JP6512777B2 - カラーフィルタアレイの形成方法、撮像装置の製造方法 - Google Patents

カラーフィルタアレイの形成方法、撮像装置の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、二流体洗浄法を用いたカラーフィルタアレイの形成方法に関する。
撮像装置や表示装置などの光学装置に用いられるカラーフィルタアレイは、感光性のカラーフィルタ膜を所望のパターンに露光し、これを現像、洗浄することにより形成される。
感光性のカラーフィルタ材料は現像工程において残渣が生じやすい。特に、着色のための顔料粒子を含む場合には、感光性樹脂と混合した際に凝集してゲル状となりやすい。そのため、カラーフィルタ膜の現像工程では、強力な洗浄方法である二流体洗浄法を用いることが有効である。
二流体洗浄法は、露光されたカラーフィルタ膜の上に現像液を吐出して現像反応処理を行ってカラーフィルタアレイを形成した後に、現像液や残渣を除去するために行われる。二流体洗浄法では、窒素やドライエアー等の気体と水などの液体を合わせた流体を、洗浄装置のノズルの先端よりスプレー状に噴出させながら洗浄処理を行う。二流体洗浄法によれば、加速されて噴出された液滴による物理的な圧力によって現像時の残渣を除去することができる。
二流体洗浄法を用いた洗浄工程では、カラーフィルタアレイをその配列面内方向で回転させ、さらに、流体を噴出させるノズルをカラーフィルタアレイの上で移動させながら行われる。
特許文献1には、感光性着色顔料レジストが塗布された基板を回転させると共に、ノズルを水平往復移動させ、同時にノズルから基板へ純水と気体とを噴霧状に吹き付けることが開示されている。
特開平11−211907号公報
二流体洗浄法を用いてカラーフィルタアレイを形成して、高感度の撮像装置を作製したところ、例えば図7(a)に示されるように、撮影画像IMGに周期的なムラが生じることが分かった。この周期的なムラの周期Pは撮像装置の撮像領域における1〜10mmの範囲に相当するものであり、画素のサイズが1〜10μmであることを考えると、画素の構造に起因したムラではないと考えられる。
本発明者が詳細に検討したところ、撮像装置で得られた画像に生じるムラのパターンは、撮像装置を成すチップが切り出されるウエハ100内での位置によって異なることが分かった。さらに、図7(b)に示すように、各チップISCから得られた画像をウエハ100上におけるチップISCの位置に対応してつなぎ合わせると、ウエハ100の中心のチップISCから略同心円状にムラが生じることも分かった。
本発明は、上述した周期的なムラを低減することを目的とする。
上記課題を解決するための手段は、感光性のカラーフィルタ膜を露光する工程と、現像液を用いて前記カラーフィルタ膜を現像することにより前記カラーフィルタ膜からカラーフィルタアレイを形成する工程と、前記カラーフィルタアレイを回転させ、かつ、液体および気体を含む流体を噴霧するノズルを前記カラーフィルタアレイの上で前記回転の軸と交差する方向に移動させながら、前記流体で前記カラーフィルタアレイを洗浄する工程と、を有するカラーフィルタアレイの形成方法に関する。上記カラーフィルタアレイの形成方法において、第1の観点では、前記洗浄する工程では、前記気体の流量を55(L/min)以下とすることを特徴とする。また、第2の観点では、前記洗浄する工程では、前記カラーフィルタアレイの回転数をn(rpm)、前記ノズルの移動速度をv(mm/s)として、n/v>35を満たすことを特徴とする。また、第3の観点では、前記洗浄する工程では、前記ノズルの第1の移動によって前記ノズルを前記カラーフィルタアレイに対して渦巻状に通過させた後、前記ノズルの第2の移動によって、前記カラーフィルタアレイの上で前記第1の移動によって通過した部分の間の部分を渦巻状に通過させることを特徴とする。
また上記課題を解決するための手段は、各々が同色を呈するカラーフィルタを有する複数の画素を備える撮像装置であって、前記複数の画素の各々の前記カラーフィルタの厚さの平均値が0.75μm未満であり、前記複数の画素の各々の前記カラーフィルタの厚さが、前記複数の画素の間隔の10倍以上の間隔で周期的に変化しており、前記変化の振幅が前記平均値の2.0%以下であることを特徴とする。
