JP6478281B2 - 粗大粒子の測定方法および粗大粒子の測定装置 - Google Patents

粗大粒子の測定方法および粗大粒子の測定装置 Download PDF

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Description

本発明は、粉体中に含まれる所定の粒子径以上の粒子の粒子径と数を測定する粒子の測定方法および粒子の測定装置に関し、特に、粉体中に低頻度に存在する所定の粒子径以上の粗大粒子を選別した後に、その粒子径と数を測定する粗大粒子の測定方法および粗大粒子の測定装置に関する。
現在、酸化物微粒子、窒化物微粒子、炭化物微粒子等の微粒子は、半導体基板、プリント基板、更には燃料電池の電極等の先端的な分野で用いられている。
上述の微粒子は、各種のガス等を高温で化学反応させる化学的方法、または電子ビームもしくはレーザ等のビームを照射して物質を分解・蒸発させ、微粒子を生成する物理的方法等により製造される。上述の製造方法で、製造された微粒子は、粒度分布を有しており、粗大粒子と微粉とが混在している。上述の用途に用いる場合、特に、微細構造がその動作または特性に大きく影響を与えるような場合では、粗大粒子が存在することによって、その動作または特性を得るために必要な微細構造を構成できなくなることがある。このため、微粉中への粗大粒子の混入量がより少ないことが要求されている。
また、複写機、またはプリンターに利用されるトナーについても、高画質化、および高精細化に伴い、トナーの粒度分布は非常に狭い範囲に収まっていることが要求されるようになってきている。特に、粉体中に含まれる粗大粒子の量は、印刷面の汚れの原因となることからより少ないことが要求されている。
粒度分布の測定方法としては、マイクロトラック等のレーザ法、コールター等の電気的検知帯法、FPIA(フロー式粒子像分析法)、モフォロギ等の撮影画像による計測方法が知られている。しかし、上述のレーザ法、電気的検知帯法および撮影画像による計測方法等では、測定原理上の制約または測定レンジ選定の制約から測定時に想定される粒度分布領域を超えた粗大粒子の個数を高い精度で測定することは難しい。
特許文献1には、透明フラットセル内にトナー粒子を通過させ、通過中のトナー粒子を検出し、粒度分布を測定した後、一定時間遅延の後、パルスレーザーを発光させてカメラで撮影し、得られた静止画像に撮影されたトナー粒子の大きさを測定および画像分析をすることにより、粒子の粒度分布、粗大粒子数を測定することが記載されている。
特開2002−258515号公報
特許文献1の粗大粒子数の測定方法では、トナー粒子の想定される粒度分布領域に合わせて、レンズを選択した場合、被写界深度の制約から粒子径の大きい粗大粒子にピントが合わず測定に必要な像が得られない。また、検出したトナー粒子が重っている場合に、小粒子径の粒子が粗大粒子として測定されることがあり、測定誤差となる。このように特許文献1の測定方法では、粗大粒子を十分な精度で測定することができない。
本発明の目的は、前述の従来技術に基づく問題点を解消し、従来よりも高い精度で、粉体中に低頻度に存在する所定の粒子径以上の粒子数と粒子の数を測定する粗大粒子の測定定方法および粗大粒子の測定装置を提供することにある。
上述の目的を達成するために、本発明は、粉体中に含まれる所定の粒子径以上の粒子の粒子径と数を測定する測定方法であって、表面に粒子がある基材に対し、撮影範囲を設定し、撮影範囲に対して複数の撮影領域を、各撮影領域の一部を重ねて設定する工程と、各撮影領域を撮影し撮影画像を得る工程と、撮影画像について、基材表面の色と粒子の色を抽出する工程と、色抽出の結果に基づき、撮影画像において欠損して撮影された粒子を取り除く工程と、色抽出の結果に基づき、撮影画像において粒子の像を、少なくとも2階調の多階調処理を行う工程と、粒子の多階調像に基づき、粒子の像の輪郭を抽出し、粒子の輪郭画像を得る工程と、粒子の輪郭画像に基づき、粒子の重心位置を求め、重心位置の撮影範囲における座標を求め、粒子の像の位置を特定する工程と、粒子の像の位置に基づき、複数の撮影領域で重複して撮影された粒子を抽出し、重複した粒子を1つの粒子に集約する工程と、粒子の輪郭画像に基づき、粒子の粒子径を求める工程と、粒子の粒子径のうち、所定の粒子径以上の粒子について、粒子の重心位置に基づき、粒子の数を数える工程とを有することを特徴とする粒子の測定方法を提供するものである。
粒子の輪郭画像のうち、輪郭線が閉じていない粒子を特定する工程を有し、輪郭画像において輪郭線が閉じていない粒子は、粒子の数を数える対象から外すことが好ましい。
