JP6493825B2 - 半導体レーザ素子 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体レーザ素子に関する。
光通信における光の発振素子として、直接変調型の半導体レーザ素子が用いられている。例えば特許文献1には、電極ストライプ幅及びクラッド層のキャリア濃度が制御されることにより、高速動作が可能な半導体レーザ素子が開示されている。
特開平5−29703号公報
近年、更なる高速変調(例えば15GHz〜30GHz)が可能な半導体レーザ素子が求められている。このような半導体レーザ素子においては、その共振器長を短縮することによる高速変調技術が検討されている。しかしながら、共振器長の短縮に伴って半導体レーザ素子が小型化し、製造工程における当該半導体レーザ素子の取扱いが困難になってしまう。
本発明は、製造工程における取扱いが容易であり、高速変調が可能な半導体レーザ素子を提供することを目的とする。
本発明の一形態に係る半導体レーザ素子は、互いに対向した第1の側面と第2の側面を有する半導体基板と、半導体基板上に設けられ、第1の側面と第2の側面との内側に位置する第3の側面と第4の側面とに挟まれた、レーザ共振構造と、レーザ共振構造に接続された電極パッドと、を有する本体部を備え、電極パッドは、半導体基板上のレーザ共振構造に沿った領域であって、第3の側面と第4の側面との距離以上の距離で対向した第5の側面と第6の側面とを有する領域に配置されたものである。
本発明によれば、製造工程における取扱いが容易であり、高速変調が可能な半導体レーザ素子及びその製造方法を提供できる。
図1は、第1実施形態に係る半導体レーザ素子を示す平面図である。 図2は、図1のII−II線矢視断面図である。 図3は、図1のIII−III線矢視断面図である。 図4は、図1のIV−IV線に沿った端面図である。 図5の(a)〜(c)は、第1実施形態に係る半導体レーザ素子の製造方法を説明するための断面図である。 図6の(a),(b)は、第1実施形態に係る半導体レーザ素子の製造方法を説明するための断面図である。 図7は、第2実施形態に係る半導体レーザ素子を示す平面図である。 図8は、図7のVIII−VIII線に沿った端面図である。 図9は、第3実施形態に係る半導体レーザ素子を示す平面図である。 図10は、第4実施形態に係る半導体レーザ素子を示す平面図である。 図11は、図10のXI−XI線矢視断面図である。
[本願発明の実施形態の説明]
最初に本願発明の実施形態の内容を列記して説明する。本願発明の一実施形態は、互いに対向した第1の側面と第2の側面を有する半導体基板と、半導体基板上に設けられ、第1の側面と第2の側面との内側に位置する第3の側面と第4の側面とに挟まれた、レーザ共振構造と、レーザ共振構造に接続された電極パッドと、を有する本体部を備え、電極パッドは、半導体基板上のレーザ共振構造に沿った領域であって、第3の側面と第4の側面との距離以上の距離で対向した第5の側面と第6の側面とを有する領域に配置された半導体レーザ素子である。
この半導体レーザ素子によれば、半導体基板上に設けられるレーザ共振構造は、第1の側面と第2の側面との内側に位置する第3の側面と第4の側面とにはさまれている。これにより、製造工程において半導体基板を含む本体部の大きさを取り扱いが容易な大きさに設定すると共に、レーザ共振構造の共振器長を短縮することができる。したがって、製造工程における取扱いが容易であり、高速変調が可能な半導体レーザ素子を提供できる。また、電極パッドは、第3の側面と第4の側面との距離以上の距離で対向した第5の側面と第6の側面とを有する領域に配置されている。これにより、レーザ共振構造の共振器長を短縮しつつ、電極パッドの面積を大きくすることができる。例えば、電極パッドに複数のワイヤがボンディング接続される場合、当該電極パッドの設計マージンを十分に確保することができ、半導体レーザ素子の生産性の低下が抑制される。
また、電極パッドの長さは、レーザ共振構造の長さよりも長くてもよい。この場合、電極パッドの面積を大きくできるので、半導体レーザ素子の生産性の低下が良好に抑制される。
また、レーザ共振構造の長さ方向に直交する方向における電極パッドの長さは、レーザ共振構造の長さよりも長くてもよい。この場合、電極パッドの面積を大きくできるので、半導体レーザ素子の生産性の低下が良好に抑制される。
