JP6470377B1 - 二次燃焼室への酸素含有ガス供給方法及び二次燃焼設備 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】二次燃焼室(20)への酸素含有ガス供給方法であって、二次燃焼室(20)内のうち上流側の空間に酸素含有ガスを供給する上流側供給工程と、二次燃焼室(20)内のうち下流側の空間に酸素含有ガスを供給する下流側供給工程と、を備え、上流側供給工程では、軸直交断面において酸素含有ガスが特定方向に旋回することにより形成される単一の旋回流(S)が上流側の空間において生じるように当該上流側の空間に酸素含有ガスを供給し、下流側供給工程では、前記単一の旋回流(S)の旋回方向と同じ方向に旋回する単一の旋回流(S)が下流側の空間において生じるように当該下流側の空間に酸素含有ガスを供給すること。
【選択図】図1
Description
10 一次燃焼室
20 二次燃焼室
21 第1対向壁
22 第2対向壁
30 ガス供給部
40 上流側供給部
42 旋回用供給部
42a 第1旋回用供給部
42b 第2旋回用供給部
44 中心用供給部
44a 第1中心用供給部
44b 第2中心用供給部
50 下流側供給部
52a 第1下流側供給部
52b 第2下流側供給部
S 単一の旋回流
Su 上流側の空間
Sd 下流側の空間
Claims (13)
- 一次燃焼室から排出された排ガスを燃焼させる二次燃焼室であって筒状に形成されたものに酸素を含有するガスである酸素含有ガスを供給する方法であって、
前記排ガスの流れ方向について前記二次燃焼室内のうち上流側の空間に前記酸素含有ガスを供給する上流側供給工程と、
前記排ガスの流れ方向について前記二次燃焼室内のうち上流側の空間の下流側の空間に前記酸素含有ガスを供給する下流側供給工程と、を備え、
前記上流側供給工程では、前記二次燃焼室の中心軸に直交する断面である軸直交断面において前記酸素含有ガスが特定方向に旋回することにより形成される単一の旋回流が前記上流側の空間において生じるように当該上流側の空間に前記酸素含有ガスを供給し、
前記下流側供給工程では、前記単一の旋回流の旋回方向と同じ方向に旋回する単一の旋回流が前記下流側の空間において生じるように当該下流側の空間に前記酸素含有ガスを供給し、
前記上流側供給工程では、前記下流側供給工程で供給される前記酸素含有ガスの量よりも多量の前記酸素含有ガスを供給する、二次燃焼室への酸素含有ガス供給方法。 - 請求項1に記載の二次燃焼室への酸素含有ガス供給方法において、
前記上流側供給工程では、前記軸直交断面において前記二次燃焼室の中心軸に向かう気流をも生じさせるように前記上流側の空間に前記酸素含有ガスを供給する、二次燃焼室への酸素含有ガス供給方法。 - 請求項2に記載の二次燃焼室への酸素含有ガス供給方法において、
前記下流側供給工程では、前記上流側供給工程において前記酸素含有ガスを供給する部位から前記流れ方向について下流側に0.9m以上3m以下離間した部位から前記酸素含有ガスを供給する、二次燃焼室への酸素含有ガス供給方法。 - 一次燃焼室から排出された排ガスを燃焼させる二次燃焼室であって筒状に形成されたものに酸素を含有するガスである酸素含有ガスを供給する方法であって、
前記排ガスの流れ方向について前記二次燃焼室内のうち上流側の空間に前記酸素含有ガスを供給する上流側供給工程と、
前記排ガスの流れ方向について前記二次燃焼室内のうち上流側の空間の下流側の空間に前記酸素含有ガスを供給する下流側供給工程と、を備え、
前記上流側供給工程では、前記二次燃焼室の中心軸に直交する断面である軸直交断面において前記酸素含有ガスが特定方向に旋回することにより形成される単一の旋回流が前記上流側の空間において生じるように当該上流側の空間に前記酸素含有ガスを供給し、
前記下流側供給工程では、前記単一の旋回流の旋回方向と同じ方向に旋回する単一の旋回流が前記下流側の空間において生じるように当該下流側の空間に前記酸素含有ガスを供給し、
前記上流側供給工程及び前記下流側供給工程では、空気比が0.3以上0.5以下となる量の前記酸素含有ガスを供給する、二次燃焼室への酸素含有ガス供給方法。 - 請求項4に記載の二次燃焼室への酸素含有ガス供給方法において、
前記上流側供給工程では、前記下流側供給工程での前記酸素含有ガスの供給量の1倍以上1.5倍以下の量の前記酸素含有ガスを供給する、二次燃焼室への酸素含有ガス供給方法。 - 一次燃焼室の下流側に設けられており前記一次燃焼室から排出された排ガスを燃焼させる二次燃焼室であって筒状に形成されたものと、