本発明によれば、カラーフィルタアレイに起因する周期的なムラを低減することができる。
撮像装置を説明する模式図。 カラーフィルタアレイの形成方法を説明する断面模式図。 カラーフィルタアレイの形成方法を説明する模式図。 カラーフィルタアレイの形成方法を説明する模式図。 カラーフィルタアレイの形成方法を説明する模式図。 カラーフィルタアレイの形成方法を説明する模式図。 周期的なムラを説明する模式図。
以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態を説明する。なお、以下の説明および図面において、複数の図面に渡って共通の構成については共通の符号を付している。そのため、複数の図面を相互に参照して共通する構成を説明し、共通の符号を付した構成については適宜説明を省略する。
図1(a)、(b)は撮像装置ISの一例としてCMOSイメージセンサの断面構造の第1例、第2例をそれぞれ示している。撮像装置ISは複数の画素で構成される。各画素は、第1色のカラーフィルタ61、第2色のカラーフィルタ(不図示)あるいは第3色のカラーフィルタ63を備える。各画素はさらに、シリコンなどの半導体からなる基板1に設けられた光電変換部であるフォトダイオード10とマイクロレンズ81とを備える。図1(c)に示すように、第1色のカラーフィルタ61と第2色のカラーフィルタ62と第3色のカラーフィルタ63がベイヤー配列されてカラーフィルタアレイ6を構成している。各カラーフィルタ61、62、63の厚さは、例えば0.50〜1.0μmである。厚さが0.75μm未満であるカラーフィルタを比較的薄いカラーフィルタとみなすことができ、厚さが0.75μm以上であるカラーフィルタを比較的厚いカラーフィルタとみなすことができる。なお、第1色のカラーフィルタ61と第2色のカラーフィルタ62と第3色のカラーフィルタ63はそれぞれ厚さが異なっていてもよい。例えば、緑色光フィルタおよび青色光フィルタの少なくとも一方は赤色光フィルタよりも薄くてもよい。これにより、フォトダイオード10での感度が低い青色光や、人の目が敏感な緑色光に対する感度を高めることができる。カラーフィルタアレイ6の上には、複数のマイクロレンズ81が行列状に配列されてマイクロレンズアレイ8を構成している。
また、カラーフィルタ61、62、63は光の損失の原因となり得るため、その厚さを極力小さくすることが好ましい。具体的には、カラーフィルタ61、62、63の各々の厚さを、画素のサイズの0.1倍以上0.3倍以下とするとよい。厚さが画素のサイズの0.20倍未満であるカラーフィルタを比較的薄いカラーフィルタとみなすことができ、厚さが画素のサイズの0.20倍以上であるカラーフィルタを比較的厚いカラーフィルタとみなすことができる。なお、画素サイズは画素ピッチと一致すると考えてよく、互いに隣接する画素におけるマイクロレンズ81の頂点間の距離を画素サイズとみなしてよい。
カラーフィルタアレイ6と基板1との間には複数の配線層21、22、23で構成された配線構造2が設けられている。各配線層21、22、23は銅層および/またはアルミニウム層である。配線層間には層間絶縁層を構成する絶縁膜3が設けられている。絶縁膜3は複数の層間絶縁層からなる多層膜で有り得る。最上配線層である配線層23とカラーフィルタアレイ6との間にはパッシベーション膜4が設けられている。パッシベーション膜4は反射防止層を含む多層膜で有り得る。
図1(a)に示した第1例ではパッシベーション膜4は、その上面に、配線構造2の内で最もパッシベーション膜4に近い配線層23の形状が反映されるように、凹凸が形成されている。そして、パッシベーション膜4とカラーフィルタアレイ6との間に平坦化膜5が配されている。平坦化膜5は下地の配線層23によって生じる凹凸を緩和するために設けられている。平坦化膜5はアクリル系樹脂等から成り、スピンコートなどの塗布法によりその上面が平坦に形成されている。平坦化膜5の厚さは大凡0.10〜1.0μm、たとえば0.50μmである。