[本願発明の実施形態の詳細]
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態に係る半導体レーザ素子を示す平面図である。図2は、図1のII−II線矢視断面図である。図3は、図1のIII−III線矢視断面図である。図4は、図1のIV−IV線に沿った端面図である。図1及び図2に示されるように、半導体レーザ素子1は、本体部2と、活性層3と、電極4,5と、配線6,7と、電極パッド8,9と、を備えている。活性層3と、電極4,5と、配線6,7と、電極パッド8,9とは、本体部2における半導体基板21上に設けられる。半導体基板21は、例えばn型InP基板等であり、厚さは例えば100μm〜200μmである。
図1に示されるように、本体部2は、その厚さ方向から見て四角形状となっており、側面2a〜2dを有する。なお、半導体基板21の側面は、それぞれ側面2a〜2dに含まれている。本体部2の厚さ方向から見て、側面2a,2bは互いに対向すると共に所定方向に延在している。また、本体部2の厚さ方向から見て、側面2c,2dは互いに対向すると共に所定方向と交差する方向に延在している。以下では、図1の所定方向を方向D1とし、図1の所定方向に交差する方向を方向D2とし、本体部2の厚さ方向を方向D3と定義する。また、方向D1と方向D2とは、互いに直交している。方向D3から見て、側面2aは本体部2の中心に対して左側に位置し、半導体基板21における側面(第1の側面)21aを含む。側面2bは本体部2の中心に対して右側に位置し、半導体基板21における側面(第2の側面)21bを含む。また、方向D3から見て、側面2cは本体部2の中心に対して下側に位置し、側面2dは本体部2の中心に対して上側に位置する。本体部2において、方向D1に沿った長さ(つまり、側面2aと側面2bとの間の距離)L1は、例えば200μm〜500μmであり、方向D2に沿った長さ(つまり、側面2cと側面2dとの間の距離)L2は、例えば200μm〜500μmである。本実施形態では、長さL1と長さL2とは互いに300μmである。
図2に示されるように、本体部2は、少なくとも半導体基板21と、第1クラッド層22と、埋め込み層23と、絶縁膜24とを有している。第1クラッド層22は、半導体基板21上に設けられており、例えばn型InP層である。第1クラッド層22の膜厚は、例えば1μmである。埋め込み層23は、第1クラッド層22上に設けられており、例えばp型InP層、n型InP層、p型InP層の順に積層された構造を有している。埋め込み層23の膜厚は、例えば3μmである。絶縁膜24は、半導体基板21、第1クラッド層22及び埋め込み層23を覆うように設けられており、例えば酸化ケイ素膜又は窒化ケイ素膜である。絶縁膜24の膜厚は、例えば0.5μmである。
本体部2の一部には、方向D1に沿って延在する一対の溝25,26が設けられている。一対の溝25,26は、少なくとも半導体基板21上の第1クラッド層22の一部及び埋め込み層23の一部が除去されることによって設けられている。方向D3における一対の溝25,26の深さは、例えば15μmである。方向D3から見て、方向D2に沿った溝25の幅は、方向D2に沿った溝26の幅よりも大きくなっている。一対の溝25,26の表面は、一部を除いて絶縁膜24によって覆われている。具体的には、溝25の底面25aを覆う絶縁膜24の一部に開口部24aが設けられており、半導体基板21の一部が露出している。この開口部24aを埋設するように電極4が設けられている。電極4は、開口部24aを介して半導体基板21に接続されており、半導体基板21を介して活性層3と電気的に接続されている。電極4は、例えばAuZnの金属層又はこれらの金属を含む合金層である。