例えば、基材の表面の粒子は、粉体を濃縮する工程により、所定の粒子径以上の粒子が選別されたものである。
本発明は、粉体中に含まれる所定の粒子径以上の粒子の粒子径と数を測定する測定装置であって、表面に粒子がある基材を載置するステージと、表面に粒子がある基材に対し、撮影範囲を設定し、撮影範囲に対して複数の撮影領域を、各撮影領域の一部を重ねて設定する設定部と、ステージ上に配置され、ステージに対して相対的に移動して、各撮影領域を撮影し撮影画像を得る撮影部と、撮影画像について、基材表面の色と粒子の色を抽出し、色抽出の結果に基づき、撮影画像において粒子の像を、少なくとも2階調の多階調処理を行い、粒子の多階調像に基づき、粒子の像の輪郭を抽出し、粒子の輪郭画像を得て、粒子の輪郭画像に基づき、粒子の重心位置を求め、重心位置の撮影範囲における座標を求め、粒子の像の位置を特定する画像処理部と、粒子の像の位置に基づき、複数の撮影領域で重複して撮影された粒子を抽出し、重複した粒子を1つの粒子に集約し、かつ色抽出の結果に基づき、撮影画像において欠損して撮影された粒子を取り除く除去部と、粒子の輪郭画像に基づき、粒子の粒子径を求め、粒子の粒子径のうち、所定の粒子径以上の粒子について、粒子の重心位置に基づき、粒子の数を数える測定部とを有することを特徴とする粒子の測定装置を提供するものである。
画像処理部は、粒子の輪郭画像のうち、輪郭線が閉じていない粒子を特定するものであり、除去部は、輪郭画像において輪郭線が閉じていない粒子を、測定部での粒子の数を数える対象から外すことが好ましい。
例えば、基材の表面の粒子は、粉体を濃縮する工程により、所定の粒子径以上の粒子が選別されたものである。
本発明の粗大粒子の測定方法および粗大粒子の測定装置によれば、従来よりも高い精度で、粉体中に含まれる所定の粒子径以上の粗大粒子の粒子数と数を測定することができる。
本発明の実施形態の粗大粒子の測定方法に用いられる測定装置を示す模式図である。 (a)は撮影範囲を示す模式図であり、(b)は撮影範囲での撮影領域を示す模式図であり、(c)は撮影領域の配置を示す模式図である。 (a)は粒子の輪郭画像の一例を示す模式図であり、(b)は粗大粒子の輪郭画像の他の例を示す模式図である。 粗大粒子の撮影画像の一例を示す模式図である。 本発明の実施形態の粗大粒子の測定方法で得られた粒子のヒストグラムの一例を示すグラフである。 本発明の実施形態の粗大粒子の測定方法を工程順に示すフローチャートである。 本発明の実施形態の粗大粒子の測定方法のうち、粒子像の抽出工程および粒子径算出工程を工程順に示すフローチャートである。
以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明の粗大粒子の測定方法および粗大粒子の測定装置を詳細に説明する。
図1は本発明の実施形態の粗大粒子の測定方法に用いられる測定装置を示す模式図である。
測定装置10は、粉体中に含まれる所定の粒子径以上の粒子の数を測定する測定装置である。
測定装置10は、ステージ12と、撮影部14と、測定ユニット16と、ステージコントローラ18とを有する。測定装置10では、測定ユニット16により、撮影部14およびステージコントローラ18が制御される。
ステージ12は、その上面12aに基材22が載置される。ステージ12は、同一平面内で直交する2方向に基材22を移動させることができるものである。ステージ12の構成は、特に限定されるものではなく、例えば、顕微鏡に用いられるステージを用いることができる。なお、ステージ12の移動は、ステージコントローラ18で制御される。
基材22は、その表面22aに粉体の粒子24がある。粒子24が測定対象である。粒子24は、基材22の表面22aに存在していればよい。しかし、測定精度を上げることができ、かつ測定時間を短縮できることから、粒子24は表面22aに均一に分散していることが好ましい。
基材22は、特に限定されるものではなく、金属、紙、ガラス等、粒子24に応じたものが適宜利用される。粉体中からフィルター(図示せず)を用いて粒子24を選別した場合、フィルターが基材22となる。
粉体は、例えば、粉体を濃縮する工程で使用する溶液に溶解しない粉体であればよく、水に溶解しない色を持つ食品粉体、塗料粉体、金属粉体、金属化合物粉体およびその他の粉体であり、具体的には、ターメリック、トナー、金等が挙げられる。