第1例では、カラーフィルタアレイ6とマイクロレンズアレイ8の間に平坦化膜7が設けられている。平坦化膜7は第1例の平坦化膜5と同様に、下地のカラーフィルタアレイ6によって生じる凹凸を緩和するために設けられている。平坦化膜7はアクリル系樹脂等からなり、塗布法により形成されることで、その上面が平坦なっている。平坦化膜7の厚さは大凡0.10〜1.0μm、たとえば0.50μmである。
図1(b)に示した第2例では、配線構造2の内で最もパッシベーション膜4に近い配線層23とパッシベーション膜4の間に平坦化膜5が配されている。平坦化膜5の上面はCMP法などにより平坦化されている。第2例のようにパッシベーション膜4が平坦な場合には、非常に高い感度を得ることができる。また、第2例では、マイクロレンズアレイ8を成す層がカラーフィルタアレイ6に接している。
撮像装置ISは基板1とカラーフィルタアレイ6等を含むチップを収容するパッケージをさらに備えることもできる。パッケージは、チップが固定された基体と、チップに対向する蓋体と、外部との信号をやり取りするための接続部材と、を含みうる。
撮像装置ISを用いて、撮像システムを構築することができる。撮像システムは、カメラや撮影機能を有する情報端末である。撮像システムは撮像装置ISから得られた信号を処理する信号処理手段や、撮像装置ISで撮影された画像を表示する表示手段、を備えることができる。
図2はカラーフィルタアレイ6の形成方法を説明する断面模式図である。
図2(a)に示す工程aでは、下地膜としての平坦化膜5あるいはパッシベーション膜4を有するウエハの上に、感光性のカラーフィルタ膜610を形成する。カラーフィルタ膜610は、樹脂に着色用の顔料を分散したカラーフィルタ材料をスピンコート等の塗布法により成膜する。染料系のカラーフィルタ材料を用いてもよい。カラーフィルタ膜610の感光性はネガ型が好適であるが、ポジ型でもよい。
図2(b)に示す工程bでは、フォトマスク616を用いてカラーフィルタ膜610をステッパー等の露光装置で適当なパターンに露光する。ネガ型のカラーフィルタ膜610では露光部が硬化して潜像615が形成される。ベイヤー配列を有するカラーフィルタアレイにおいて、典型的に、1番目に形成されるカラーフィルタ膜610の露光パターンは例えば市松模様であり、カラーフィルタ膜610は緑色光フィルタ膜で有り得る。
図2(c)に示す工程cでは、現像液を用いてカラーフィルタ膜610を現像することによりカラーフィルタ膜610から、複数のカラーフィルタパターン614で構成されたカラーフィルタアレイ612を形成する。例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)を含有する現像液により20〜80秒間、現像処理を行うことでカラーフィルタ膜610の不要個所を除去する。この時、顔料を含有するカラーフィルタ膜610では残渣613が生じ易い。
図2(d)に示す工程dでは、流体120を用いた2流体洗浄法によってカラーフィルタアレイ612を洗浄する。この洗浄により、現像工程で用いた現像液が除去され、また、現像時に発生した残渣613が除去され、所望の膜厚を有するカラーフィルタ61からなるカラーフィルタアレイ611が得られる。なお、カラーフィルタ61はカラーフィルタパターン614よりも厚さが小さくなり得る。図2(d)には図2(c)におけるカラーフィルタパターン614の厚さに相当する位置を点線で示している。 その後、カラーフィルタアレイ611と同様にして、第2色のカラーフィルタからなるカラーフィルタアレイを形成する。2番目に形成されるカラーフィルタ62は青色光フィルタで有り得る。青色光フィルタは撮像装置ISの周辺回路が設けられた周辺回路領域において遮光膜として用いられ得る。
図2(e)に示す工程eでは、カラーフィルタアレイ611の上に感光性のカラーフィルタ膜630を形成する。カラーフィルタ膜630は、カラーフィルタ膜610とは異なる色を呈する。ベイヤー配列を有するカラーフィルタアレイ6において、3番目に形成されるカラーフィルタ膜630は赤色光フィルタ膜で有り得る。
図2(f)に示す工程fでは、フォトマスク636を用いてカラーフィルタ膜630を適当なパターンに露光し、カラーフィルタ膜630に潜像635を形成する。
図2(g)に示す工程gでは、現像液を用いてカラーフィルタ膜630を現像することによりカラーフィルタ膜630からカラーフィルタパターン634を有するカラーフィルタアレイ632を形成する。この時、顔料を含有するカラーフィルタ膜630では残渣633が生じ易い。