図1及び図2に示されるように、方向D2において、一対の溝25,26によって挟まれる領域には、メサ構造(レーザ共振構造)30が設けられている。このメサ構造30は、本体部2の一部であり、方向D1に沿ったメサ構造30の長さL3は、本体部2の長さL1よりも短い。メサ構造30の長さL3は、例えば50μm〜150μmである。メサ構造30は、第1クラッド層(第1の半導体層)31と、第2クラッド層(第2の半導体層)32と、活性層3と、埋め込み層33と、回折格子34とを有している。第1クラッド層31は、第1クラッド層22と同じn型InP層であり、活性層3の下方に設けられる。第2クラッド層32は、活性層3上に設けられており、例えばp型InP層である。第2クラッド層32の膜厚は、例えば1.5μmである。埋め込み層33は、埋め込み層23と同じ構造を有している。回折格子34は、方向D3において活性層3と重なるように第1クラッド層31内に設けられており、第1クラッド層31とは異なる屈折率を有する。第1クラッド層31が上述の通りn型InP層である場合、回折格子34は、例えばInGaAsPを含む。メサ構造30は、互いに対向すると共に方向D2に延在している端面30a,30bによって挟まれている。端面(第3の側面)30aは、側面2a側に位置しており、端面(第4の側面)30bは、側面2b側に位置している。すなわち、端面30a,30bは、半導体基板21上において、側面21a,21bの内側に位置している。
活性層3は、方向D1に沿って延在するストライプ状の光導波路層である(図4を参照)。つまり、活性層3の光出射方向は方向D1である。方向D1に沿った活性層3の長さ(共振器長)は、メサ構造30の長さL3と略同一である。したがって、方向D1に沿った活性層3の長さは、本体部2の長さL1よりも短い。換言すれば、方向D1に沿った活性層3の長さは、本体部2における側面2aと側面2bとの間の距離よりも短い。図2に示されるように、活性層3は、方向D3において第1クラッド層31と第2クラッド層32とによって挟まれると共に、埋め込み層33によってその側面が覆われている。活性層3の膜厚は、例えば0.2μmである。活性層3は、例えば多重量子井戸(MQW:multi quantum well)構造となるように、複数のInGaAsP層を有している。
活性層3上の絶縁膜24の一部には開口部24bが設けられており、第2クラッド層32の一部が露出している。この開口部24bを埋設するように電極5が設けられている。つまり、電極5は第2クラッド層32を挟んで活性層3上に設けられている。電極5は、開口部24bを介して第2クラッド層32に接続されており、活性層3に電流を供給する電極として機能する。電極5は、例えばAuZn等の金属層又はこれらの金属を含む合金層である。電極5には、例えば変調信号及びバイアス電流が配線7を介して供給される。
配線6は、溝25上と、メサ構造30に対して本体部2の側面2c側の埋め込み層23上とに位置するように、方向D2に沿って延在する導電層である。配線6は、溝25から側面2aに向かって延在している。配線6は、例えば金(Au)からなる金属層であり、方向D1に沿った幅は例えば20μm〜50μmである。方向D3から見た配線6の一端は、溝25内に設けられている電極4に接続されている。方向D3から見た配線6の他端は、電極パッド8に接続されている。すなわち、配線6は、電極4と電極パッド8とを互いに接続するために設けられている。
電極パッド8は、溝25に対して本体部2の側面2c側の配線6上に設けられている。電極パッド8は、方向D3において活性層3よりも高い位置に設けられる。具体的には、図1に示されるように溝25よりも側面2c側に位置し、図2及び図3に示される第1クラッド層22、埋め込み層23及び絶縁膜24によって構成される領域27上に、電極パッド8が設けられる。この領域27は、互いに対向すると共に方向D2に延在している側面27a,27bを有している。図1において、側面(第5の側面)27aは側面2aと重なっており、側面(第6の側面)27bは側面2bと重なっている。すなわち、側面27a,27bの間の距離は、メサ構造30の端面30a,30bの間の距離よりも大きい。方向D3から見た電極パッド8の方向D1に沿った長さは、方向D2に沿った電極パッド8の長さ、及びメサ構造30の長さL3よりも大きい。方向D3から見た電極パッド8の方向D1に沿った長さは、例えば100μm〜300μmであり、方向D2に沿った長さは、例えば50μm〜150μmである。電極パッド8の表面には、例えば基準電位を有するワイヤがボンディング接続される。