上述のように、粉体中に含まれる所定の粒子径以上の粒子の粒子径と数を測定する測定装置10であるが、所定の粒子径以上とは、その粉体の本来求められる粒度分布の上限を逸脱している粒子の粒子径を指し、上限としてはmmオーダーであり、下限としては光学的な撮影限界により制限を受け概ね2〜5μm程度である。所定の粒子径以上の粒子のことを、粗大粒子ともいう。
撮影部14は、ステージ12上に配置され、ステージ12に対して相対的に移動して、後述する各撮影領域を撮影し、粒子24の撮影画像を得るものである。撮影部14は、例えば、デジタル画像データが取得可能なものであり、例えば、CCDを有する。また、撮影部14は、粒子24を拡大して撮影するためのレンズを有し、粒子24の撮影に必要な光量を有する光源等を有する。撮影部14は、オートフォーカス機能をすることが好ましい。
撮影部14は、測定する粒子は、上述のように小さいものでは2〜5μmであるため、具体的には、光学顕微鏡にCCDを組合せた構成となる。
撮影部14で得られた撮影画像の撮影画像データは、測定ユニット16に出力され、例えば、測定ユニット16のメモリ38に記憶される。
測定ユニット16は、設定部30と、画像処理部32と、除去部34と、測定部36と、メモリ38と、表示部40と、入力部42とを有する。
表示部40は、例えば、撮像画像、画像処理部32で得られた画像、測定部36での測定結果、ヒストグラム(図5参照)等を表示するものであり、公知の各種のディスプレイが用いられる。また、表示部40には各種情報を出力媒体に表示するためのプリンター等のデバイスも含まれる。入力部42は、マウスおよびキーボード等の各種情報をオペレータの指示により入力するための各種の入力デバイスである。
設定部30は、図2(a)に示すように、表面22aに粒子24がある基材22に対し、例えば、矩形状の撮影範囲25を設定するものである。そして、図2(b)に示すように撮影範囲25に対して複数の撮影領域26を、各撮影領域26の一部を重ねて設定する。各撮影領域26は全て同じ大きさであれば、撮像領域の大きさを変える時間を省くことができ、撮像領域を変えた際のステージ12の移動の誤差をなくすことができるため、各撮影領域26は全て同じ大きさであることが好ましい。
各撮影領域26が、図2(c)に示すように、例えば、1組の辺の長さがL、残りの組みの辺の長さがLの矩形である場合に、一部を重ねて設定する際、撮影領域26において、長さLに対して重ねる領域27aの幅を、例えば、Wとし、長さLに対して重ねる領域27bの幅を、例えば、Wとする。幅Wの割合は長さLに応じて適宜決定されるものであり、幅Wの割合は長さLに応じて適宜決定されるものである。幅Wおよび幅Wは、いずれも粒子24の大きさよりも広いことが好ましい。
設定部30では、撮影範囲25に対して座標を割り当てる。また、各撮影領域26についても座標を割り当てる。この場合、各撮影領域26では、撮影範囲25における位置に応じた座標を撮影領域26に割り当てもよい。すなわち、各撮影領域26の座標を個別に設定するのではなく撮影範囲25の座標で設定する。
また、撮影領域26の座標を、撮影範囲25における位置に応じて、撮影範囲25における座標に変換してもよい。この撮影範囲25の座標と撮影領域26の座標の設定、および上述の撮影領域26の座標の変換は設定部30でなされる。設定部30で設定した撮影範囲25の座標、撮影領域26の座標、撮影領域26の位置情報は、メモリ38に記憶され、ステージコントローラ18でのステージ移動に利用される。
図1に示す画像処理部32は、メモリ38から粒子24の撮影画像データを読み出し、撮影画像の基材22の表面22aの色と粒子24の色を抽出し、色抽出された粒子24の像を得るものである。色抽出された粒子24の像のデータは、例えば、メモリ38に記憶される。基材22の表面22aの色と粒子24の色を抽出することを色抽出処理ともいう。
色抽出処理ついては、基材22の表面22aの色と粒子24の色を抽出することができれば、色抽出方法は、特に限定されるものではなく、色抽出方法には公知の方法が適宜利用可能である。基材22の表面22aの色については、基材22として使用するものが予め決まっていれば、予め決定しておいてもよい。また、基材22の表面22aの色については、使用する基材22毎にライブラリとしてメモリ38に記憶しておき、表示部40にライブラリの色をパレットで表示させて、オペレータが入力部42を介して設定するようにしてもよい。
また、基材22の表面22aに目的とする粒子24以外の粉塵または糸くず等が混入している場合、粒子24の色を抽出する際に、幅を持たせ、それに合致しないものを棄却するようにしてもよい。