前記二次燃焼室に酸素を含有するガスである酸素含有ガスを供給するためのガス供給部と、を備え、
前記ガス供給部は、
前記排ガスの流れ方向について前記二次燃焼室内のうち上流側の空間に前記酸素含有ガスを供給するための上流側供給部と、
前記排ガスの流れ方向について前記二次燃焼室内のうち上流側の空間の下流側の空間に前記酸素含有ガスを供給するための下流側供給部と、を含み、
前記上流側供給部は、前記二次燃焼室の中心軸に直交する断面である軸直交断面において前記酸素含有ガスが特定方向に旋回することにより形成される単一の旋回流を前記上流側の空間において生じさせるように前記二次燃焼室に接続された旋回用供給部を有し、
前記下流側供給部は、前記単一の旋回流の旋回方向と同じ方向に旋回することにより形成される単一の旋回流を前記下流側の空間において生じさせるように前記二次燃焼室に接続されており、
前記上流側供給部からの前記酸素含有ガスの供給量は、前記下流側供給部からの前記酸素含有ガスの供給量よりも大きく設定されている、二次燃焼設備。 - 請求項6に記載の二次燃焼設備において、
前記二次燃焼室は、
第1方向に互いに対向する一対の第1対向壁と、
前記一対の第1対向壁に接続されており、前記第1方向と直交する方向である第2方向に互いに対向する一対の第2対向壁と、を有し、
前記旋回用供給部は、
前記一対の第1対向壁のうちの一方の第1対向壁に設けられた第1旋回用供給部と、
前記一対の第1対向壁のうちの他方の第1対向壁に設けられた第2旋回用供給部と、を有し、
前記第1旋回用供給部は、前記軸直交断面において、前記一方の第1対向壁のうち前記第2方向についての当該一方の第1対向壁の中心から一方側に偏倚した部位に接続されており、
前記第2旋回用供給部は、前記軸直交断面において、前記他方の第1対向壁のうち前記第2方向についての当該他方の第1対向壁の中心から他方側に偏倚した部位に接続されており、
前記下流側供給部は、
前記一方の第1対向壁又は前記一対の第2対向壁のうちの一方の第2対向壁に設けられた第1下流側供給部と、
前記他方の第1対向壁又は前記一対の第2対向壁のうちの他方の第2対向壁に設けられた第2下流側供給部と、を有し、
前記第1下流側供給部は、前記軸直交断面において、前記一方の第1対向壁のうち前記第2方向についての当該一方の第1対向壁の中心から一方側に偏倚した部位又は前記一方の第2対向壁のうち前記第1方向についての当該一方の第2対向壁の中心から一方側に偏倚した部位に接続されており、
前記第2下流側供給部は、前記軸直交断面において、前記他方の第1対向壁のうち前記第2方向についての当該他方の第1対向壁の中心から他方側に偏倚した部位又は前記一方の第2対向壁のうち前記第1方向についての当該他方の第2対向壁の中心から他方側に偏倚した部位に接続されている、二次燃焼設備。 - 請求項7に記載の二次燃焼設備において、
前記上流側供給部は、前記軸直交断面において前記二次燃焼室の中心軸に向かう前記酸素含有ガスの気流を生じさせるための中心用供給部をさらに有する、二次燃焼設備。 - 請求項8に記載の二次燃焼設備において、
前記中心用供給部は、前記第1対向壁のうち前記第2方向についての当該第1対向壁の中心から前記単一の旋回流の旋回方向と反対方向に偏倚した部位に接続されている、二次燃焼設備。 - 請求項9に記載の二次燃焼設備において、
前記中心用供給部の前記第1対向壁の中心からの偏倚量は、0よりも大きくかつ前記第2方向についての前記第1対向壁の寸法の4分の1以下に設定されている、二次燃焼設備。 - 請求項8ないし10のいずれかに記載の二次燃焼設備において、
前記下流側供給部は、前記二次燃焼室のうち前記上流側供給部が接続された部位から前記流れ方向について下流側に0.9m以上3m以下離間した部位に接続されている、二次燃焼設備。 - 請求項6〜11のいずれかに記載の二次燃焼設備において、
前記上流側供給部及び前記下流側供給部は、空気比が0.3以上0.5以下となる量の前記酸素含有ガスを供給する、二次燃焼設備。 - 請求項12に記載の二次燃焼設備において、
前記上流側供給部からの前記酸素含有ガスの供給量は、前記下流側供給部からの前記酸素含有ガスの供給量の1倍以上1.5倍以下に設定されている、二次燃焼設備。
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