配線7は、少なくともメサ構造30上、溝26上、及びメサ構造30に対して本体部2の側面2d側の埋め込み層23上に位置するように、方向D2に沿って延在する導電層である。配線7は、メサ構造30から本体部2の側面2dに向かって延在している。配線7は、例えば金(Au)からなる金属層であり、方向D1に沿った幅は例えば100μm〜300μmである。配線7には変調信号及びバイアス電流が供給されるので、配線7の長さ及び幅は、当該変調信号に整合している(整合条件に合致している)。方向D3から見た配線7の一端は、溝25内に位置しており、電極4及び配線6と電気的に絶縁している。また、配線7は、メサ構造30上にて電極5と接続されている。方向D3から見た配線7の他端は、電極パッド9に接続されている。すなわち、配線7は、電極5と電極パッド9とを互いに接続するために設けられている。
電極パッド9は、溝26に対して本体部2の側面2d側の配線7上に設けられている。電極パッド9は、方向D3において活性層3よりも高い位置に設けられる。具体的には、図1に示されるように溝26よりも側面2d側に位置し、図2及び図3に示される第1クラッド層22、埋め込み層23及び絶縁膜24によって構成される領域28上に、電極パッド9が設けられる。この領域28は、互いに対向すると共に方向D2に延在している側面28a,28bを有している。図1において、側面(第5の側面)28aは側面2aと重なっており、側面(第6の側面)28bは側面2bと重なっている。すなわち、側面28a,28bの間の距離は、メサ構造30の端面30a,30bの間の距離よりも大きい。方向D3から見た電極パッド9の方向D1に沿った長さは、方向D2に沿った電極パッド9の長さ、及びメサ構造30の長さL3よりも大きい。方向D3から見た電極パッド9の方向D1に沿った長さは、例えば100μm〜300μmであり、方向D2に沿った長さは、例えば50μm〜150μmである。電極パッド9の表面には、例えば変調信号が供給されるワイヤと、バイアス電流が供給されるワイヤとがボンディング接続される。
図1、図3及び図4に示されるように、本体部2における側面2aには段差41が設けられている。この段差41は、側面2aの中央部の半導体基板21、第1クラッド層22、埋め込み層23、絶縁膜24、及びメサ構造30が除去されることによって形成される。よって、段差41は、方向D2において本体部2の側面2c,2dと離間すると共に、当該側面2c,2dの間に位置している。また、段差41は、半導体基板21の一部が除去されることによって形成されるので、溝25,26の深さよりも深くなっている。方向D3に沿った段差41の深さは、例えば60μmである。段差41は、例えば凹部、窪み、またはオフセットと表現されてもよい。
方向D3から見て特定されると共に段差41を構成する面42は、半導体基板21の一部が除去されることによって形成される略長方形状の面である。この面42の方向D2に沿った長辺の長さL4は、例えば100μmであり、短辺の長さL5は、例えば50μmである。また、方向D3において、半導体基板21及び第1クラッド層22の界面と、上記面42との間の距離は、約51μmである。ここで、上述したように第1クラッド層31の厚さは、1μmであるので、面42から活性層3までの距離は長さL5と略同一になる。図4に示されるように、活性層3の光出射面3aから出射される光Aの放射角θは、約80°となるので、光Aの放射内に反射面である面42が入らないため、面42による光の反射が抑制される。
また、図1及び図4に示されるように、段差41を構成し、方向D1に直交する面43は、活性層3の光出射面3aを含むメサ構造30の端面30aを有している。面43は、方向D1において側面2aよりも本体部2の中心側に位置している。
本体部2における側面2bには、段差41と同様の段差44が設けられている。この段差44の深さは、段差41と略同一である。また、方向D3から見て特定されると共に段差44を構成する面45は、半導体基板21の一部が除去されることによって形成される略長方形状の面である。この面45の方向D2に沿った短辺の長さL6は、例えば100μmであり、長辺の長さL7は、例えば100μm〜400μmである。段差44を構成し、方向D1に直交する面46は、メサ構造30の端面30bを有している。面46は、方向D1において側面2bよりも本体部2の中心側に位置している。段差44は、例えば凹部、窪み、またはオフセットと表現されてもよい。