図2(h)に示す工程hでは、流体120を用いた2流体洗浄法によってカラーフィルタアレイ632を洗浄する。この洗浄により、現像工程で用いた現像液が除去され、また、現像時に発生した残渣633が除去される。そして所望の厚さを有するカラーフィルタ61からなるカラーフィルタアレイ631が形成される。なお、カラーフィルタ63はカラーフィルタパターン634よりも厚さが小さくなり得る。図2(h)には図2(g)におけるカラーフィルタパターン634の厚さに相当する位置を点線で示している。
以上のようにして、3色のカラーフィルタ61、62、63を有するカラーフィルタアレイ6を形成する。さらにマイクロレンズアレイ8を形成して、撮像装置ISを製造することができる。
図3を用いて洗浄工程について詳細に説明する。図3(a)におけるウエハ100には、図2(c)に示したカラーフィルタアレイ612が形成されている。ウエハ100上には、場合によっては上述したカラーフィルタ膜610の残渣613(不図示)が存在している。
洗浄工程では、2流体洗浄法を用いる。2流体洗浄法では、図3(a)に示すように、洗浄装置(不図示)のノズル110から流体120がウエハ100に噴霧、つまり、スプレー状に噴出される。ノズル110の噴出口の径は、例えば5〜10mmである。流体120は、洗浄液としての液体と、洗浄促進のための気体を含む混合物(2流体)である。本実施例では液体には水を、気体には窒素を用いているが、他の流体を用いてもよい。例えば、窒素の代替としてドライエアーを用いてもよい。流体120における気体の流量は10L/min以上100L/min以下であり得る。流体120における液体の流量は0.01L/min以上1L/min以下であり得る。流体120における液体の流量は気体の流量の1/10以下であり得る。
洗浄時には、図3(b)に示すように、カラーフィルタアレイ612をカラーフィルタパターン614の配列面内で回転させる。具体的にはカラーフィルタアレイ6が形成されたウエハ100を洗浄装置のステージの上に戴置し、ステージを回転させる。この時のカラーフィルタアレイ612の回転数n(rpm)は、例えば200rpm以上4000rmp以下とすることが好ましいが、この範囲外でも実施可能である。
また、洗浄時には、図3(b)に示すように、ノズル110をカラーフィルタアレイ612の上で移動させる。ノズル110とカラーフィルタアレイ612との距離は1mm以上20mm以下、より好ましくは1mm以上10mm以下にすることができる。この移動方向は、カラーフィルタ61の配列面に沿った方向であり、カラーフィルタアレイ612の回転軸と交差する方向である。この時のノズルの移動速度v(mm/s)は1mm/s以上100mm/s以下、より好ましくは10mm/s以上50mm/s以下とすることができる。カラーフィルタアレイ612の回転軸に直交する方向、つまり、カラーフィルタ61の配列面に平行な方向にノズル110を移動させることが望ましいが、30°以下であれば、傾いていて移動させることもできる。ノズル110をカラーフィルタアレイ612の回転中心の上を通過するように直線移動させることがより好ましい。
上述したようなカラーフィルタアレイ612の回転と、ノズル110の移動により、カラーフィルタ61内でその上方をノズル110が通過した部分は、図3(c)に示すように渦巻状になる。この渦巻の間隔G(mm)は計算上、60×v/nとなる。n=700、v=40とすればp≒3.4(mm)であり、チップに生じたムラの周期pのオーダーと一致する。したがって、図7(a)に示した、画像に生じたムラおよび図7(b)に示したウエハ100内のムラの分布は、このノズル110が通過した部分と通過しなかった部分との違いによって生じたムラであると云える。ムラが生じる原因を検討したところ、カラーフィルタアレイ6内の同色の複数のカラーフィルタ61からなるカラーフィルタアレイ612において、カラーフィルタ61にわずかな厚さの違いが生じていることが分かった。これは、カラーフィルタアレイ612の表面の高さ分布をAFMで測定することで判明したものである。ただし、AFMの測定範囲はせいぜい100μm×100μmである。したがって、直径が100mmを超えるウエハ100内でのカラーフィルタアレイ612の表面高さの分布の測定に当たっては、ウエハ100内の複数の箇所における高さをサンプリングする必要がある。
