JP6477325B2 - 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関するものである。

特許文献１には、末端にビニル基を有する置換基で置換されたトリフェニレン化合物を含む膜がディスコティック液晶相を保ったまま重合した電子輸送層を有する電子写真方式の感光体が開示されている。

特許文献２には、末端にアルキルアミノ基を有し２つのフェニル基がビニレン基で連結された置換基で置換されたトリフェニレン化合物及びその製造方法が開示されている。また特許文献３には、上記トリフェニレン化合物を含有する電荷輸送層が設けられている電子写真感光体が開示されている。

特許文献４には、炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合、又はエポキシ基を有する置換基で置換されたトリフェニレン化合物またはその重合体からなる電荷輸送材料を含み、過冷却状態でのディスコティック液晶相を保ったまま固まった薄膜が開示されている。

特許文献５には、導電性支持体上に、少なくとも電荷発生層と電荷輸送層とからなる感光層を備えた電子写真感光体であって、上記電荷輸送層内に、ディスコティック液晶であるトリフェニレン化合物を蒸着することで得られる導電率異方性化合物層を分散配置させた電子写真感光体が開示されている。

特許文献６には、静電潜像を担持するための潜像担持体と、前記潜像担持体表面を帯電させるための帯電手段と、前記潜像担持体上に静電潜像を形成するための潜像形成手段と、前記静電潜像を現像してトナー画像を形成するための現像手段と、前記潜像担持体上に形成されたトナー画像を転写体に転写させる転写手段と、前記潜像担持体の表面に潤滑剤を付与する潤滑剤付与手段とを有する画像形成装置に用いられる該潤滑剤であって、潤滑性物質として末端にアルキルアミノ基を有するトリフェニレン系化合物を含有する潤滑剤が開示されている。

特開２００９−７２７１号公報 特開２００６−６３０７２号公報 特開２００７−３２８０１９号公報 特開平１１−１４８０６７号公報 特開２００２−１０７９６３号公報 特開２０１２−１９４３３２号公報

本発明の課題は、結着樹脂と電荷発生材料と正孔輸送材料と電子輸送材料と一般式（１）で表される化合物に代えて化合物（Ｔ−１）とを含む単層型の感光層を有する電子写真感光体に比べ、帯電維持性の良好な電子写真感光体を提供することである。

上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた単層型の感光層であって、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、電子輸送材料と、下記一般式（１）で表される化合物と、を含む感光層と、
を有する電子写真感光体。

（一般式（１）中、Ｌ^１は単結合又はカルボニル基を示す。Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルキルエーテル基、置換若しくは無置換のアルキルエステル基、又は置換若しくは無置換のアラルキル基を示す。）

請求項２に係る発明は、
前記一般式（１）で表される化合物の含有量は、前記感光層全体に対し１質量％以上２０質量％以下である請求項１に記載の電子写真感光体。

請求項３に係る発明は、
前記電子輸送材料が下記一般式（２）で表される化合物を含有する請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。

（一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ^１８は、アルキル基、−Ｌ^１１１−Ｏ−Ｒ^１１２、アリール基、又はアラルキル基を示す。ただし、Ｌ^１１１はアルキレン基を示し、Ｒ^１１２はアルキル基を示す。）

請求項４に係る発明は、
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。

請求項５に係る発明は、
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。

請求項１に係る発明によれば、結着樹脂と電荷発生材料と正孔輸送材料と電子輸送材料と一般式（１）で表される化合物に代えて化合物（Ｔ−１）とを含む単層型の感光層を有する電子写真感光体に比べ、帯電維持性の良好な電子写真感光体が提供される。

請求項２に係る発明によれば、前記一般式（１）で表される化合物の含有量が、１質量％未満である場合に比べて帯電維持性が良好であり、２０質量％より多い場合に比べて感光層の膜強度が高い、電子写真感光体が提供される。

請求項３に係る発明によれば、結着樹脂と電荷発生材料と正孔輸送材料と一般式（２）で表される化合物を含有する電子輸送材料と一般式（１）で表される化合物に代えて化合物（Ｔ−１）とを含む単層型の感光層を有する電子写真感光体に比べ、表面へのトナーの固着が抑制された電子写真感光体が提供される。

請求項４又は請求億５に係る発明によれば、結着樹脂と電荷発生材料と正孔輸送材料と電子輸送材料と一般式（１）で表される化合物に代えて化合物（Ｔ−１）とを含む単層型の感光層を有する電子写真感光体を適用した場合に比べ、帯電維持性の良好な電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ又は画像形成装置が提供される。

本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。 本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。 他の本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。

以下、本発明の一例である実施形態について説明する。

［電子写真感光体］
本実施形態に係る電子写真感光体（以下、「感光体」と称することがある）は、導電性基体を備え、導電性基体上に単層型の感光層を有する正帯電有機感光体（以下、「単層型感光体」と称することがある）である。
そして単層型の感光層は、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、電子輸送材料と、一般式（１）で表される化合物（以下「特定トリフェニレン」と称する場合がある）と、を含む。
なお、単層型の感光層とは、電荷発生能と共に、正孔輸送性及び電子輸送性を持つ感光層である。

本実施形態では、単層型の感光層が特定トリフェニレンを含んでいる。そのため、特定トリフェニレンに代えて化合物（Ｔ−１）を含む場合に比べ、電子写真感光体の表面における帯電維持性が良好となる。その理由は定かではないが以下のように推測される。