図4に示されるように、段差41上及び段差44上には、透明の端面膜47,48がそれぞれ形成されている。端面膜47,48の各々は、例えば酸化チタン膜及び酸化アルミニウム膜を含む積層体である。端面膜47,48は、2層以上の酸化チタン膜又は酸化アルミニウム膜を有してもよく、また、酸化チタン膜及び酸化アルミニウム膜以外の透明膜を有してもよい。端面膜47,48の厚さは、例えば0.1μm〜1.5μmである。
次に、第1実施形態に係る半導体レーザ素子1の製造方法(特に段差41を形成する方法)について図5の(a)〜(c)及び図6の(a),(b)を用いながら説明する。図5の(a)〜(c)及び図6の(a),(b)は、第1実施形態に係る半導体レーザ素子の製造方法を説明するための断面図である。
まず、図5の(a)に示されるように、公知の方法にて半導体基板21上に、第1クラッド層31、活性層3、第2クラッド層32、及び埋め込み層33を有するメサ構造30を形成する。また、メサ構造30を形成する過程で、第1クラッド層22、埋め込み層23、及び絶縁膜24を半導体基板21上に形成する。これにより、本体部2を形成する。そして、メサ構造30の活性層3に接続される電極4,5と、電極4に接続される配線6及び電極5に接続される配線7と、配線6に接続される電極パッド8及び配線7に接続される電極パッド9と、を順に形成する。
次に、本体部2、電極4,5、配線6,7、及び電極パッド8,9上にマスクを形成する。マスクは、例えば膜厚100nmを有するフォトレジストである。そして、図5の(b)に示されるように、例えばフォトリソグラフィーにより、メサ構造30の一部と、溝25の一部と、溝26の一部とを露出するマスク51を形成する。
次に、図5の(c)に示されるように、マスク51から露出したメサ構造30と、露出した半導体基板21とをエッチングし、除去する。これにより、メサ構造30における活性層3の光出射面3aを含む端面30aを形成する(図4参照)と共に、本体部2の側面2aに段差41を、側面2bに段差44をそれぞれ形成する(図1及び図4参照)。
次に、図6の(a)に示されるように、段差41を構成する面上に端面膜47を形成する。例えば、250℃、5×10−3Paの条件に設定された真空蒸着法にて、酸化チタン膜及び酸化アルミニウム膜を交互に積層することにより、端面膜47を形成する。端面膜47の形成と同時に、段差44を構成する面上に端面膜48が形成される(図4参照)。
次に、図6の(b)に示されるように、マスク51を除去する。例えば、バッファードフッ酸を用いたウェットエッチングにて、マスク51を除去する。以上の工程を経て、本体部2の一部に段差41及び段差44が設けられた半導体レーザ素子1を形成する(図1〜図4参照)。
以上に説明した製造方法によって形成される、第1実施形態に係る半導体レーザ素子1によって得られる効果について説明する。第1実施形態に係る半導体レーザ素子1において、半導体基板21上に設けられるメサ構造30は、半導体基板21の側面21a,21b(本体部2の側面2a,2b)の内側に位置する端面30a,30bに挟まれている。すなわち、メサ構造30の長さL3は、本体部2の長さL1よりも短くなっている。これにより、製造工程において半導体基板21を含む本体部2の大きさを取り扱いが容易な大きさに設定すると共に、活性層3の共振器長を短縮することができる。したがって、製造工程における取扱いが容易であり、高速変調が可能な半導体レーザ素子1を提供できる。
また、電極パッド9は、メサ構造30の端面30a,30bの間の距離以上の距離で対向した側面28a,28bを有する領域28に配置されており、当該電極パッド9の長さは、メサ構造30の長さL3よりも長くてもよい。この場合、メサ構造30の長さL3を短縮しつつ、電極パッド9の面積を大きくすることができる。例えば、電極パッド9に複数のワイヤがボンディング接続される場合、当該電極パッド9の設計マージンを十分に確保することができ、半導体レーザ素子1の生産性の低下が抑制される。