カラーフィルタアレイ612のカラーフィルタ61の厚さの違いが生じる理由は、上述した2流体洗浄という、強力な洗浄方法に由来すると考えられる。すなわち、高圧で噴射される流体120によってカラーフィルタアレイ612の表面が削り取られることにより、カラーフィルタアレイ612の厚さが当初のカラーフィルタ膜610の厚さから減少する。そして、ノズル110がその上方を通過した部分と通過していない部分とで、カラーフィルタアレイ612の厚さの減少量が異なるため、カラーフィルタアレイ612に厚さが変動する。カラーフィルタ61の厚さが小さいほど、カラーフィルタ61の透過率が高くなる。その結果、カラーフィルタ61の厚さが小さい画素では、カラーフィルタ61の厚さが大きい画素に比べて、感度が高くなる。
撮像装置ISでは高感度化や微細化を目的としてカラーフィルタを薄くすることが求められている。例えば、カラーフィルタの厚さを0.75μm未満とすることや、カラーフィルタの厚さを画素サイズの0.20倍未満とすることが好ましい。カラーフィルタの厚さが小さくなるほど、また画素サイズが小さくなるほど、カラーフィルタの厚さの変動に対する撮影時の特性変化の割合が大きくなる。そのため、薄いカラーフィルタでは渦巻状のムラの発生による画像への影響が顕著になる。僅か数nm〜数10nm程度のカラーフィルタの厚みの違いが画像として表れるようになったのは、近年の撮像装置の高感度化に因るところがある。とりわけ、上述した第2例のように、パッシベーション膜4が平坦な場合には、感度が高くなり、ムラは顕著に確認されうる。そして、周期的なムラの原因となる間隔Gは画素サイズよりもはるかに大きいオーダーとなるため、画像で顕著に確認することができる。具体的には間隔Gは、少なくとも画素サイズの10倍以上であるため、厚みTの変動の周期もまた、画素サイズの10倍以上となる。間隔Gは画素サイズの100倍以上でありうるし、300倍以上でもありうる。間隔Gは例えば1〜10mmであり、典型的には1〜5mmである。間隔Gは完全に等間隔にはならず、±1mm程度の範囲でばらつき得る。画像におけるムラは、撮像装置の撮像領域(有効画素領域)の対角長が間隔Gよりも大きい場合に顕著に確認できる。撮像領域の対角線長が10mmを超える撮像装置、例えばAPS−Cサイズや35mmサイズのセンサでは、画像のムラはより顕著になり得る。
各カラーフィルタ61の厚さをT、カラーフィルタ61の厚さの平均値をAとして、各カラーフィルタ61の厚さの変動の大きさMは、厚さTの平均値Aからの差分Dの変化の振幅、すなわち、D=|T−A|の最大値で表される。平均値Aに対する変動の大きさMの割合R=100×M/A(%)が2.0%以下であれば、カラーフィルタアレイの厚さの変動が画像に与える影響を無視することができる。つまり、変動の大きさMを平均値Aの2.0%以下にすることが必要である。変動の大きさMは例えば1nm以上20nm以下とすることが好ましく、10nm以下とすることがより好ましい。このように、ムラの低減を実現するための実施形態を以下に説明する。
<第1実施形態>
本実施形態は、カラーフィルタ61の厚さTの減少量を低減することで、厚さの変動の大きさMを低減するものである。具体的には、流体120中の気体の流量Fを55(L/min)以下とする。図4(b)に示すように、流体120中の気体の流量Fが55(L/min)以下では、流量Fが60(L/min)以上の場合に比べて、変動が小さくなっている。そして、図4(c)に示すように、流量Fが55(L/min)以下では割合Rが2.0%以下となり、画像のムラも無視できるレベル(ムラ:○)になる。図4(c)に示したデータは、n=700(rpm)、v=40(mm/s)、流体120の液体(水)の流量を0.1(L/min)としている。図4(c)に示すデータは、カラーフィルタ61の厚さTの平均値(A)を0.67μmとした複数のサンプルについて、厚さの変動の大きさMの測定結果の中央値を採用している。流体120中の液体の流量は、気体の流量に比べて1/10以下と非常に小さいため、液体の流量を変化させても、厚さTの変動の大きさMはほとんど変化しない。
