JP6514230B2 - 大気圧プラズマ処理装置、およびプラズマ処理方法 - Google Patents
大気圧プラズマ処理装置、およびプラズマ処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6514230B2 JP6514230B2 JP2016558469A JP2016558469A JP6514230B2 JP 6514230 B2 JP6514230 B2 JP 6514230B2 JP 2016558469 A JP2016558469 A JP 2016558469A JP 2016558469 A JP2016558469 A JP 2016558469A JP 6514230 B2 JP6514230 B2 JP 6514230B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- housing
- plasma
- plasma processing
- container
- atmospheric pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 16
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
図1に、本発明の第1実施例の大気圧プラズマ処理装置10を示す。大気圧プラズマ処理装置10は、微小な被処理体にプラズマ処理を施し、被処理体の濡れ性,親水性、分散性等を向上させるための装置である。微小な被処理体として、数mm以下の電子部品、粉粒体等が挙げられ、粉粒体として、粉状の薬品、カーボン粒子等が挙げられる。
大気圧プラズマ処理装置10では、上述した構成により、ハウジング30内にプラズマ発生装置22によってプラズマを吹き込むことで、ハウジング30に収容された被処理体に対するプラズマ処理が施される。具体的には、まず、作業者が、ロック機構の解除により、第1半球体34と第2半球体36とを分離させ、ハウジング30を開口させる。そして、ハウジング30内に被処理体として複数の微小な電子部品を収容した後に、第1半球体34と第2半球体36とをロック機構により固定させ、ハウジング30を密閉する。
第2実施例の大気圧プラズマ処理装置70を、図5に示す。大気圧プラズマ処理装置70は、収容器72と、回転装置74と、プラズマ発生装置76とを備えている。収容器72は、第1半球体78と第2半球体80とフィルタ82とを含む。第1半球体78と第2半球体80とは、内部が空洞の球を概して半分に分割した椀形状をなし、互いに略同寸法である。また、フィルタ82は、短円筒状をなし、それの外径は、第1半球体78と第2半球体80との各々の開口部の外径と略同寸法である。なお、フィルタ82の目開きは、フィルタ32と同様に、収容器72に収容される被処理体の寸法より小さい。
Claims (5)
- 微小な被処理体を収容するハウジングと、前記ハウジングに収容された被処理体より小さな網目状をなし、前記ハウジングに形成された貫通穴を覆う網目状体とを有する収容器と、
前記収容器から離れた状態で配設され、前記網目状体を介して、前記ハウジングの内部に向かってプラズマを吹き出すプラズマ発生装置と
前記収容器と前記プラズマ発生装置とを、前記プラズマ発生装置が前記網目状体を介して前記ハウジングの内部に向かってプラズマを吹き出し可能な状態で、相対的に移動させる移動装置と
を備え、前記ハウジングに収容された被処理体に対するプラズマ処理を行う大気圧プラズマ処理装置。 - 微小な被処理体を収容するハウジングと、前記ハウジングに収容された被処理体より小さな網目状をなし、前記ハウジングに形成された貫通穴を覆う網目状体とを有する収容器と、
前記収容器から離間した状態で配設され、前記網目状体を介して、前記ハウジングの内部に向かって大気圧下で発生させたプラズマを吹き出すプラズマ発生装置と
を備え、前記ハウジングに収容された被処理体に対するプラズマ処理を行う大気圧プラズマ処理装置。 - 前記被処理体が、電子部品であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の大気圧プラズマ処理装置。
- (A)微小な被処理体を収容するハウジングと、前記ハウジングに収容された被処理体より小さな網目状をなし、前記ハウジングに形成された貫通穴を覆う網目状体とを有する収容器と、(B)前記網目状体を介して、前記ハウジングの内部に向かってプラズマを吹き出すプラズマ発生装置と、(c)前記収容器と前記プラズマ発生装置とを、前記プラズマ発生装置が前記網目状体を介して前記ハウジングの内部に向かってプラズマを吹き出し可能な状態で、相対的に移動させる移動装置とを備えた大気圧プラズマ処理装置を用いて、前記ハウジングに収容された被処理体に対するプラズマ処理を行うプラズマ処理方法において、
前記プラズマ処理方法が、
前記収容器から離れた状態で配設された前記プラズマ発生装置が、前記網目状体を介して、前記ハウジングの内部に向かってプラズマを吹き出すことで、前記ハウジングに収容された被処理体に対するプラズマ処理を行う吹出工程を含むことを特徴とするプラズマ処理方法。 - (A)微小な被処理体を収容するハウジングと、前記ハウジングに収容された被処理体より小さな網目状をなし、前記ハウジングに形成された貫通穴を覆う網目状体とを有する収容器と、(B)前記網目状体を介して、前記ハウジングの内部に向かって大気圧下で発生させたプラズマを吹き出すプラズマ発生装置とを備えた大気圧プラズマ処理装置を用いて、前記ハウジングに収容された被処理体に対するプラズマ処理を行うプラズマ処理方法において、
前記プラズマ処理方法が、
前記収容器から離間した状態で配設された前記プラズマ発生装置が、前記網目状体を介して、前記ハウジングの内部に向かって大気圧下で発生させたプラズマを吹き出すことで、前記ハウジングに収容された被処理体に対するプラズマ処理を行う吹出工程を含むことを特徴とするプラズマ処理方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2014/079793 WO2016075750A1 (ja) | 2014-11-11 | 2014-11-11 | 大気圧プラズマ処理装置、およびプラズマ処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016075750A1 JPWO2016075750A1 (ja) | 2017-09-07 |
JP6514230B2 true JP6514230B2 (ja) | 2019-05-15 |
Family
ID=55953863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016558469A Active JP6514230B2 (ja) | 2014-11-11 | 2014-11-11 | 大気圧プラズマ処理装置、およびプラズマ処理方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6514230B2 (ja) |
