JP6471000B2 - マグネトロンスパッタリング装置用の磁石ユニット及びこの磁石ユニットを用いたスパッタリング方法 - Google Patents
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Description
Claims (3)
- 平面視円形のターゲットのスパッタ面と背向する側に配置され、ターゲットの中心を回転中心として回転駆動されるマグネトロンスパッタリング装置用の磁石ユニットであって、
第1の磁石体と第1の磁石体の周囲を囲う第2の磁石体とを有してターゲットの中心と外周との間の所定範囲に磁場の垂直成分がゼロとなる位置を通る線が無端状に閉じるようにターゲットから漏洩する磁場を発生させるものにおいて、
ターゲットの中心側に位置する磁石体の部分のみを径方向に移動する移動手段を設け、磁場の垂直成分がゼロとなる位置を通る線の一部がターゲットの中心を跨ぐように変形自在としたことを特徴とするマグネトロンスパッタリング装置用の磁石ユニット。 - 前記移動手段は、第2磁石体の部分を保持するヨークと、ヨークに連結されるアクチュエータとで構成されることを特徴とする請求項1記載のマグネトロンスパッタリング装置用の磁石ユニット。
- 請求項1記載のマグネトロンスパッタリング装置用の磁石ユニットを備えるマグネトロンスパッタリング装置を用いたスパッタリング方法において、
第1及び第2の磁石体によりターゲットの中心と外周との間の所定範囲に磁場の垂直成分がゼロとなる位置を通る線が無端状に閉じるようにターゲットから漏洩磁場を発生させた状態で、ターゲットのスパッタ面をスパッタリングし、スパッタ粒子を基板に付着、堆積させて基板表面に成膜する成膜工程と、
ターゲットの中心側に位置する磁石体の部分のみを移動させて磁場の垂直成分がゼロとなる位置を通る線の一部がターゲット中心を跨ぐように変形させた状態でターゲットのスパッタ面をスパッタリングするダミースパッタリング工程とを含むことを特徴とするスパッタリング方法。
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