JP6453559B2 - 真空調理器 - Google Patents
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Description
また、本発明は、食材を収容するとともに密閉可能な調理槽と、前記調理槽内を大気圧未満の圧力に減圧する減圧手段と、前記調理槽に収容された食材の温度を検出する非接触型の第1温度センサと、前記調理槽の温度を検出する第2温度センサと、前記減圧手段により内部が減圧された前記調理槽を加熱するヒータと、前記ヒータを制御する制御手段と、を備え、前記制御手段は、設定された目標調理温度に到達した時点での前記第2温度センサの検出値と前記第1温度センサの検出値の差に基づいて、設定された目標調理時間を補正することにより前記第1温度センサの検出結果に基づくヒータ制御を補正する真空調理器である。
また、本発明は、食材を収容するとともに密閉可能な調理槽と、前記調理槽内を大気圧未満の圧力に減圧する減圧手段と、前記調理槽に収容された食材の温度を検出する非接触型の第1温度センサと、前記調理槽の温度を検出する第2温度センサと、前記減圧手段により内部が減圧された前記調理槽を加熱するヒータと、前記ヒータを制御する制御手段と、を備え、前記制御手段は、前記第2温度センサの検出値が、設定された目標調理温度に到達した時点での前記第2温度センサの検出値と前記第1温度センサの検出値の差に基づいて、前記目標調理温度を補正することにより、前記第1温度センサの検出結果に基づくヒータ制御を補正する真空調理器である。
図1は、本発明の第1実施形態に係る真空調理器100の構成を示す図である。図1において、破線の矢印は電気信号の流れを示している。
図6は、本発明の第2実施形態に係る真空調理器200の構成を示す図である。ここでは、第1実施形態と異なる構成要素および動作について説明し、その他の構成要素および動作については説明を省略する。
なお、上記第2実施形態では目標調理時間tmを補正しているが、これに限られない。図8は、第2実施形態の変形例1に係る真空調理器200の動作を示すフローチャートである。図8においては、図3における動作と同じ動作については、図3と同じ参照符号を付してその説明を省略する。
図9は、第2実施形態の変形例2に係る真空調理器200の動作を示すフローチャートである。図9においては、図3における動作と同じ動作については、図3と同じ参照符号を付してその説明を省略する。
2 減圧手段
3 第1温度センサ
4 ヒータ
5 第2温度センサ
6 蒸気供給手段
7 コントローラ
8 入力部
9 ディスプレイ
10 槽本体
11 調理台
12 蓋部
13 底部
14 発熱体
15 方向制御弁
16 圧力センサ
17 水分トラップ
18 真空ポンプ
19 ボイラ
20 蒸気導入弁
21 シール部
22 側壁部
23,24 管路
100,200 真空調理器
Claims (7)
- 食材を収容するとともに密閉可能な調理槽と、
前記調理槽内を大気圧未満の圧力に減圧する減圧手段と、
前記調理槽に収容された食材の温度を検出する非接触型の第1温度センサと、
前記減圧手段により内部が減圧された前記調理槽を加熱するヒータと、
前記第1温度センサの検出結果に基づいて前記ヒータを制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段による前記ヒータの制御では、前記減圧手段により減圧された状態の前記調理槽内の食材に対する前記第1温度センサの検出結果を前記食材の中心温度とみなした制御が行われる真空調理器。 - 前記調理槽の温度を検出する第2温度センサをさらに備え、
前記制御手段は、前記第2温度センサの検出結果に基づいて、前記第1温度センサの検出結果に基づくヒータ制御を補正することを特徴とする、請求項1に記載の真空調理器。 - 前記制御手段は、前記第2温度センサの検出結果に基づいて前記ヒータによる加熱を抑制することを特徴とする、請求項2に記載の真空調理器。
- 食材を収容するとともに密閉可能な調理槽と、
前記調理槽内を大気圧未満の圧力に減圧する減圧手段と、
前記調理槽に収容された食材の温度を検出する非接触型の第1温度センサと、
前記調理槽の温度を検出する第2温度センサと、
前記減圧手段により内部が減圧された前記調理槽を加熱するヒータと、
前記ヒータを制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、設定された目標調理温度に到達した時点での前記第2温度センサの検出値と前記第1温度センサの検出値の差に基づいて、設定された目標調理時間を補正することにより前記第1温度センサの検出結果に基づくヒータ制御を補正する真空調理器。 - 食材を収容するとともに密閉可能な調理槽と、
前記調理槽内を大気圧未満の圧力に減圧する減圧手段と、
前記調理槽に収容された食材の温度を検出する非接触型の第1温度センサと、
前記調理槽の温度を検出する第2温度センサと、
前記減圧手段により内部が減圧された前記調理槽を加熱するヒータと、
前記ヒータを制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、前記第2温度センサの検出値が、設定された目標調理温度に到達した時点での前記第2温度センサの検出値と前記第1温度センサの検出値の差に基づいて、前記目標調理温度を補正することにより、前記第1温度センサの検出結果に基づくヒータ制御を補正する真空調理器。 - 前記調理槽内に蒸気を供給する蒸気供給手段をさらに備え、
前記蒸気供給手段は、前記減圧手段によって減圧された前記調理槽内に蒸気を供給することを特徴とする、請求項1乃至5いずれかに記載の真空調理器。 - 少なくとも、減圧によって前記調理槽内が到達すべき圧力である目標圧力、加熱によって食材の表面が到達すべき温度である目標調理温度、および前記目標調理温度を保つべき時間である目標調理時間の入力を受け付ける入力手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記調理槽内の圧力が前記目標圧力になった状態で、前記目標調理時間の間、食材の表面温度を前記目標調理温度に保つ制御を行うことを特徴とする、請求項1乃至6いずれかに記載の真空調理器。
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