一般的に単層型感光体は、機能分離型の感光体に比べて感光体表面の帯電性を維持しにくい。その理由のひとつとして、単層型の感光層が正孔輸送材料及び電子輸送材料の両方を含むことで、感光層の誘電率が高くなりやすいことが挙げられる。
一方、特定トリフェニレンは、トリフェニレン骨格における外側のベンゼン環３つすべてに「−Ｏ−Ｌ^１−Ｒ^１」及び「−Ｏ−Ｌ^１−Ｒ^２」が結合しており、対称性が高いため化合物全体の双極子モーメントが小さい。そのため、単層型の感光層に特定トリフェニレンを添加することで、感光層の帯電性が向上することにより暗減衰が抑制され、帯電維持性も向上すると考えられる。
また、特定トリフェニレンは、トリフェニレン骨格が電荷輸送性の高いπ共役電子を有しており、感光層中の正孔輸送性及び電子輸送性を阻害しにくい。それに加え、３つのベンゼン環に「−Ｏ−Ｌ^１−」を介して「−Ｒ^１」及び「−Ｒ^２」が結合しているため、特定トリフェニレンは、感光層に含まれる他の成分（結着樹脂、電荷発生材料、正孔輸送材料、及び電子輸送材料）との親和性が高い。そのため、感光層全体にわたって高い電荷輸送性を維持でき、帯電維持性も向上すると推測される。
以上の理由により、本実施形態では、電子写真感光体の表面における帯電維持性が良好となると推測される。

また本実施形態では、特定トリフェニレンに代えて化合物（Ｔ−１）を含む場合に比べ、電子写真感光体の表面へのトナーの固着（フィルミング）が抑制される。その理由は定かではないが、配向しやすいトリフェニレン骨格によって感光層全体のガラス転移温度が上がり、トナーのかきとり性が向上し、表面のキズが生じにくく、キズに起因するトナーの固着が起こりにくくなるためではないかと推測される。

また本実施形態では、特定トリフェニレンに代えて化合物（Ｔ−１）を含む場合に比べ、感光層の割れ（以下「クラック」ともいう）が抑制される。上記クラックとしては、例えば、感光体の使用に伴って感光層に含まれる各成分の凝集や局所的な結晶化が起こり、そこを起点として、感光層の表面に付着したトナーに含まれるワックス成分等の影響で発生するものが挙げられる。しかし、前記の通り特定トリフェニレンは、感光層に含まれる他の成分との親和性が高いため、他の成分の凝集等が抑制され、凝集や局所的な結晶化やソルベントショックなどに伴うクラックが抑制されると推測される。

以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る電子写真感光体を詳細に説明する。
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体１０の一部の断面を概略的に示している。
図１に示した電子写真感光体１０は、例えば、導電性基体３を備え、導電性基体３上に、下引層１及び単層型の感光層２がこの順で設けられて構成されている。
なお、下引層１は、必要に応じて設けられる層である。即ち、単層型の感光層２は、導電性基体３上に直接設けられていてもよく、下引層１を介して設けられてもよい。
また、必要に応じてその他の層を設けてもよい。具体的には、例えば、必要に応じて、単層型の感光層２上に保護層を設けてもよい。

以下、本実施形態に係る電子写真感光体の各層について詳細に説明する。なお、符号は省略して説明する。

（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０^１３Ωｃｍ未満であることをいう。

導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。

粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて導電性基体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。

粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。

陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。

陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。

導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。

ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。

（下引層）
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。

無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０^２Ωｃｍ以上１０^１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。

無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ^２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。

無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。

無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。

表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。

アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。

表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。

ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。

電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。

電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。

電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。

乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。

湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。

なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。

電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。

下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。

これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。

下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。

添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。

ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。

チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。

アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。

これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。

下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。

下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。

下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。

下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。

下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。

下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。

（中間層）
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。

これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。

中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。

中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。

（単層型の感光層）
単層型の感光層は、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、電子輸送材料と、前記特定トリフェニレンと、を含み、必要に応じてその他添加剤を含んでもよい。

−結着樹脂−
結着樹脂としては、特に制限はないが、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。

これらの結着樹脂の中でも、特定トリフェニレンとの親和性と感光層の機械的強度の観点から、特に、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂が好ましい。
本実施形態では、単層型の感光層が特定トリフェニレンを含ことにより感光層全体の比誘電率が高くなりにくく、帯電維持性が得られやすい。
また、感光層の成膜性の観点から、結着樹脂として、例えば、粘度平均分子量３００００以上８００００以下のポリカーボネート樹脂及び粘度平均分子量３００００以上８００００以下のポリアリレート樹脂がよい。

なお、粘度平均分子量の測定は、以下の方法で行われる。具体的には、樹脂１ｇをメチレンクロライド１００ｃｍ^３に溶解し、２５℃の測定環境下でウベローデ粘度計により、その比粘度ηｓｐを測定する。そして、ηｓｐ／ｃ＝〔η〕＋０．４５〔η〕^２ｃの関係式（ただしｃは濃度（ｇ／ｃｍ^３）より極限粘度〔η〕（ｃｍ^３／ｇ）を求める。さらに、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌによって与えられている式、〔η〕＝１．２３×１０^−４Ｍｖ０．８３の関係式より粘度平均分子量Ｍｖを求める。このように、粘度平均分子量の測定には、例えば一点測定法が用いられる。

感光層の全固形分に対する結着樹脂の含有量は、例えば、３５質量％以上６０質量％以下、望ましくは４０質量％以上５５質量％以下である。

−電荷発生材料−

電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。

これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが望ましい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより望ましい。

一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等が望ましい。

すなわち、電荷発生材料としては、例えば３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合には無機顔料が望ましく、７００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料が望ましい。

本実施形態では、電荷発生材料として、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種を用いることが望ましい。
電荷発生材料としては、これら顔料を単独で用いてもよいが、必要に応じて併用してもよい。そして、電荷発生材料としては、感光体の高感度化、及び画像の点欠陥抑制の観点から、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。

ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、Ｖ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
特に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、例えば、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより優れた分散性が得られる観点から望ましい。電子写真感光体の材料として用いた場合に、優れた分散性と、十分な感度、帯電性及び暗減衰特性とが得られ易くなる。