画像処理部32は、色抽出の結果に基づき、色抽出処理された粒子24の像を、少なくとも2階調の多階調処理を行い、粒子24の多階調像を得るものである。画像処理部32では、例えば、二値化処理により、粒子24の二値化像を得る。二値化処理を含む多階調処理については、特に限定されるものではなく、公知の方法が適宜利用可能である。粒子24の多階調像のデータは、メモリ38に記憶される。
画像処理部32では、粒子24の多階調像に基づき、粒子24の像の輪郭を抽出し、粒子24の輪郭画像を得る。粒子24の輪郭画像のデータは、メモリ38に記憶される。
輪郭の抽出方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法が適宜利用可能である。例えば、粒子24の二値化像において、エッジ抽出のためのフィルタ処理を施し、エッジを抽出し、エッジの閾値とした濃度の画素をつないでいくことで輪郭線を得る。
図3(a)に示す輪郭画像50のように、一般的に輪郭画像は、閉じた面を構成する。すなわち、輪郭画像50の輪郭線52は途切れることなくつながっている。
画像処理部32では、輪郭画像形成後、例えば、輪郭を構成する画素について、隣接する画素間の距離を閾値として、輪郭画像が閉じた面であるかを判定する。
隣接する画素がない場合、輪郭は閉じた面を構成しないとする。具体的には、図3(b)に示す輪郭画像50aのように、輪郭線52aが撮影領域26の外縁29に接しており、不連続になっている状態のことである。
閉じた面を構成しない粒子24の輪郭線画像については、粒子24の少なくとも一部が欠損して撮影されたと判定する。粒子24の少なくとも一部が欠損して撮影されたと判定されたものについては除去部34にて、後述するように測定部36での粒子24の数を数える対象から外す。このため、粒子24の少なくとも一部が欠損して撮影されたと判定された粒子24の像のデータについては、例えば、「フラグフィールド」の値を「0」または「1」にして、すなわち、フラグを立ててメモリ38に記憶させる。
画像処理部32では、粒子24の輪郭画像に基づき、粒子24の重心位置を求め、重心位置の撮影範囲25における座標を求めるものである。
粒子24の重心位置は、例えば、粒子24の輪郭画像の面積を求め、その面積の重心位置を求めることで、特定することができる。なお、粒子24の重心位置を求める方法は、公知の方法を適宜利用することができる。
さらに、粒子24の重心位置の撮影範囲25における座標を求める。この場合、撮影領域26が撮影範囲25の座標で表されるものであれば、重心位置の座標が撮影範囲25における座標である。また、撮影領域26が撮影範囲25の座標で表されるものでない場合には、設定部30で重心位置の座標が撮影範囲25の座標に変換される。これにより、粒子24の像の位置を特定することができる。
除去部34は、撮影された粒子24の像(撮影画像)のうち、少なくとも一部が欠損して撮影された粒子を取り除くものである。また、除去部34は、重複して撮影された粒子24を1つに集約するものである。
ここで、少なくとも一部が欠損して撮影された粒子を取り除くとは、先の処理を行わないことである。本発明では、重心位置の数を基に粒子の数を数えるため、重心位置が求められてない粒子24については数を数える対象から外れることになる。
少なくとも一部が欠損して撮影されるとは、例えば、粒子24の色と判定された領域が撮影領域26の外縁29と接することであり、言い換えれば、粒子24の色と判定された領域に撮影領域26の外縁29が含まれることである。具体的には、図4に示す粒子24は、一部が欠損して撮影されたものではない。しかし、図4に示す粒子24a、粒子24b、粒子24cは外縁29と接しており、粒子24の色と判定された領域に撮影領域26の外縁29が含まれる。この場合でも、少なくとも一部が欠損して撮影された粒子24の像のデータについては、上述のように、フラグを立ててメモリ38に記憶させる。
また、輪郭画像について粒子24の少なくとも一部が欠損して撮影されたとは上述の通りである。
なお、除去部34で、重複して撮影された粒子24を1つに集約する場合、1つの粒子24を除いて、フラグを立ててメモリ38に記憶させる。
除去部34では、上述のように欠損して撮影されたと判定された粒子24を測定部36での粒子24の数を数える対象から外す。欠損して撮影されたと判定された粒子24は、例えば、フラグが立てられているので、フラグにより、除去する粒子24の像を選択することができる。