<第2実施形態>
本実施形態では、カラーフィルタアレイ612内のノズル110が通過する部分と通過しない部分の間隔Gを小さくすることで、厚さの変動の大きさMを低減するものである。具体的には、カラーフィルタアレイ612の回転数n(rpm)とノズル110の移動速度v(mm/s)をn/v≧35を満たすように設定する。n/v≧35であれば、間隔G=60×v/n≦1.7(mm)となる。ノズル110から噴霧される流体120の広がりを考慮すると、ノズル110が通過する部分の間隔Gを1.7(mm)以下にすれば、ノズル110が通過した部分と通過していない部分とで洗浄の程度に実質的な差が生じない。そのため、図5(b)に示すように、膜厚Tの変動の周期と振幅の両方を低減することができる。特に、ノズル110の噴出口の径をD(mm)として、D>60×v/nとすることが好ましい。Dが5〜10(mm)である場合にこの関係を満たすと、n/v≧35>60/D>6となる。
そして、図5(c)に示すように、n/v≧35では割合Rが2.0%以下となり、画像のムラも無視できるレベル(ムラ:○)になる。図5(c)に示したデータは、流体120の液体(水)の流量を0.1(L/min)、気体(窒素)の流量を60(L/min)としている。図5(c)に示すデータは、カラーフィルタ61の厚さTの平均値(A)を0.70μmとした複数のサンプルについて、厚さの変動の大きさMの測定結果の中央値を採用している。さらに、気体(窒素)の流量を第1実施形態に示したように55(L/min)以下とすれば、より厚さTの変動が低減され、ムラも改善することができる。
<第3実施形態>
本実施形態では、まず、ノズル110の第1の移動W1によってノズル110をカラーフィルタアレイ612に対して渦巻状に通過させる。その後、ノズル110の第2の移動W2によって、カラーフィルタアレイ612に対して渦巻状に通過させる。この時、第2の移動W2で通過する部分は、第1の移動W1によって渦巻状に通過した部分の間の部分とする。このようにすることで、ノズル110が通過した部分と通過しなかった部分とでのカラーフィルタの厚さTの違いを低減する。例えば、第1の移動W1と第2の移動W2とで、渦巻状の軌跡の周期に対し、位相が反転するようにノズル110を移動させることができる。具体的には、スプレーノズルを1度移動させたときに発生する渦巻状のムラの周期に対し、奇数/2倍だけ位相がずれるように移動させる。これを実現するためには、例えば図6(b)に示したように、第1の移動W1の起点S1と第2の移動W2の起点S2とを、基板の中心を挟んで対称な位置にする。あるいは、第2の移動の起点S2を第1の移動の起点S1よりもG/2だけ中心軸にずらした位置にする。図6(b)に示した軌跡を得るにはほかにも様々なノズル110の移動方法がある。
このような方法により、図6(c)に示したように、第1の移動W1によって発生したムラと第2の移動W2によって発生したムラとが重ね合わせられる。そして、カラーフィルタの厚さTの変動が打ち消し合い、画像のムラを低減することができる。
上述した実施形態は、本発明の思想を逸脱しない範囲において適宜変更や組み合わせが可能である。
以上の実施形態では、最初に形成される、例えば緑色光フィルタを含むカラーフィルタアレイ611の形成における洗浄工程について説明した。しかし、最後に形成される、例えば赤色光フィルタを含むカラーフィルタアレイ631の形成における洗浄工程にも適用できる。また、青色光フィルタを含むカラーフィルタアレイの形成における洗浄工程にも適用できる。最初に形成されるカラーフィルタアレイ611は平坦面に形成されるために、厚さTの変動が顕著であるため、上述した条件で洗浄工程を行うことが好ましい。また、最後に形成されるカラーフィルタアレイ631は、他の色のカラーフィルタとの重なりを低減するために薄く形成することが好ましいため、上述した条件で洗浄工程を行うとよい。また、最後のカラーフィルタアレイを形成するまでに複数回の洗浄工程を経ることから、全てのカラーフィルタアレイの形成において、上述した条件で洗浄工程を行うことが好ましい。
