに示されるように、本発明の第1実施形態に従う半導体ウェーハのゲッタリング能力評価方法は、半導体ウェーハの表層部を、金属不純物により強制汚染する工程S10と、前記強制汚染を経た前記半導体ウェーハの表層部の、DLTS法による第1の信号強度を検出する第1の信号検出工程S20と、前記強制汚染を経た前記半導体ウェーハに熱処理を施した後、前記半導体ウェーハの表層部の、DLTS法による第2の信号強度を検出する第2の信号検出工程S30と、前記第1および第2の信号強度を比較し、前記金属不純物の安定準位を特定する工程S40と、前記安定準位において検出される前記第1および第2の信号強度のいずれか一方または両方を用いて、前記半導体ウェーハのゲッタリング能力を評価する工程S50と、を含むことを特徴とする。以下、各工程の詳細を順に説明する。
本発明の第2実施形態に従う半導体ウェーハのゲッタリング能力評価方法においては、同種の半導体ウェーハである第1の半導体ウェーハおよび第2の半導体ウェーハを用いる。本実施形態では、図2のフローチャートに示すように、第1および第2の半導体ウェーハの表層部を、金属不純物により同一条件で強制汚染する工程S10と、前記強制汚染を経た第1の半導体ウェーハの表層部の、DLTS法による第1の信号強度を検出する第1の信号検出工程S21と、強制汚染を経た第2の半導体ウェーハに熱処理を施した後、第2の半導体ウェーハの表層部の、DLTS法による第2の信号強度を検出する第2の信号検出工程S31と、前記第1および第2の信号強度を比較し、前記金属不純物の安定準位を特定する工程S40と、前記安定準位において検出される前記第1および第2の信号強度のいずれか一方または両方を用いて、前記半導体ウェーハのゲッタリング能力を評価する工程S50と、を含む。
第3の実施形態に従う半導体ウェーハの品質判定方法は、第1および第2実施形態に既述の評価方法によって半導体ウェーハのゲッタリング能力を評価し、前記安定準位におけるDLTS法による信号強度が検出下限値未満である半導体ウェーハを良品として判定することを特徴とする。本実施形態により、良品と判定された半導体ウェーハと同一ロットの半導体ウェーハについては、判定を省略してもゲッタリング能力が十分にあると判定することができる。
図3に示すように、第4の実施形態に従う半導体ウェーハ100の製造方法は、第1のゲッタリング能力付与条件により形成されたゲッタリングサイト18′を有するサンプル半導体ウェーハ100′のゲッタリング能力を、第1実施形態または第2実施形態に既述の評価方法を用いて評価し、該評価に基づき、前記第1のゲッタリング能力付与条件を変更して目標ゲッタリング能力を満足する第2のゲッタリング能力付与条件を決定し、前記決定した第2のゲッタリング能力付与条件に基づき、半導体ウェーハにゲッタリングサイト18を形成することを特徴とする。
図3(E)に示すように、本発明による半導体ウェーハ100は、ゲッタリングサイト18を有し、半導体ウェーハ100の表層部に金属不純物を強制汚染した場合に、金属不純物の安定準位におけるDLTS法による信号強度が検出下限値未満となることを特徴とする。かかる半導体ウェーハ100は十分なゲッタリング能力を有し、さらに、半導体デバイスに供した後もデバイス形成領域の電気特性が極めて優れる。
CZ単結晶から得たn型シリコンウェーハ(直径:300mm、厚み:775μm、ドーパント種類:リン、抵抗率:1〜10Ω・cm(ドーパント濃度: 4.5×1014〜5×1015atoms/cm3))を用意した。次いで、このn型シリコンウェーハを枚葉式エピタキシャル成長装置(アプライドマテリアルズ社製)内に搬送し、装置内で1120℃の温度で30秒の水素ベーク処理を施した後、水素をキャリアガス、トリクロロシランをソースガス、1150℃でCVD法により、シリコンウェーハの表面上にシリコンエピタキシャル層(厚さ:10μm、ドーパント種類:リン、抵抗率:30Ω・cm(ドーパント濃度:9×1013atoms/cm3))をエピタキシャル成長させ、試料1に係るn/nエピタキシャルシリコンウェーハ以下、単に「ウェーハ」と表記する。)を作製した。同一条件で、試料2に係るウェーハを作製した。
試料1におけるシリコンエピタキシャル層の形成に先立ち、クラスターイオン発生装置(日新イオン機器社製、型番:CLARIS)を用いて、シクロヘキサン(C6H12)よりC3H5クラスターを生成し、ドーズ量1.2×1014Clusters/cm2(炭素のドーズ量6.0×1014atoms/cm2)、炭素1原子あたり14.8keV/atomの照射条件でシリコンウェーハにクラスターイオンを照射し、クラスター照射領域である炭素原子が固溶した改質層(ゲッタリングサイト)を形成した以外は、試料1と同様に発明例1に係るn/nエピタキシャルシリコンウェーハ(以下、単に「ウェーハ」と表記する。)を作製した。