除去部34では、重複して撮影された粒子24を1つに集約する場合、座標値の違いが、例えば、3画素以内であれば、同じ粒子であると判定する。画素の大きさは、撮影範囲25の大きさにより変わるため、判定基準については、3画素に限定されるものではなく、測定精度、測定する粒子24の粒子径等に応じて適宜決定されるものである。
測定部36は、粒子24の輪郭画像に基づき、粒子24の粒子径を求めるものである。粒子24の粒子径は、例えば、輪郭画像のフェレ径のうち、最大値のものを粒子径とする。なお、フェレ径とは、物体が2本の平行な直線によって挟まれた時の2直線間の距離のことである。
粒子24の粒子径はフェレ径に限定されるものではなく、例えば、外接円の直径でもよい。フェレ径および外接円の直径の求め方は、特に限定されるものではなく公知の方法が適宜利用可能である。
測定部36は、粒子24の粒子径のうち、所定の粒子径以上の粒子24について、粒子24の重心位置に基づき、粒子24の数を数えるものであり、数えられた粒子24の数は、粒子径とともに、メモリ38に記憶される。
測定部36では、数えられた粒子24の数と、数えられた各粒子24の粒子径を基に、ヒストグラムを作成するものである。ヒストグラムは、例えば、図5に示すようなものであり、表示部40に表示される。
また、測定部36は、粒子径が求められた全ての粒子24について、粒子24の数と、数えられた各粒子24の粒子径を基に、ヒストグラムを作成することもできる。
測定装置10では、撮影領域26を重ねない構成にすることも考えられるが、撮影領域26の1画素が数μmと小さい場合には、撮影領域26のつなぎ合わせの許容誤差が小さくなる。つなぎ合わせ精度が低いと、同じ粒子が2つ存在することになり、測定誤差の原因となる。しかしながら、測定装置10では、撮影領域26を重ねることで、重ねた領域の粒子24について欠損して撮影されたものを除去しても他の撮影領域26に粒子全体が撮影されているとして取り除くことできる。重複粒子を1つに集約させることで、上述のつなぎ合わせの許容誤差の問題を解決し、従来よりも高い精度で粒子数を測定することができる。
また、撮影領域26のつなぎ合わせる場合、撮影領域26のために多くの画像メモリが必要になりコストが嵩むが、測定装置10では、そのようなことがなく、コスト増大も抑制することができる。
次に、本実施形態の粒子の測定方法について説明する。
図6は、本発明の実施形態の粒子の測定方法を工程順に示すフローチャートであり、図7は本発明の実施形態の粗大粒子の測定方法のうち、粒子像の抽出工程および粒子径算出工程を工程順に示すフローチャートである。
まず、測定対象の粉体を用意する。次に、粉体を定量計り取る。測定対象となる粒子の粒子径の下限が予め設定されている。粉体中の測定対象となる粒子径の下限未満の粒子と、測定対象となる粒子径の粒子を後述のようにして選別する。この場合、測定対象の粒子径下限未満のメッシュ数のフィルターで、粉体を包む。次に、粉体を包んだフィルターを溶媒に浸漬し、溶媒に、測定対象の粒子径の下限未満の粒子(以下、微粉という)を分散させて、測定対象となる粒子径の粒子(粗大粒子)と微粉を分ける。次に、吸引濾過で粗大粒子をフィルターに捕集する。このようにして、粉体を選別する(ステップS10)。この場合、フィルターが基材22になる。
なお、ステップS10の粉体中の粒子を選別する選別工程は必ずしも必要ない。しかしながら、粒子の数が少ない方が測定時間を短縮でき、粒子の粒子径の分布が狭い方が測定精度を向上させることができるため、ステップS10の粉体の選別工程により、粉体を選別しておくことが好ましい。なお、粉体の選別工程のことを、粉体の濃縮工程ともいう。
次に、粗大粒子を含む粒子24がある基材22(フィルター)をステージ12の上面12aに配置する。
そして、図2(a)に示すように表面22aに粒子24がある基材22に対し、測定ユニット16の設定部30(図1参照)で撮影範囲25を設定する。撮影範囲25に対して複数の撮影領域26(図2(b)参照)を、各撮影領域26の一部を重ねて設定する(図2(c)参照)。この場合、各撮影領域26の重ねる領域27aの幅W、重ねる領域27bの幅Wも設定する。
このとき、設定部30では、撮影範囲25に対して座標を割り当て、各撮影領域26についても座標を割り当てる。各撮影領域26では、撮影範囲25における位置に応じた座標を撮影領域26に割り当てもよい。すなわち、各撮影領域26の座標を個別に設定するのではなく、撮影範囲25の座標で設定する。このようにして撮影領域26を設定する(ステップS12)。各撮影領域26の位置情報は、メモリ38に記憶される。