また、本体部2における側面2aには段差41が設けられ、活性層3の光出射面3aを含むメサ構造30の端面30aは、段差41を構成すると共に方向D1に交差する面43に含まれていてもよい。この場合、例えばエッチング等によって段差41を形成することができるため、メサ構造30の長さL3を本体部2の長さL1よりも容易に短くすることができる。また、段差41の方向D3に沿った深さを調整することによって、活性層3から出射した光の一部が半導体基板21に到達することを防ぐことができる。これにより、半導体基板21によって反射しない光を活性層3から出射することができる。
また、本体部2は、方向D3から見て四角形状を有すると共に方向D1に沿って延在し、互いに対向する側面2c及び側面2dを有し、段差41を構成する面43は、側面2c及び側面2dと離間すると共に側面2c及び側面2dの間に位置してもよい。この場合、本体部2における側面2aの一部に段差41が設けられるので、当該側面2a付近における半導体基板21の強度の低下を抑制できる。
(第2実施形態)
以下では、第2実施形態に係る半導体レーザ素子について説明する。第2実施形態の説明において第1実施形態と重複する記載は省略し、第1実施形態と異なる部分を記載する。つまり、技術的に可能な範囲において、第2実施形態に第1実施形態の記載を適宜用いてもよい。
図7は、第2実施形態に係る半導体レーザ素子を示す平面図である。図8は、図7のVIII−VIII線に沿った端面図である。図7及び図8に示されるように、半導体レーザ素子1Aの本体部2における側面2aの全体に段差41Aが設けられている。方向D3から見て特定される面42Aは、本体部2の側面2c,2dに接している。よって、この面42Aの方向D2に沿った長さは、本体部2の長さL2と同一である。また、面42Aの方向D1に沿った長さL8は、例えば15μmである。この長さL8は、方向D3において面42Aから活性層3までの距離と略同一になる。また、段差41Aを構成し、方向D1に直交する面43Aは、面42Aと同様に本体部2の側面2c,2dに接している。
そして、面43Aを構成するメサ構造30の端面30aと領域27(28)の側面27a(28a)とは、互いに面一になっている。この場合であっても、第1実施形態と同等の効果を奏する。さらに、本体部2における側面2aの全体に段差41Aが設けられるので、当該段差41Aの形状を第1実施形態よりも容易に制御できる。
(第3実施形態)
以下では、第3実施形態に係る半導体レーザ素子について説明する。第3実施形態の説明において第1実施形態及び第2実施形態と重複する記載は省略し、これらと異なる部分を記載する。つまり、技術的に可能な範囲において、第3実施形態に第1実施形態及び第2実施形態の記載を適宜用いてもよい。
図9は、第3実施形態に係る半導体レーザ素子を示す平面図である。図9に示されるように、半導体レーザ素子1Bにおける本体部2の方向D2に沿った長さL2は、本体部2の方向D1に沿った長さL1よりも長くなっている。長さL2は、例えば400μmである。また、本体部2における側面2aの全体に段差41Aが設けられていると共に、本体部2における側面2bの全体に段差44Aが設けられている。方向D3から見て特定される面45Aは、本体部2の側面2c,2dに接している。また、段差44Aを構成し、方向D1に直交する面46Aは、面45Aと同様に本体部2の側面2c,2dに接している。そして、面46Aを構成するメサ構造30の端面30bと領域27(28)の側面27b(28b)とは、互いに面一になっている。よって、メサ構造30の端面30a,30bの間の距離は、領域28の側面28a,28bの間の距離と同一になっている。
配線6上に設けられる電極パッド8Aを方向D3から見た場合、方向D1に沿った長さは、例えば50μmであり、方向D2に沿った長さは、例えば50μmである。一方、配線7上に設けられる電極パッド9Aを方向D3から見た場合、方向D1に沿った長さは、例えば50μmであり、方向D2に沿った長さは、例えば150μmである。つまり、活性層3の光出射方向である方向D1に直交する方向である方向D2における電極パッド9Aの長さは、方向D1に沿った電極パッド9Aの長さよりも大きい。また、方向D3から見た電極パッド9Aの面積は、電極パッド8Aの面積よりも大きい。この場合であっても、第2実施形態と同等の効果を奏する。さらに、上述したように電極パッド9Aには複数のワイヤがボンディング接続されることから、電極パッド9Aの設計マージンを十分に確保することができ、半導体レーザ素子1Bの生産性の低下が抑制される。