発明例1と同一条件で、発明例2に係るウェーハを作製した。
試料1におけるシリコンエピタキシャル層の形成に先立ち、大電流型イオン注入装置を用いて、CO2ガスから炭素イオンを生成し、ドーズ量6.0×1014atoms/cm2、加速電圧:130keV/atomの注入条件でシリコンウェーハに照射し、モノマーイオン注入領域である炭素原子が固溶したイオン注入層(ゲッタリングサイト)を形成した以外は、試料1と同様に比較例1に係るウェーハを作製した。
比較例1と同一条件で、比較例2に係るウェーハを作製した。
まず、参考実験例と同様に、発明例1,2および比較例1,2に係るウェーハをFeで強制汚染した。次に、参考評価1と同様にショットキー電極および裏面電極を形成し、ウェーハの表層部をDLTS法によりそれぞれ測定した。発明例1および比較例1の測定結果を図6(A)に、発明例2および比較例2の測定結果を図6(B)に示す。なお、DLTS信号強度は図4と同様に任意単位で記載している。
発明例1および比較例1に係るウェーハを用いて裏面照射型固体撮像素子を作製し、その後、該裏面照射型固体撮像素子について、半導体パラメータ解析装置を用いて、フォトダイオードの暗時リーク電流を測定し画素データ(白傷欠陥の個数データ)に変換することで、単位面積(1cm2)あたりの白傷欠陥の個数を測定し、白傷欠陥の発生の抑制について評価したところ、発明例1では白傷の発生が確認されなかったが、比較例1では白傷の発生が確認された。
発明例1および比較例1に係るウェーハについて、上記強制汚染を行った後に二次イオン質量分析(SIMS)により測定を行い、金属不純物であるFeの濃度プロファイルを得た。測定結果を図7(A),(B)にそれぞれ示す。なお、横軸の深さはシリコンエピタキシャル層表面をゼロとしている。発明例1および比較例1共に、ゲッタリングサイトに金属不純物が捕獲されていることが分かる。
10A バルクウェーハの表面
16 クラスターイオン
18 改質層
20 エピタキシャル層
100 半導体ウェーハ
Claims (9)
- 半導体ウェーハの表層部を、金属不純物により強制汚染する工程と、
前記強制汚染を経た半導体ウェーハの表層部の、DLTS法による第1の信号強度を検出する第1の信号検出工程と、
前記強制汚染を経た半導体ウェーハに熱処理を施した後、前記半導体ウェーハの表層部の、DLTS法による第2の信号強度を検出する第2の信号検出工程と、
前記第1および第2の信号強度を比較し、前記金属不純物の安定準位を特定する工程と、
前記安定準位において検出される前記第1および第2の信号強度のいずれか一方または両方を用いて、前記半導体ウェーハのゲッタリング能力を評価する工程と、を含むことを特徴とする半導体ウェーハのゲッタリング能力評価方法。 - 前記熱処理は、前記半導体ウェーハを半導体デバイスに用いるときの素子動作環境を模擬した熱処理である、請求項1に記載の評価方法。
- 前記半導体ウェーハは、シリコンウェーハまたはシリコンウェーハ表面にシリコンエピタキシャル層が形成されたエピタキシャルシリコンウェーハである、請求項1または2に記載の評価方法。
- 前記シリコンウェーハまたは前記シリコンエピタキシャル層の導電型がn型である、請求項3に記載の評価方法。
- 前記金属不純物は遷移金属である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の評価方法。
- 前記金属不純物はFe、Cu、Ni、Cr、Mn、CoおよびZnのいずれかである、請求項1〜4のいずれか1項に記載の評価方法。
- 前記金属不純物がFeである、請求項6に記載の評価方法。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の評価方法によって半導体ウェーハのゲッタリング能力を評価し、前記安定準位におけるDLTS法による信号強度が検出下限値未満である半導体ウェーハを良品として判定することを特徴とする、半導体ウェーハの品質判定方法。
- 第1のゲッタリング能力付与条件により形成されたゲッタリングサイトを有するサンプル半導体ウェーハのゲッタリング能力を、請求項1〜7のいずれか1項に記載の評価方法を用いて評価し、
該評価に基づき、前記第1のゲッタリング能力付与条件を変更して目標ゲッタリング能力を満足する第2のゲッタリング能力付与条件を決定し、
前記決定した第2のゲッタリング能力付与条件に基づき、半導体ウェーハにゲッタリングサイトを形成することを特徴とする半導体ウェーハの製造方法。
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