各撮影領域26の撮影の際には、各撮影領域26の位置情報に基づきステージコントローラ18でステージ12を移動させる。
撮影倍率および撮影光量等の撮影条件を予め設定しておき、ステージ12と撮影部14を相対的に移動させて、撮影部14を用いて各撮影領域26を撮影し、粒子24の撮影画像を取得する(ステップS14)。各撮影領域26における粒子24の撮影画像データをメモリ38に記憶させる。撮影部14は、オートフォーカス機能を有しており、焦点距離の調整はレンズの相互関係を調整することで実現する他、各撮影領域26毎にステージ12を上面12aに垂直な方向に移動させることで実現してもよい。
次に、画像処理部32は、メモリ38から粒子24の撮影画像データを読み出し、粒子24の撮影画像について、基材22の表面22aの色と粒子24の色を抽出する(ステップS16)。上述のように、色抽出方法には公知の方法が適宜利用可能である。基材22の表面22aの色については、表示部40にライブラリの色をパレットで表示させて、オペレータがパレットに基づき入力部42を使って設定してもよい。
次に、粒子24像の抽出を行い、粒子24像の粒子径を算出する(ステップS18)。ステップS18で抽出された粒子像を基に、粒子24の数を数える(ステップS20)。数えられた粒子24の数は、粒子径とともにメモリ38に記憶される。
粒子24の数を数えた後、全ての撮影領域を撮影したか否かが判定される(ステップS22)。ステップS22において、全ての撮影領域を撮影していないと判定された場合には、ステップS12に戻り、再度他の撮影領域について粒子24の数を数える工程(ステップS24)迄行い、これを全ての撮影領域の撮影が終わるまで繰り返し行う。
一方、ステップS22において、全ての撮影領域を撮影したと判定された場合には、各撮影領域での粒子24の集計工程(ステップS24)に進む。
次に、全ての撮影領域での粒子24の数を集計し(ステップS24)、全ての撮影領域での粒子24の数と粒子径とを得る。ステップS24での粒子24の数の集計結果は、粒子24の粒子径とともにメモリ38に記憶される。
本発明の測定方法と、本発明者の目視による測定方法とを用いて、同じ粉体に対して測定したところ、所定の粒子径以上の粒子径の粒子数は一致していた。しかしながら、測定時間は本発明者では4時間程度であったのに対し、本発明の測定方法では30分程度であった。このように本発明の測定方法は、測定精度を維持し、かつ測定時間を大幅に短縮することができる。
次に、測定部36で、集計された粒子24の数と、集計された各粒子24の粒子径を基に、ヒストグラムを作成する(ステップS26)。ヒストグラムは、例えば、図5に示すようなものであり、表示部40に表示される。
なお、所定の粒子径以上の粒子の数を測定することができればよく、ステップS26のヒストグラムの作成は、必ずしも行わなくともよい。
ヒストグラムについては、上述のように、粒子径が求められた全ての粒子24の数と各粒子24の粒子径を基に作成することもできる。
以下、ステップS18の粒子24像の抽出を行い、粒子24像の粒子径を算出する工程について説明する。
図7に示すように、ステップS18の粒子24像の抽出、および粒子24像の粒子径を算出する工程では、まず、色抽出の結果に基づき、撮影画像において、少なくとも一部が欠損して撮影された粒子24を除去部34で取り除く。この場合、除去部34で、色抽出処理された粒子24の撮影画像が、撮影領域26の外縁29と接するか否かを判定する(ステップS30)。ステップS30において、撮影領域26の外縁29と接すると判定された場合には、以降の処理がされない(ステップS32)。ステップS30における撮影領域26の外縁29と接するか否かは、例えば、粒子24の色と判定された領域に撮影領域26の外縁29が含まれるか否かで判定される。撮影領域26の外縁29と接すると判定された粒子24の像のデータについては、上述のように、フラグを立ててメモリ38に記憶させる。
一方、ステップS30において、撮影領域26の外縁29と接しないと判定された場合には、次の多階調処理(ステップS34)が施される。
次に、欠損して撮影された粒子24を取り除いた後、画像処理部32で、色抽出の結果に基づき、色抽出処理された粒子24の像を、少なくとも2階調の多階調処理を行い、粒子24の多階調像を得る(ステップS34)。上述のように、多階調処理については、特に限定されるものではなく、公知の方法が適宜利用可能である。粒子24の多階調像のデータはメモリ38に記憶される。