(第4実施形態)
以下では、第4実施形態に係る半導体レーザ素子について説明する。第4実施形態の説明において第1〜第3実施形態と重複する記載は省略し、これらと異なる部分を記載する。つまり、技術的に可能な範囲において、第4実施形態に第1〜第3実施形態の記載を適宜用いてもよい。
図10は、第4実施形態に係る半導体レーザ素子を示す平面図である。図11は、図10のXI−XI線矢視断面図である。図10及び図11に示されるように、半導体レーザ素子1Cの本体部2において、メサ構造30及び溝25,26を含む領域61の周囲の全体が窪んでいる。つまり、本体部2の側面2a〜2dには、互いに連結された段差62(凹部、窪み、またはオフセットとも言う)が形成されており、方向D3から見た当該段差62は、上記領域61を囲むように形成されている。また、方向D3から見て特定されると共に段差62を構成する面63上には、電極パッド8,9が形成されている。面63は、例えばメサ構造30に沿った領域64,65を有する。電極パッド8は領域64上に設けられ、電極パッド9は領域65上に設けられる。領域64は、端面30a,30bの間の距離以上で対向した側面(第5、第6側面)64a,64bを有する。領域65は、端面30a,30bの間の距離以上で対向した側面(第5、第6側面)65a,65bを有する。図11に示されるように、電極パッド8,9は、方向D3において活性層3よりも下側に位置している。つまり、電極パッド8,9は、方向D3において活性層3よりも低い位置に設けられる。
本発明による半導体レーザ素子及び半導体レーザ素子の製造方法は、上述した実施形態に限られるものではなく、他に様々な変形が可能である。例えば、上記実施形態における本体部2は、方向D3から見て平行四辺形状でもよく、角が丸まった四角形状でもよい。
また、上記実施形態において、メサ構造30の活性層3には、例えば光増幅領域及び光導波領域等が含まれていてもよい。また、メサ構造30の端面30aのみから光が出射される場合、活性層3に光吸収領域が含まれてもよいし、メサ構造30の端面30aが光吸収層又は光遮断層によって覆われていてもよい。活性層3に光吸収領域が含まれる場合、当該光吸収領域は、メサ構造30の端面30bに接していることが好ましい。勿論、メサ構造30の端面30a,30bの両方から光が出射してもよい。
1,1A,1B,1C…半導体レーザ素子、2…本体部、2a〜2d…側面、3…活性層、3a…光出射面、4,5…電極、6,7…配線、8,8A,9,9A…電極パッド、21…半導体基板、21a,21b…側面、25,26…溝、27,28…領域、28a,28b…側面、30…メサ構造、30a,30b…端面、41,41A,44,44A,62…段差、43,43A…面、47,48…端面膜、64,65…領域、64a,64b…側面、65a,65b…側面。

Claims (2)

  1. 互いに対向した第1の側面と第2の側面を有する半導体基板と、
    前記半導体基板上に設けられた半導体層と、
    前記半導体基板上に設けられ、前記第1の側面と前記第2の側面との内側に位置し、前記第1の側面側の第3の側面と前記第2の側面側の第4の側面とに挟まれた、レーザ共振構造と、
    前記半導体層上に設けられ、前記第1の側面と前記第2の側面との内側に位置し、前記第1の側面側であって前記第3の側面に対して面一になっている第5の側面と前記第2の側面側の第6の側面とに挟まれた電極パッドと、
    前記第1の側面に沿って前記半導体基板上に設けられた段差と、を有し、
    前記レーザ共振構造は、前記半導体層を含むメサ構造を有し、
    前記電極パッドは、前記第1の側面と前記第2の側面とが対向する第1の方向に対して直交する第2の方向における前記メサ構造の両側に設けられ、且つ、前記レーザ共振構造と接続し、
    前記段差は、前記第1の側面と前記第3の側面との間、及び、前記第1の側面と前記第5の側面との間に連続して形成される、半導体レーザ素子。
  2. 前記第2の方向における前記電極パッドの長さは、前記第2の方向における前記レーザ共振構造の長さよりも長い、請求項1に記載の半導体レーザ素子。
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