また、上記の８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが望ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが望ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより望ましい。一方、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ^２／ｇ以上であることが望ましく、５０ｍ^２／ｇ以上であることがより望ましく、５５ｍ^２／ｇ以上１２０ｍ^２／ｇ以下であることが特に望ましい。平均粒径は、体積平均粒径（ｄ５０平均粒径）でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ−７００、堀場製作所社製）にて測定した値である。また、ＢＥＴ式比表面積測定器（島津製作所製：フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
ここで、平均粒径が０．２０μｍより大きい場合、又は比表面積値が４５ｍ^２／ｇ未満である場合は、顔料粒子が粗大化しているか、又は顔料粒子の凝集体が形成される場合がある。そして、分散性や、感度、帯電性及び暗減衰特性といった特性に欠陥が生じやすい場合があり、それにより画質欠陥が生じ易くなることがある。

ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒子径の最大値）は、１．２μｍ以下であることが望ましく、１．０μｍ以下であることがより望ましく、より望ましくは０．３μｍ以下である。かかる最大粒径が上記範囲を超えると、黒点が発生しやすい。

ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、感光体が蛍光灯などに暴露されたことに起因する濃度ムラを抑制する観点から、平均粒径が０．２μｍ以下、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、比表面積値が４５ｍ^２／ｇ以上であることが望ましい。

ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３°，１６．０°，２４．９゜，２８．０°に回折ピークを有するＶ型であることが望ましい。

一方、クロロガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、電子写真感光体材料として優れた感度が得られる、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．４°，１６．６°，２５．５°，２８．３°に回折ピークを有するものであることが望ましい。
クロロガリウムフタロシアニン顔料の好適な分光吸収スペクトルの最大ピーク波長、平均粒径、最大粒径、及び比表面積値は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と同様である。

感光層の全固形分に対する電荷発生材料の含有量は、１質量％以上５質量％以下がよく、望ましくは１．２質量％以上４．５質量％以下である。

−正孔輸送材料−
正孔輸送材料としては、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の化合物が挙げられる。これらの正孔輸送材料は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられるが、これらに限定されるものではない。

正孔輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記一般式（Ｂ−１）で示される化合物、下記一般式（Ｂ−２）で示される化合物、及び下記一般式（Ｂ−３）で示される化合物が望ましい。

一般式（Ｂ−１）中、Ａｒ^Ｂ１０１、Ａｒ^Ｂ１０２、及びＡｒ^Ｂ１０３は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｃ（Ｒ^Ｂ１０４）＝Ｃ（Ｒ^Ｂ１０５）（Ｒ^Ｂ１０６）、又は−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｂ１０７）（Ｒ^Ｂ１０８）を示す。Ｒ^Ｂ１０４、Ｒ^Ｂ１０５、Ｒ^Ｂ１０６、Ｒ^Ｂ１０７、及びＲ^Ｂ１０８は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。

一般式（Ｂ−２）中、Ｒ^Ｂ８およびＲ^Ｂ８’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。Ｒ^Ｂ９、Ｒ^Ｂ９’、Ｒ^Ｂ１０、およびＲ^Ｂ１０’は同一でも異なってもよく、各々独立にハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ^Ｂ１１）＝Ｃ（Ｒ^Ｂ１２）（Ｒ^Ｂ１３）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｂ１４）（Ｒ^Ｂ１５）を示し、Ｒ^Ｂ１１乃至Ｒ^Ｂ１５は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ１２、ｍ１３、ｎ１２およびｎ１３は各々独立に０以上２以下の整数を示す。

一般式（Ｂ−３）中、Ｒ^Ｂ１６およびＲ^Ｂ１６’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。Ｒ^Ｂ１７、Ｒ^Ｂ１７’、Ｒ^Ｂ１８、およびＲ^Ｂ１８’は同一でも異なってもよく、各々独立にハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ^Ｂ１９）＝Ｃ（Ｒ^Ｂ２０）（Ｒ^Ｂ２１）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｂ２２）（Ｒ^Ｂ２３）を示し、Ｒ^Ｂ１９乃至Ｒ^Ｂ２３は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ１４、ｍ１５、ｎ１４およびｎ１５は各々独立に０以上２以下の整数を示す。

ここで、一般式（Ｂ−１）で示される化合物、一般式（Ｂ−２）で示される化合物、及び一般式（Ｂ−３）で示される化合物のうち、特に、「−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｂ１０７）（Ｒ^Ｂ１０８）」を有する一般式（Ｂ−１）で示される化合物、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｂ１４）（Ｒ^Ｂ１５）」を有する一般式（Ｂ−２）で示される化合物が望ましい。

一般式（Ｂ−１）で示される化合物、一般式（Ｂ−２）で示される化合物、及び一般式（Ｂ−３）で示される化合物の具体例としては、例えば以下の化合物が挙げられる。

感光層の全固形分に対する正孔輸送材料の含有量は、１０質量％以上４０質量％以下がよく、望ましくは２０質量％以上３５質量％以下である。なお、この正孔輸送材料の含有量は、複数種の正孔輸送材料を併用した場合、その正孔輸送材料全体の含有量である。

−電子輸送材料−
電子輸送材料としては、例えば、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。これらの電子輸送材料は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられるが、これらに限定されるものではない。

電子輸送材料としては、電荷移動度の観点から、フルオレノン誘導体が好ましく、その中でも下記一般式（２）で表されるジシアノメチレン基を有する電子輸送材料がより好ましい。

一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ^１８は、アルキル基、−Ｌ^１１１−Ｏ−Ｒ^１１２、アリール基、又はアラルキル基を示す。ただし、Ｌ^１１１はアルキレン基を示し、Ｒ^１１２はアルキル基を示す。

ここで、一般式（２）で表される電子輸送材料は優れた電子輸送能を有する反面、極性が強くこれを用いた感光層は、比誘電率が高くなるため帯電性が低下しやすい。そのため、感光層表面では湿度の影響を受けやすく、トナー剥離性の低下や、放電生成物による表面汚染も起きやすい。しかし本実施形態では、単層型の感光層が特定トリフェニレンを含むため、一般式（２）で示される電子輸送材料を用いても、感光層全体の比誘電率の低下が抑えられ、結果的に電子写真感光体の表面へのトナーの固着が抑制される。また、特定トリフェニレンと一般式（２）で示される電子輸送材料とを組み合わせて用いることで、他の電子輸送材料を用いた場合に比べて、電子写真感光体の表面へのトナーの固着及び感光層表面のクラックも抑制される。

一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。これらの中でもフッ素原子、又は塩素原子が好ましく、塩素原子がさらに好ましい。

一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状、又は分岐状で、炭素数１以上２０以下のアルキル基が挙げられる。直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基の炭素数は、１以上４以下がより好ましく、１以上３以下がさらに好ましい。

一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。

一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７が示すアリール基は、置換基を有していてもよく、置換基を有していなくてもよく、例えば、置換又は未置換のフェニル基が挙げられる。アリール基が有する置換基としては、例えば、炭素数１以上１０以下のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。アリール基の具体例としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基（トリル基）、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基等が挙げられる。

一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７が示すアラルキル基としては、−Ｒ^１１３−Ａｒ^１１４で示される基が挙げられる。但し、Ｒ^１１３は、アルキレン基を示す、Ａｒ^１１４は、アリール基を示す。

Ｒ^１１３が示すアルキレン基としては、例えば直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。Ｒ^１１３が示すアルキレン基の炭素数は、相溶性や溶解性の観点で、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。
Ａｒ^１１４が示すアリール基は、前記一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７が示すアリール基と同様のものが挙げられ、アリール基が有する置換基についても同様である。

一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７が示すアラルキル基の具体例としては、例えば、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。

一般式（２）中、Ｒ^１８が示すアルキル基としては、例えば、炭素数１以上１２以下の直鎖状のアルキル基、炭素数３以上１０以下の分岐状のアルキル基、及び炭素数３以上８以下の環状のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。
環状のアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。

一般式（２）中、Ｒ^１８が示す−Ｌ^１１１−Ｏ−Ｒ^１１２で示される基は、Ｌ^１１１がアルキレン基を示し、Ｒ^１１２は、アルキル基を示す。
Ｌ^１１１が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ｒ^１１２が示すアルキル基としては、上記Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７が示すアルキル基と同様の基が挙げられる。

一般式（２）中、Ｒ^１８が示すアリール基は、置換基を有していてもよく、置換基を有していなくてもよく、例えば、置換又は未置換のフェニル基が挙げられる。アリール基が有する置換基としては、例えば、炭素数１以上１０以下のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
なお、アリール基がさらにアルキル基又はアルコキシ基で置換されていることが、溶解性の観点で好ましい。アリール基に置換されるアルキル基又はアルコキシ基としては、上記のＲ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７が示すアルキル基又はアルコキシ基と同様の基が挙げられる。例えば、アルキル基又はアルコキシ基で置換されたアリール基としては、メチルフェニル基（トリル基）、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル等）、メトキシフェニル基（ｐ−メトキシフェニル基等）、エトキシフェニル基等が挙げられる。

一般式（２）中、Ｒ^１８が示すアラルキル基としては、−Ｒ^１１５−Ａｒ^１１６で示される基が挙げられる。但し、Ｒ^１１５は、アルキレン基を示す、Ａｒ^１１６、アリール基を示す。
Ｒ^１１５が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ａｒ^１１６が示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基等が挙げられる。

一般式（２）中、Ｒ^１８が示すアラルキル基として具体的には、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。

一般式（２）で表される電子輸送材料として、帯電維持性の観点から、Ｒ^１８が炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す電子輸送材料が好ましく、特に、Ｒ^１１〜Ｒ^１７が各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を示し、かつ、Ｒ^１８が炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す電子輸送材料が好ましい。
なお、後述する一般式（１）で表される化合物におけるＲ^１及びＲ^２の炭素数がそれぞれ独立に８以上である場合は、一般式（２）で表される電子輸送材料として、Ｒ^１８が炭素数１以上４以下のアルキル基、又は総炭素数１以上４以下の−Ｌ^１１１−Ｏ−Ｒ^１１２で示される基である化合物も好ましく用いられる。Ｒ^１８の炭素数が小さい化合物はＲ^１８の炭素数が大きい化合物に比べて融解温度が高いため、一般式（２）で表される電子輸送材料としてＲ^１８の炭素数が小さい化合物を用いると、電子写真感光体の表面へのトナーの固着がさらに抑制される。

以下、一般式（２）で表される電子輸送材料の例示化合物を示すが、これに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物（２−番号）と以下表記する。具体的には、例えば、例示化合物１５は、「例示化合物（２−１５）」と以下表記する。

上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。「ｎ−Ｂｕ」はｎ−ブチル基を、「ｔ−Ｂｕ」はｔｅｒｔ−ブチル基を、「ｎ−Ｏｃｔ」はｎ−オクチル基を、「Ｃｌ」は塩素原子を、「Ｍｅ」はメチル基を、「ＭｅＯ」はメトキシ基を、「Ｐｈ」はフェニル基を、それぞれ表す。

前記一般式（２）で表される電子輸送材料以外の電子輸送材料の具体例としては、例えば以下の化合物が挙げられる。

感光層全体に占める、全電子輸送材料の量としては、感光層中の固形分比で２質量％以上３０質量％以下が好ましく、５質量％以上２０質量％以下がより好ましい。電子輸送材料の含有量がこの範囲であることにより、良好な電気特性が得られ、帯電維持性がさらに良好となる。

正孔輸送材料と電子輸送材料との比率は、質量比（正孔輸送材料／電子輸送材料）で、５０／５０以上９０／１０以下が望ましく、より望ましくは６０／４０以上８０／２０以下である。
なお、本比率における「電子輸送材料」とは、電子輸送材料を２種以上併用した場合、その合計であり、正孔輸送材料についても同様である。

−特定トリフェニレン−
前記の通り、単層型の感光層は、添加剤として特定トリフェニレン（下記一般式（１）で表される化合物）を含む。特定トリフェニレンは、１種のみ用いてもよく、２種以上併用してもよい。

一般式（１）中、Ｌ^１は単結合又はカルボニル基を示す。Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルキルエーテル基、置換若しくは無置換のアルキルエステル基、又は置換若しくは無置換のアラルキル基を示す。

一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２が示す無置換のアルキル基としては、例えば、直鎖状のアルキル基、分岐状のアルキル基、及び環状のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。
環状のアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。

無置換のアルキル基の炭素数は、１以上１２以下が好ましい。無置換のアルキル基の炭素数が上記範囲であることにより、上記範囲よりも多い場合に比べて、例えば側鎖（Ｒ^１及びＲ^２）の配向による部分的な結晶化や相分離などの塗布膜不良が起こりにくい。
無置換のアルキル基の炭素数は、帯電維持性の観点及び感光層に含まれる他の材料との相溶性の観点から、３以上８以下がより好ましく、４以上６以下がさらに好ましい。

一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２が示す置換のアルキル基としては、上記無置換のアルキル基の水素が置換基で置換されたものが挙げられる。置換のアルキル基が有する置換基の数は、１以上４以下が好ましく、１以上３以下がより好ましく、１が特に好ましい。

置換のアルキル基が有する置換基としては、例えば、−ＳｉＲ^３Ｒ^４Ｒ^５等が挙げられ、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５は、各々独立に水素原子又は炭素数１以上４以下のアルキル基を示す。
Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５が示すアルキル基としては、上記Ｒ^１及びＲ^２が示す無置換のアルキル基のうち炭素数１以上４以下のアルキル基が挙げられる。

置換のアルキル基における総炭素数（置換基の炭素も含む数）は、帯電維持性の観点及び感光層に含まれる他の材料との相溶性の観点から、１以上１４以下が好ましく、４以上１０以下がより好ましく、６以上８以下がさらに好ましい。

一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２が示す無置換のアルキルエーテル基は、アルキル鎖にエーテル結合が介在した基である。無置換のアルキルエーテル基としては、−（Ｌ^６１−Ｏ）_ａ−Ｒ^６１で示される基が挙げられ、Ｌ^６１はアルキレン基を示し、Ｒ^６１はアルキル基を示し、ａは１以上の整数を示す。
Ｌ^６１が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状のアルキレン基が挙げられ、例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ｒ^６１が示すアルキル基としては、上記Ｒ^１及びＲ^２が示す無置換のアルキル基と同様の基が挙げられる。

無置換のアルキルエーテル基の総炭素数は、２以上１２以下が好ましい。無置換のアルキルエーテル基の総炭素数が上記範囲であることにより、上記範囲よりも多い場合に比べて、側鎖（Ｒ^１及びＲ^２）の配向による部分的な結晶化や感光層全体の結晶化及び液晶化等が生じにくく、それらに伴う膜の白濁が起こりにくい。
無置換のアルキルエーテル基の総炭素数は、帯電維持性の観点及び感光層に含まれる他の材料との相溶性の観点から、２以上１０以下がより好ましく、４以上８以下がさらに好ましい。
無置換のアルキルエーテル基におけるエーテル結合の数（−（Ｌ^６１−Ｏ）_ａ−Ｒ^６１で示される基におけるａの値）は、相溶性の観点から、１以上２以下が好ましい。

一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２が示す置換のアルキルエーテル基としては、上記無置換のアルキルエーテル基の水素が置換基で置換されたものが挙げられる。置換のアルキルエーテル基が有する置換基の数は、１以上４以下が好ましく、１以上２以下がより好ましく、１が特に好ましい。
置換のアルキルエーテル基が有する置換基としては、例えば、−ＳｉＲ^３Ｒ^４Ｒ^５、フェニル基等が挙げられ、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５は前述の通りである。
置換基としてフェニル基を含まない場合、置換のアルキルエーテル基における総炭素数（置換基の炭素も含む数）は、帯電維持性の観点及び感光層に含まれる他の材料との相溶性の観点から、２以上１４以下が好ましく、２以上１０以下がより好ましく、４以上８以下がさらに好ましい。置換基としてフェニル基を含む場合、置換のアルキルエーテル基における総炭素数（置換基の炭素も含む数）は、帯電維持性の観点及び感光層に含まれる他の材料との相溶性の観点から、８以上１８以下が好ましく、８以上１２以下がより好ましい。

一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２が示す無置換のアルキルエステル基は、アルキル鎖にエステル結合が介在した基である。無置換のアルキルエステル基としては、−（Ｌ^６２−Ｏ−ＣＯ）_ｂ−Ｒ^６２で示される基、及び−（Ｌ^６３−ＣＯ−Ｏ）_ｃ−Ｒ^６３で示される基が挙げられる。ただし、Ｌ^６２及びＬ^６３はアルキレン基を示し、Ｒ^６２及びＲ^６３はアルキル基を示し、ｂ及びｃは１以上の整数を示す。
Ｌ^６２及びＬ^６３が示すアルキレン基としては、上記Ｌ^６１が示すアルキレン基と同様の基が挙げられる。またＲ^６２及びＲ^６３が示すアルキル基としては、上記Ｒ^６１が示すアルキル基と同様の基が挙げられる。

無置換のアルキルエステル基の総炭素数は、３以上１３以下が好ましい。無置換のアルキルエステル基の総炭素数が上記範囲であることにより、上記範囲よりも多い場合に比べて、側鎖（Ｒ^１及びＲ^２）の配向による部分的な結晶化や相分離が起こりにくい。
無置換のアルキルエステル基の総炭素数は、帯電維持性の観点及び感光層に含まれる他の材料との相溶性の観点から、４以上８以下がより好ましく、４以上６以下がさらに好ましい。
無置換のアルキルエステル基におけるエステル結合の数（−（Ｌ^６２−Ｏ−ＣＯ）_ｂ−Ｒ^６２で示される基におけるｂの値、又は−（Ｌ^６３−ＣＯ−Ｏ）_ｃ−Ｒ^６３で示される基におけるｃの値）は、膜強度の観点から、１以上３以下が好ましく、１以上２以下がより好ましく、１がさらに好ましい。

一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２が示す置換のアルキルエステル基としては、上記無置換のアルキルエステル基の水素が置換基で置換されたものが挙げられる。置換のアルキルエステル基が有する置換基の数は、１以上４以下が好ましく、１以上２以下がより好ましく、１が特に好ましい。
置換のアルキルエステル基が有する置換基としては、例えば、−ＳｉＲ^３Ｒ^４Ｒ^５、フェニル基等が挙げられ、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５は前述の通りである。
置換基としてフェニル基を含まない場合、置換のアルキルエステル基における総炭素数（置換基の炭素も含む数）は、帯電維持性の観点及び感光層に含まれる他の材料との相溶性の観点から、３以上１５以下が好ましく、３以上８以下がより好ましく、３以上６以下がさらに好ましい。置換基としてフェニル基を含む場合、置換のアルキルエステル基における総炭素数（置換基の炭素も含む数）は、帯電維持性の観点及び感光層に含まれる他の材料との相溶性の観点から、９以上１９以下が好ましく、９以上１２以下がより好ましい。

一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２が示す無置換のアラルキル基としては、−Ｌ^６４−Ａｒ^６４で示される基が挙げられ、Ｌ^６４はアルキレン基を示し、Ａｒ^６４はアリール基を示す。
Ｌ^６４が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状のアルキレン基が挙げられ、例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ａｒ^６４が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基等が挙げられる。

Ｌ^６４が示すアルキレン基の炭素数は、１以上１２以下が好ましい。アルキレン基の炭素数が上記範囲であることにより、上記範囲よりも多い場合に比べて、例えば側鎖（Ｒ^１及びＲ^２）の配向による部分的な結晶化や相分離が起こりにくい。またＬ^６４が示すアルキレン基の炭素数は、帯電維持性の観点及び感光層に含まれる他の材料との相溶性の観点から、１以上１０以下がより好ましく、１以上６以下がさらに好ましい。

一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２が示す置換のアラルキル基としては、上記無置換のアラルキル基の水素が置換基で置換されたものが挙げられる。置換のアラルキル基は、アルキレン鎖（Ｌ^６４が示すアルキレン基）の水素が置換されてもよく、アリール骨格（Ａｒ^６４が示すアリール基）の水素が置換されてもよく、アルキレン鎖の水素及びアリール骨格の水素の両方が置換されてもよい。置換のアラルキル基が有する置換基の数は、１以上４以下が好ましく、１以上２以下がより好ましく、１が特に好ましい。

置換のアラルキル基が有する置換基としては、例えば、アリール骨格の水素を置換する炭素数１以上１２以下のアルキル基、−ＳｉＲ^３Ｒ^４Ｒ^５等が挙げられ、Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^５は前述の通りである。
アリール骨格の水素を置換するアルキル基としては、上記Ｒ^１及びＲ^２が示す無置換のアルキル基が挙げられ、炭素数１以上６以下のアルキル基が好ましく、炭素数１以上４以下のアルキル基がより好ましく、炭素数１以上２以下のアルキル基がさらに好ましい。
アリール骨格の水素がアルキル基で置換されたアラルキル基としては、例えば、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。

置換のアラルキル基における総炭素数（置換基の炭素も含む数）は、帯電維持性の観点及び感光層に含まれる他の材料との相溶性の観点から、７以上２０以下が好ましく、７以上１３以下がより好ましく、７以上１０以下がさらに好ましい。

一般式（１）中のＲ^１及びＲ^２としては、これらの中でも、帯電維持性の観点及び感光層に含まれる他の材料との相溶性の観点から、無置換のアルキル基、−ＳｉＲ^３Ｒ^４Ｒ^５で置換されたアルキル基、無置換のアルキルエーテル基、−ＳｉＲ^３Ｒ^４Ｒ^５で置換されたアルキルエーテル基、フェニル基で置換されたアルキルエーテル基、無置換のアルキルエステル基、無置換のアラルキル基、アリール骨格の水素がアルキル基で置換されたアラルキル基が好ましい。
一般式（１）中のＲ^１及びＲ^２はいずれも、炭素−炭素二重結合を有さないことが好ましく、炭素−炭素二重結合及び炭素−炭素三重結合を有さないことがより好ましい。
なお、一般式（１）中のＲ^１とＲ^２とは、同じであっても異なっていてもよいが、同じであることが好ましい。

一般式（１）で表される化合物（特定トリフェニレン）としては、帯電維持性の観点から、Ｒ^１及びＲ^２が各々独立に、置換基を除く炭素数が４以上１２以下の置換若しくは無置換のアルキル基、置換基を除く炭素数が４以上８以下の置換若しくは無置換のアルキルエーテル基、置換基を除く炭素数が４以上８以下の置換若しくは無置換のアルキルエステル基、又は置換基を除く炭素数が７以上１０以下の置換もしくは無置換のアラルキル基を示す化合物が好ましく、さらに、Ｒ^１及びＲ^２が各々独立に、炭素数４以上８以下の無置換のアルキル基、炭素数４以上８以下の無置換のアルキルエーテル基、又は炭素数４以上８以下の無置換のアルキルエステル基を示す化合物が好ましく、特に、Ｌが単結合を示し、かつ、Ｒ^１及びＲ^２が各々独立に、炭素数４以上８以下の無置換のアルキル基又は炭素数４以上８以下の無置換のアルキルエーテル基を示す化合物が好ましい。

以下、特定トリフェニレンの例示化合物を示すが、これに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物（１−番号）と以下表記する。具体的には、例えば、例示化合物１３は、「例示化合物（１−１３）」と以下表記する。

上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。「−」は単結合を、「ｎ−Ｂｕ」はｎ−ブチル基を、それぞれ表す。

感光層の全固形分に対する特定トリフェニレンの含有量は、帯電維持性及び感光層の膜強度の観点から、１質量％以上２０質量％以下が好ましい。
特定トリフェニレンの含有量が上記範囲であることにより、上記範囲よりも少ない場合に比べてさらに帯電維持性が良好となる。また、特定トリフェニレンの含有量が上記範囲であることにより、上記範囲よりも多い場合に比べて、感光層の膜硬度が高く、膜の結晶化が抑制され、感光層表面のキズがつきにくくなるとともに、電気特性の制御がしやすい。
感光層の全固形分に対する特定トリフェニレンの含有量は、５質量％以上１５質量％以下がより好ましく、５質量％以上１２質量％以下が特に好ましい。

−その他添加剤−
単層型の感光層には、界面活性剤、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の周知のその他添加剤を含んでいてもよい。また、単層型の感光層が表面層となる場合、フッ素樹脂粒子、シリコーンオイル等を含んでいてもよい。

−単層型の感光層の形成−
単層型の感光層は、上記成分を溶剤に加えた感光層形成用塗布液を用いて形成される。
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状若しくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は単独又は２種以上混合して用いる。

感光層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。

感光層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。

単層型の感光層の膜厚は、望ましくは５μｍ以上６０μｍ以下、より望ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、さらに望ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲に設定される。

［画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）］
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。

本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。

中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、像保持体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。

本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。

なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。

以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。

図２は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図２に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。

図２におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。

なお、図２には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。

以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。

−帯電装置−
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。

−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。

−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。

現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。

−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。

−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。

−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。

図３は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図３に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。

なお、本実施形態に係る画像形成装置１００は、上記構成に限られず、例えば、電子写真感光体７の周囲であって、転写装置４０よりも電子写真感光体７の回転方向下流側でクリーニング装置１３よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、残留したトナーの極性を揃え、クリーニングブラシで除去しやすくするための第１除電装置を設けた形態であってもよいし、クリーニング装置１３よりも電子写真感光体の回転方向下流側で帯電装置８よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、電子写真感光体７の表面を除電する第２除電装置を設けた形態であってもよい。

また、本実施形態に係る画像形成装置１００は、上記構成に限れず、周知の構成、例えば、電子写真感光体７に形成したトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の画像形成装置を採用してもよい。

以下、実施例により本実施形態を詳細に説明するが、本実施形態は、これら実施例に何ら限定されるものではない。なお、以下の説明において、特に断りのない限り、「部」及び「％」はすべて質量基準である。

＜実施例１＞
−下引層の形成−
ジルコニウム化合物（ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトネート、製品名：オルガチックスＺＣ５４０、マツモトファインケミカル社製）１０部と、シラン化合物（３−アミノプロピルトリメトキシシラン、製品名：Ａ１１１０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）１部と、イソプロパノール４０部と、ブタノール２０部と、を混合し、攪拌して下引層形成用塗布液を得た。
得られた下引層形成用塗布液を、浸漬塗布法にて、直径３０ｍｍ、長さ２４５ｍｍのアルミニウム基体上に塗布し、１６０℃において１５分間の加熱乾燥を行い、厚さ０．１μｍの下引層を形成した。

−感光層の形成−
電荷発生物質としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン０．５質量部、並びに７．４°、１６．６°、２５．５°、および２８．３°に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン１質量部と、結着樹脂としてのポリカーボネートＺ樹脂４９．５質量部と、テトラヒドロフラン３００質量部と、の混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて６時間分散した。

得られた分散液に、下記構造の正孔輸送材料（ＨＴ−２）３０質量部と、下記構造の特定トリフェニレン（例示化合物（１-３））５質量部と、一般式（２）で表される電子輸送材料（例示化合物（２-１０））１２質量部と、シリコーンオイルＫＰ３４０（信越化学工業製）０．００１質量と、を添加し、一晩攪拌して感光層形成用塗布液を得た。
得られた感光層形成用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、１３０℃、４５分乾燥して、膜厚が２２μｍの単層型の感光層を形成し、感光体１を得た。
以上の工程を経て、電子写真感光体を作製した。

＜実施例２〜１３、比較例１〜３＞
表１に従って、下引層の有無、感光層形成用塗布液に用いる正孔輸送材料、電子輸送材料、及び特定トリフェニレン（一般式（１）で表される化合物）の種類を変更し、かつ、結着樹脂及び特定トリフェニレンの添加量を調整することで感光層（すなわち感光層形成用塗布液の固形分）全体に対する特定トリフェニレンの含有量を表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体（感光体２〜１３、比較感光体１〜３）を作製した。なお、下引層を設けない場合は、アルミニウム基体上に直接感光層形成用塗布液を塗布して単層型の感光層を形成した。表１中の括弧内の数値（含有量）は感光層形成用塗布液の固形分全体に対する特定トリフェニレンの含有量（質量％）を表し、「−」は該当する成分を添加していないことを表す。

＜比較例４＞
特定トリフェニレンの代わりに、他の添加剤として下記化合物（Ｔ−１）を用い、かつ、結着樹脂及び化合物（Ｔ−１）の添加量を調整することで感光層（すなわち感光層形成用塗布液の固形分）全体に対する化合物（Ｔ−１）の含有量を表１に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体（比較感光体４）を作製した。なお表１中の括弧内の数値（含有量）は感光層形成用塗布液の固形分全体に対する化合物（Ｔ−１）の含有量（質量％）を表し、「−」は該当する成分を添加していないことを表す。

なお、表１中の略称の詳細は以下の通りである。
−正孔輸送材料−
・ＨＴ−２： 一般式（Ｂ−１）で表されるトリアリールアミン誘導体の例示化合物（ＨＴ−２）

−電子輸送材料−
・２−３：一般式（２）で表される電子輸送材料の例示化合物（２−３）
・２−１０：一般式（２）で表される電子輸送材料の例示化合物（２−１０）
・２−１１：一般式（２）で表される電子輸送材料の例示化合物（２−１１）
・ＥＴ−Ｂ：一般式（２）で表される電子輸送材料以外の電子輸送材料の具体例化合物（ＥＴ−Ｂ）
・ＥＴ−Ｆ：一般式（２）で表される電子輸送材料以外の電子輸送材料の具体例化合物（ＥＴ−Ｆ）

−特定トリフェニレン−
・１−１：一般式（１）で表される特定トリフェニレンの例示化合物（１−１）
・１−２：一般式（１）で表される特定トリフェニレンの例示化合物（１−２）
・１−３：一般式（１）で表される特定トリフェニレンの例示化合物（１−３）
・１−４：一般式（１）で表される特定トリフェニレンの例示化合物（１−４）
・１−６：一般式（１）で表される特定トリフェニレンの例示化合物（１−６）

−他の添加剤−
・Ｔ−１：前記化合物（Ｔ−１）

＜評価＞
得られた各電子写真感光体について、以下の評価を行った。その結果を表２に示す。

−耐クラック性評価−
感光体の外周面に、オレイン酸１質量％ヘキサン溶液を０．５ｍｌ噴霧し、室温（２５℃）で１週間放置し、感光体表面のクラックを以下の基準で評価した。なお、用いた顕微鏡はデジタルマイクロスコープ（キーエンス社製、型番：ＶＨＸ−７００）であり、７００倍に拡大して観察した。
Ａ：顕微鏡で観察して問題なし（クラックが観察されない）
Ｂ：顕微鏡観察で微細なクラック発生するが実用上問題なし（目視でクラックが観察されない）
Ｃ：目視でクラックが確認される

−トナーフィルミング評価−
室温３０℃、湿度８５％の環境下で、Ｂｒｏｔｈｅｒ社製ＨＬ-２３６０ＤＷの帯電器にＴＲＥＣ社製の外部電源（ＭＯＤＥＬ６１０Ｃ）を取り付ける改造を施し、帯電電位＋８００Ｖとして、５％ハーフトーンで１万枚の画像形成を行った。その後、感光体表面におけるトナーフィルミングの有無及び１万枚目の画像の画質を以下の基準で評価した。
Ａ：目視で感光体表面にトナーフィルミングを確認できず、紙面上の画質も全く問題なし。
Ｂ：感光体表面に僅かなトナーフィルミングを確認できるが、紙面上の画質は許容できるレベル
Ｃ：トナーフィルミングが多発し、紙面上の画質も問題となるレベル。

−帯電維持性評価−
上記、トナーフィルミングの評価における１万枚の画像形成の前後において、現像器の代わりにＴＲＥＣ社製の表面電位計（ＭＯＤＥＬ３４４）及びプローブ（ＭＯＤＥＬ５５５Ｐ−１）を取り付ける改造を施し、帯電電位を測定した。１万枚の画像形成前に測定された帯電電位を「初期帯電電位（Ｖ）」とし、１万枚の画像形成後に測定された帯電電位を「１万枚画像形成後の帯電電位（Ｖ）」とし、その差「ΔＶ＝１万枚画像形成後の帯電電位（Ｖ）−初期帯電電位（Ｖ）」を求めた。差「ΔＶ」の値が大きい（差「ΔＶ」の絶対値が小さい）ほど帯電維持性が良好である。

上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、感光体表面における帯電維持性が良好であることが分かる。

１ 下引層、２ 感光層、３ 保護層、４ 導電性基体、７ 電子写真感光体、８ 帯電装置、９ 露光装置、１０ 電子写真感光体、１１ 現像装置、１３ クリーニング装置、１４ 潤滑材、４０ 転写装置、５０ 中間転写体、１００ 画像形成装置、１２０ 画像形成装置、１３１ クリーニングブレード、１３２ 繊維状部材、１３３ 繊維状部材、３００ プロセスカートリッジ

Claims (5)

1. 導電性基体と、
   前記導電性基体上に設けられた単層型の感光層であって、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、電子輸送材料と、下記一般式（１）で表される化合物と、を含む感光層と、
   を有する電子写真感光体。
   
   （一般式（１）中、Ｌ^１は単結合又はカルボニル基を示す。Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルキルエーテル基、置換若しくは無置換のアルキルエステル基、又は置換若しくは無置換のアラルキル基を示す。）
2. 前記一般式（１）で表される化合物の含有量は、前記感光層全体に対し１質量％以上２０質量％以下である請求項１に記載の電子写真感光体。
3. 前記電子輸送材料が下記一般式（２）で表される化合物を含有する請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。
   
   （一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ^１８は、アルキル基、−Ｌ^１１１−Ｏ−Ｒ^１１２、アリール基、又はアラルキル基を示す。ただし、Ｌ^１１１はアルキレン基を示し、Ｒ^１１２はアルキル基を示す。）
4. 請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
   画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
5. 請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
   前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
   帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
   トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
   前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
   を備える画像形成装置。