次に、画像処理部32で、粒子24の多階調像に基づき、粒子24の像の輪郭を抽出し、粒子24の輪郭画像を得る(ステップS36)。上述のように、輪郭の抽出方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法が適宜利用可能である。粒子24の輪郭画像のデータはメモリ38に記憶される。
次に、粒子24の輪郭画像において、輪郭を構成する画素について、画像処理部32で、例えば、隣接する画素間の距離を閾値として、閉じた面であるかを調べる(ステップS38)。ステップS38において、隣接する画素がない画素がある場合、輪郭は閉じた面を構成しないとする。閉じた面を構成しない粒子24の像については、粒子24の少なくとも一部が欠損して撮影されたと判定する。粒子24の少なくとも一部が欠損して撮影されたと判定された粒子については、以降の処理がされない(ステップS40)。すなわち、粒子24の数を数える対象から外れる。
一方、ステップS38で閉じた面であると判定されたものについては、重心位置が特定される(ステップS42)。
ステップS42では、画像処理部32で、粒子24の輪郭画像に基づき、粒子24の重心位置を求め、重心位置の撮影範囲における座標を求める。なお、粒子24の重心位置を求める方法は、上述の通りである。
さらに、粒子24の重心位置の撮影範囲25における座標を求める。この場合、撮影領域26が撮影範囲25の座標で表されるものであれば、重心位置の座標が撮影範囲25における座標である。また、撮影領域26が撮影範囲25の座標で表されるものでない場合には、設定部30で重心位置の座標を撮影範囲25の座標に変換する。変換された重心位置の座標は、メモリ38に記憶される。このようにして、粒子24の像の位置を特定する。
次に、除去部34で各粒子24の重心位置が一致しているか比較する(ステップS44)。ステップS44において、重心位置が一致している粒子24は、同じ粒子24であるとする。重心位置の一致は、座標値の違いが、例えば、3画素以内とする。すなわち、座標のずれが3画素以内であれば同じ粒子24であると判定する。
ステップS44において、同じ粒子であると判定された粒子については、除去部34で重複した粒子24を排除し(ステップS46)、複数の粒子のうち、1つの粒子24に集約する。集約した1つの粒子24について粒子径を算出する(ステップS48)。1つの粒子24に集約する際、1つの粒子24を除いて、フラグを立ててメモリ38に記憶させる。
ステップS44において、他の粒子と一致していると判定されなかった粒子の粒子径を測定部36で算出する(ステップS48)。
ステップS48は、粒子24の輪郭画像に基づき、粒子24の粒子径を求める工程である。ステップS48では、粒子24の輪郭画像のフェレ径を求める。求めたフェレ径のうち、最大値のものを粒子径とする。なお、フェレ径が1つしか求められなかった場合には、1つのフェレ径が粒子24の粒子径となる。
次に、測定部36で粒子24の粒子径が所定の粒子径以上であるか判定する(ステップS50)。ステップS50において、粒子24の粒子径が所定の粒子径未満である場合、それ以降の処理をしない(ステップS52)。この場合、粒子数のカウントの対象から外す。
一方、ステップS50において、粒子24の粒子径が所定の粒子径以上である場合、測定部36で粒子24の重心位置に基づき、粒子24の数を数える(ステップS20)。数えられた粒子24の数は、粒子径とともにメモリ38に記憶される。このようにして、粉体中の所定の粒子径以上の粒子の数を測定することができる。
また、ステップS38で、輪郭画像が閉じた面であるかを調べているが、ステップS30で、色抽出の結果に基づき、撮影画像において、少なくとも一部が欠損して撮影された粒子24を取り除く処理をしている。このため、ステップS38およびそれに付随するステップS40は必ずしも実施なくてもよい。測定精度を高めるためには、ステップS38は実施した方が好ましい。
上述の測定方法では、撮影範囲25を複数の撮影領域26をそれぞれで処理し、その結果を利用することで、撮影画像のつなぎ合わせを排除しており、多くの画像メモリを要することもない。また、色抽出処理を行い、粒子24が撮影領域26の外縁29と接するものについては、欠損して撮影されており、他の撮影領域26に粒子全体が撮影されているとして取り除く。これにより、不完全に撮影された粒子24の像が排除される。さらに、多階調処理し、輪郭画像を作成して、重心位置を特定し、重心位置の座標が近く、同じ粒子24とみなせるものを1つに集約することで、重ねる領域27a、27bで重複して撮影された粒子を排除することができる。このため、同じ粒子24を異なる粒子24として数を数えることを抑制することができる。これにより、高い精度で粒子を測定することができる。
本発明は、基本的に以上のように構成されるものである。以上、本発明の粗大粒子の測定方法および粗大粒子の測定装置について詳細に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良または変更をしてもよいのはもちろんである。
10 測定装置
12 ステージ
14 撮影部
16 測定ユニット
18 ステージコントローラ
22 基材
24 粒子
25 撮影範囲
26 撮影領域
30 設定部
32 画像処理部
34 除去部
36 測定部
38 メモリ
40 表示部
42 入力部

Claims (6)

  1. 粉体中に含まれる所定の粒子径以上の粒子の粒子径と数を測定する測定方法であって、
    表面に粒子がある基材に対し、撮影範囲を設定し、前記撮影範囲に対して複数の撮影領域を、各撮影領域の一部を重ねて設定する工程と、
    前記各撮影領域を撮影し撮影画像を得る工程と、
    前記撮影画像について、前記基材表面の色と前記粒子の色を抽出する工程と、
    前記色抽出の結果に基づき、前記撮影画像において欠損して撮影された粒子を取り除く工程と、
    前記色抽出の結果に基づき、前記撮影画像において前記粒子の像を、少なくとも2階調の多階調処理を行う工程と、
    前記粒子の多階調像に基づき、前記粒子の像の輪郭を抽出し、前記粒子の輪郭画像を得る工程と、
    前記粒子の輪郭画像に基づき、前記粒子の重心位置を求め、前記重心位置の前記撮影範囲における座標を求め、前記粒子の像の位置を特定する工程と、
    前記粒子の像の位置に基づき、前記複数の撮影領域で重複して撮影された粒子を抽出し、重複した粒子を1つの粒子に集約する工程と、
    前記粒子の輪郭画像に基づき、粒子の粒子径を求める工程と、
    前記粒子の粒子径のうち、前記所定の粒子径以上の粒子について、前記粒子の重心位置に基づき、前記粒子の数を数える工程とを有することを特徴とする粗大粒子の測定方法。
  2. 前記粒子の輪郭画像のうち、輪郭線が閉じていない粒子を特定する工程を有し、
    前記輪郭画像において前記輪郭線が閉じていない粒子は、前記粒子の数を数える対象から外す請求項1に記載の粗大粒子の測定方法。
  3. 前記基材の表面の前記粒子は、前記粉体を濃縮する工程により、前記所定の粒子径以上の粒子が選別されたものである請求項1または2に記載の粗大粒子の測定方法。
  4. 粉体中に含まれる所定の粒子径以上の粗大粒子の粒子径と数を測定する測定装置であって、
    表面に粒子がある基材を載置するステージと、
    表面に粒子がある基材に対し、撮影範囲を設定し、前記撮影範囲に対して複数の撮影領域を、各撮影領域の一部を重ねて設定する設定部と、
    前記ステージ上に配置され、前記ステージに対して相対的に移動して、前記各撮影領域を撮影し撮影画像を得る撮影部と、
    前記撮影画像について、前記基材表面の色と前記粒子の色を抽出し、前記色抽出の結果に基づき、前記撮影画像において前記粒子の像を、少なくとも2階調の多階調処理を行い、前記粒子の多階調像に基づき、前記粒子の像の輪郭を抽出し、前記粒子の輪郭画像を得て、前記粒子の輪郭画像に基づき、前記粒子の重心位置を求め、前記重心位置の前記撮影範囲における座標を求め、前記粒子の像の位置を特定する画像処理部と、
    前記粒子の像の位置に基づき、前記複数の撮影領域で重複して撮影された粒子を抽出し、重複した粒子を1つの粒子に集約し、かつ前記色抽出の結果に基づき、前記撮影画像において欠損して撮影された粒子を取り除く除去部と、
    前記粒子の輪郭画像に基づき、粒子の粒子径を求め、前記粒子の粒子径のうち、前記所定の粒子径以上の粒子について、前記粒子の重心位置に基づき、前記粒子の数を数える測定部とを有することを特徴とする粗大粒子の測定装置。
  5. 前記画像処理部は、粒子の輪郭画像のうち、輪郭線が閉じていない粒子を特定するものであり、
    前記除去部は、前記輪郭画像において前記輪郭線が閉じていない粒子を、前記測定部での前記粒子の数を数える対象から外す請求項4に記載の粗大粒子の測定装置。
  6. 前記基材の表面の前記粒子は、前記粉体を濃縮する工程により、前記所定の粒子径以上の粒子が選別されたものである請求項4または5に記載の粗大粒子の測定装置。
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