以上説明したように、2流体洗浄法を用いると、同色のカラーフィルタ61を有する複数の画素の各々のカラーフィルタの厚さTが、複数の画素のサイズの10倍以上の間隔で周期的に変動したカラーフィルタアレイが形成されうる。しかし、第1、第2、第3実施形態によれば、厚さTの変動の振幅(変動の大きさM)が厚さTの平均値Aの2.0%以下であることで、厚さTの変動の画像への影響を低減することができる。上述した実施形態では撮像装置における撮影画像に生じるムラについて説明したが、カラーフィルタアレイを備えた表示装置においては表示画像に生じるムラを低減することができる。
611 カラーフィルタアレイ(洗浄後)
613 カラーフィルタアレイ(洗浄前)
110 ノズル
120 流体

Claims (10)

  1. 感光性のカラーフィルタ膜を露光する工程と、
    現像液を用いて前記カラーフィルタ膜を現像することにより前記カラーフィルタ膜からカラーフィルタアレイを形成する工程と、
    前記カラーフィルタアレイを回転させ、かつ、液体および気体を含む流体を噴霧するノズルを前記カラーフィルタアレイの上で前記回転の軸と交差する方向に移動させながら、前記流体で前記カラーフィルタアレイを洗浄する工程と、を有し、
    前記洗浄する工程では、前記カラーフィルタアレイの回転数をn(rpm)、前記ノズルの移動速度をv(mm/s)、ノズルの噴出口の径をD(mm)として、n/v≧35およびD>60×v/nを満たすことを特徴とするカラーフィルタアレイの形成方法。
  2. 前記洗浄する工程では、前記気体の流量を55(L/min)以下とすることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタアレイの形成方法。
  3. 前記洗浄する工程では、前記ノズルの第1の移動によって前記ノズルを前記カラーフィルタアレイに対して渦巻状に通過させた後、前記ノズルの第2の移動によって、前記カラーフィルタアレイの上で前記第1の移動によって通過した部分の間の部分を渦巻状に通過させることを特徴とする請求項1または2に記載のカラーフィルタアレイの形成方法。
  4. 前記カラーフィルタアレイは第1色を呈し、前記第1色を呈する前記カラーフィルタアレイを形成した後に、第2色を呈するカラーフィルタアレイを形成し、第2色を呈するカラーフィルタアレイを形成した後に第3色を呈するカラーフィルタアレイをさらに形成する、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のカラーフィルタアレイの形成方法。
  5. 複数の光電変換部を有する基板の上に、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のカラーフィルタアレイの形成方法を用いてカラーフィルタアレイを形成する工程を有する、撮像装置の製造方法。
  6. 前記カラーフィルタアレイを形成する工程において形成されるカラーフィルタアレイは、各々が同色を呈するカラーフィルタからなり、
    前記撮像装置は前記各々が同色を呈するカラーフィルタを有する複数の画素を備え
    前記洗浄する工程の後において、前記複数の画素の各々の前記カラーフィルタの厚さの平均値が0.75μm未満であり、
    前記複数の画素の各々の前記カラーフィルタの厚さが、前記複数の画素の間隔の10倍以上の間隔で周期的に変化しており、前記変化の振幅が前記平均値の2.0%以下であることを特徴とする請求項5に記載の撮像装置の製造方法
  7. 前記カラーフィルタは緑色光フィルタまたは赤色光フィルタである、請求項6に記載の撮像装置の製造方法
  8. 前記平均値が、前記複数の画素の各々のサイズの0.20倍未満である、請求項6または7に記載の撮像装置の製造方法
  9. 前記変化の振幅が1nm以上10nm以下である、請求項6乃至8のいずれか1項に記載の撮像装置の製造方法
  10. 前記感光性のカラーフィルタ膜を露光する工程の前に、前記基板の上に複数のアルミニウム層と、平坦化膜と、パッシベーション膜と、を形成する工程を有する、請求項6乃至9のいずれか1項に記載の撮像装置の製造方法
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