WO (1) | WO2016075750A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6923812B2 (ja) | 2018-11-30 | 2021-08-25 | 日亜化学工業株式会社 | 波長変換部材の製造方法、及び、発光装置の製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62155934A (ja) * | 1985-12-28 | 1987-07-10 | Canon Inc | 気相励起装置 |
DE59401158D1 (de) * | 1993-11-27 | 1997-01-09 | Basf Ag | Verfahren zur Beschichtung oder Oberflächenbehandlung von Feststoffteilchen mittels einer Plasma-Wirbelschicht |
FR2750348B1 (fr) * | 1996-06-28 | 1998-08-21 | Conte | Procede pour augmenter l'anti-mouillabilite d'un corps, corps ainsi traite et ses applications |
ES2247370T3 (es) * | 2001-08-31 | 2006-03-01 | Apit Corp. Sa | Procedimiento de fabricacion de polvos de granos compuestos y dispositivo para realizacion del procedimiento. |
JP2004323593A (ja) * | 2003-04-22 | 2004-11-18 | Toyota Industries Corp | フッ素樹脂粉体の改質方法及びフッ素樹脂粉体 |
JP2006082025A (ja) * | 2004-09-16 | 2006-03-30 | Sekisui Chem Co Ltd | 粉体のプラズマ処理装置および方法 |
JP2006302623A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Matsushita Electric Works Ltd | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
JP5224560B2 (ja) * | 2011-11-24 | 2013-07-03 | 国立大学法人京都大学 | プラズマ生成装置、表面処理装置、表示装置、および流体改質装置 |
JP6076780B2 (ja) * | 2012-03-12 | 2017-02-08 | エア・ウォーター株式会社 | 粉体処理装置および粉体処理方法 |
-
2014
- 2014-11-11 WO PCT/JP2014/079793 patent/WO2016075750A1/ja active Application Filing
- 2014-11-11 JP JP2016558469A patent/JP6514230B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2016075750A1 (ja) | 2017-09-07 |
WO2016075750A1 (ja) | 2016-05-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104078326B (zh) | 基板处理装置及基板处理方法 | |
JP5286553B2 (ja) | 高周波プラズマ処理装置及び高周波プラズマ処理方法 | |
JP6514230B2 (ja) | 大気圧プラズマ処理装置、およびプラズマ処理方法 | |
JP6494417B2 (ja) | プラズマエッチング装置 | |
JP2009066389A (ja) | 気体処理装置 | |
CN106133882B (zh) | 基板处理装置 | |
TWI545678B (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
JP4817817B2 (ja) | ミネラル水製造方法およびミネラル水溶液製造装置 | |
TW201843730A (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
JP2012049376A5 (ja) | ||
CN105938791B (zh) | 基板处理方法以及基板处理装置 | |
KR101526507B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 방법 | |
KR101553683B1 (ko) | 회전식 대기압 플라즈마 발생장치 | |
JP2010043329A (ja) | めっき装置 | |
TWI447258B (zh) | 原料氣體產生裝置 | |
JP2017143125A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2020026541A (ja) | プラズマ回転電極法による粉末製造装置および粉末製造方法 | |
JP2010056309A (ja) | 基板処理装置とガス溶解液供給方法と基板処理方法 | |
CN105895557A (zh) | 基板处理装置 | |
JP2656349B2 (ja) | プラズマ粉体処理装置 | |
JP2019054136A (ja) | レジスト除去方法およびレジスト除去装置 | |
JPWO2018096606A1 (ja) | プラズマ発生装置 | |
JP5927644B2 (ja) | 表面処理方法および表面処理装置 | |
KR20090060902A (ko) | 돔 온도 제어 장치 및 이를 이용한 플라즈마 식각장치 | |
KR20160082844A (ko) | 분체 혼합 및 미분 제어 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171004 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180905 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181023 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190326 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190411 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6514230 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |