JP7286026B1 - 内壁部材の再生方法 - Google Patents
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Abstract
Description
<プラズマ処理装置の構成>
以下に図1を用いて、実施の形態1におけるプラズマ処理装置1の概要について説明する。
以下に、プラズマ処理の一例として、ウェハWFの上面上に予め形成された所定の膜に対して、プラズマ3を用いたエッチング処理を実行する場合について例示する。
図1に示されるように、処理室4の内部には、内壁部材40が設けられている。内壁部材40は、例えば、誘電体であるプラズマ3の電位を安定させるためのアース電極として機能する。
以下に図5B~図5Dを用いて、内壁部材40の再生方法(内壁部材40の製造方法)に含まれる各工程について説明する。
以下に図6A~図6Eを用いて、実施の形態2における内壁部材40と、内壁部材40の再生方法(内壁部材40の製造方法)とについて説明する。なお、以下の説明では、実施の形態1との相違点について主に説明し、実施の形態1と重複する点については説明を省略する。
図6A~図6Eは、図4の領域50を拡大して示した断面図である。実施の形態2における内壁部材40も、実施の形態1と同様に、基材41と、陽極酸化膜42aと、溶射膜42bとを備えている。これらを構成する材料、および、これらを形成するための手法などは、実施の形態1と同様である。
以下に図6C~図6Eを用いて、内壁部材40の再生方法(内壁部材40の製造方法)に含まれる各工程について説明する。
2 真空容器
3 プラズマ
4 処理室
5 ステージ
6 窓部材
7 プレート
8 貫通穴
9 間隙
10 インピーダンス整合器
11 高周波電源
12 導波管
13 マグネトロン発振器
14 ソレノイドコイル
15 ソレノイドコイル
16 配管
17 ガス供給装置
18 圧力調整板
19 圧力検出器
20 ターボ分子ポンプ
21 ドライポンプ
22 排気配管
23~25 バルブ
30 基材
40 内壁部材(アース電極)
40a 上部
40b 中間部
40c 下部
41 基材
42 皮膜
42a 陽極酸化膜
42b 溶射膜
50 領域
100 マスク材(樹脂テープ)
101 マスク材(治具)
200 ブラスト粒子
300 半溶融状態の粒子
EP1~EP3 端部
FS1、FS2 表面
SS1 側面
WF ウェハ(被処理材)
Claims (15)
- プラズマ処理装置においてプラズマ処理が行われる処理室の内壁に設けられる内壁部材の再生方法であって、
前記内壁部材は、
第1表面、前記第1表面よりも高い位置に位置する第2表面、および、前記第1表面と前記第2表面とを繋ぐ第1側面を有する基材と、
前記第1表面上および前記第1側面上に形成され、且つ、前記第1側面上に位置する第1端部を有する陽極酸化膜と、
前記第1端部を覆うように、前記第1表面上、前記第1側面上および前記第2表面上に形成された第1溶射膜であって、前記第1表面上に形成されている前記陽極酸化膜上に位置する第2端部を有する前記第1溶射膜と、
を備え、
(a)前記第1溶射膜から露出している前記陽極酸化膜をマスク材によって覆う工程、
(b)前記(a)工程後、前記第1溶射膜に対してブラスト処理を行うことで、前記第2表面上の前記第1溶射膜を除去すると共に、前記マスク材に覆われていない前記陽極酸化膜が前記第1溶射膜によって覆われるように、前記第1表面上および前記第1側面上の前記第1溶射膜の一部を残す工程、
(c)前記(b)工程後、残されている前記第1溶射膜上および前記第2表面上に、溶射法によって第2溶射膜を形成する工程、
(d)前記(c)工程後、前記マスク材を取り外す工程、
を有し、
前記基材は、内周と外周との間で所定の厚さを有する円筒形状を成し、
前記第2表面は、前記基材の前記内周側から前記基材の前記外周側へ向かう方向において、前記第1表面よりも高い位置に位置する、内壁部材の再生方法。 - 請求項1に記載の内壁部材の再生方法において、
前記(b)工程において、前記ブラスト処理は、前記第2表面から前記第1表面へ向かう方向であって、且つ、前記第1表面に対して所定の角度で傾斜した方向から、ブラスト粒子を投射することで行われる、内壁部材の再生方法。 - 請求項1に記載の内壁部材の再生方法において、
前記(a)工程において、前記マスク材は、前記第2端部に接している、内壁部材の再生方法。 - 請求項3に記載の内壁部材の再生方法において、
前記第2溶射膜は、前記第1表面上に形成されている前記陽極酸化膜上に位置する第3端部を有し、
前記第3端部の位置は、前記第1溶射膜の前記第2端部の位置と一致する、内壁部材の再生方法。 - 請求項1に記載の内壁部材の再生方法において、
前記マスク材は、樹脂テープからなる、内壁部材の再生方法。 - 請求項1に記載の内壁部材の再生方法において、
前記第1溶射膜および前記第2溶射膜は、同じ材料からなる、内壁部材の再生方法。 - 請求項1に記載の内壁部材の再生方法において、
前記第1表面、前記第1側面および前記第2表面は、前記基材の外周側に設けられている、内壁部材の再生方法。 - プラズマ処理装置においてプラズマ処理が行われる処理室の内壁に設けられる内壁部材の再生方法であって、
前記内壁部材は、
第1表面、前記第1表面よりも高い位置に位置する第2表面、および、前記第1表面と前記第2表面とを繋ぐ第1側面を有する基材と、
前記第1表面上、前記第1側面上および前記第2表面上に形成され、且つ、前記第1表面上に位置する第1端部を有する陽極酸化膜と、
前記第1端部を覆うように、前記第1表面上に形成された第1溶射膜であって、前記第1表面上に形成されている前記陽極酸化膜上に位置する第2端部を有する前記第1溶射膜と、
を備え、
(a)前記第1溶射膜から露出し、且つ、少なくとも前記第1表面上および前記第1側面上に形成されている前記陽極酸化膜を、マスク材によって覆う工程、
(b)前記(a)工程後、前記第1溶射膜に対してブラスト処理を行うことで、前記第1表面上の前記第1溶射膜を除去する工程、
(c)前記(b)工程後、前記マスク材から露出している前記第1表面上に、溶射法によって第2溶射膜を形成する工程、
(d)前記(c)工程後、前記マスク材を取り外す工程、
を有し、
前記基材は、内周と外周との間で所定の厚さを有する円筒形状を成し、
前記第2表面は、前記基材の前記内周側から前記基材の前記外周側へ向かう方向において、前記第1表面よりも高い位置に位置する、内壁部材の再生方法。 - 請求項8に記載の内壁部材の再生方法において、
前記(a)工程において、前記マスク材は、前記第2端部に接している、内壁部材の再生方法。 - 請求項9に記載の内壁部材の再生方法において、
前記第2溶射膜は、前記第1表面上に位置する第3端部を有し、
前記第3端部の位置は、前記第1溶射膜の前記第2端部の位置と一致する、内壁部材の再生方法。 - 請求項8に記載の内壁部材の再生方法において、
前記マスク材は、前記第1表面および前記第1側面の各々の形状に沿った形状を有する治具である、内壁部材の再生方法。 - 請求項8に記載の内壁部材の再生方法において、
前記第1溶射膜および前記第2溶射膜は、同じ材料からなる、内壁部材の再生方法。 - 請求項8に記載の内壁部材の再生方法において、
前記第1表面、前記第1側面および前記第2表面は、前記基材の外周側に設けられている、内壁部材の再生方法。 - 請求項8に記載の内壁部材の再生方法において、
前記(b)工程において、前記マスク材に覆われておらず、且つ、前記第1溶射膜によって覆われていた前記陽極酸化膜も除去され、前記第1端部の位置が後退する、内壁部材の再生方法。 - 請求項14に記載の内壁部材の再生方法において、
(e)前記(d)工程後、前記内壁部材をプラズマに晒す工程、
(f)前記(e)工程後、前記第2溶射膜から露出し、且つ、少なくとも前記第1表面上および前記第1側面上に形成されている前記陽極酸化膜を、前記マスク材によって覆う工程、
(g)前記(f)工程後、前記第2溶射膜に対してブラスト処理を行うことで、前記第1表面上の前記第2溶射膜を除去する工程、
(h)前記(g)工程後、前記マスク材から露出している前記第1表面上に、溶射法によって第3溶射膜を形成する工程、
(i)前記(h)工程後、前記マスク材を取り外す工程、
を有し、
前記(i)工程後の前記第1端部の位置は、前記(f)工程前の前記第1端部の位置と一致する、内壁部材の再生方法。
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