JP6449511B1 - 光学フィルタ用光吸収性組成物及び光学フィルタ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
本発明に係る光吸収性組成物は、下記式(a)で表されるホスホン酸と銅イオンとによって形成され、当該光吸収性組成物において分散している光吸収剤と、光吸収剤を分散させるリン酸エステルと、硬化性樹脂と、を含有している。透明誘電体基板の一方の主面に当該光吸収性組成物を塗布して硬化させて、当該光吸収性組成物の硬化物である光吸収層及び前記透明誘電体基板のみを備えた積層体を形成したときに、積層体が所定の条件を満たす。
Description
キル基、又は炭素数1〜20のフッ素化アルキル基を示す。
TiO2)層とが交互に積層された誘電体多層膜が形成されている。このため、特許文献
1及び2に記載の技術によれば、近赤外線カットフィルタの製造のために真空蒸着装置等の装置が必要であり、製造工程が煩雑になりやすい。
を有する可能性がある。本明細書において、「透過率スペクトル」とは、光学フィルタ又はその光学フィルタを構成する基板及び機能膜(機能層)の一部若しくはそれらの組み合わせに入射する光の透過率(単位:%)を波長の順に並べたものを意味する。
下記式(a)で表されるホスホン酸と銅イオンとによって形成された光吸収剤と、
前記光吸収剤を分散させるリン酸エステルと、
アリール基を含むシリコーン樹脂である硬化性樹脂と、を含有している、
光吸収性組成物を提供する。
銅塩及び第一溶媒を含む溶液にリン酸エステルを加えてA液を調製することと、
下記式(a)で表されるホスホン酸と第二溶媒とを含むB液を調製することと、
前記A液と前記B液とを混合し、かつ、前記第一溶媒及び前記第二溶媒とは異なる種類の溶媒であるとともに前記第一溶媒の沸点及び前記第二溶媒の沸点より高い沸点を有する第三溶媒を添加してC液を調製することと、
前記第一溶媒の沸点及び前記第二溶媒の沸点より高く、かつ、前記第三溶媒の沸点より低い温度で前記C液を加熱して前記ホスホン酸と銅イオンとによって光吸収剤を生成することと、
前記C液の加熱後にアリール基を含むシリコーン樹脂である硬化性樹脂を添加することとと、を備えた、
光吸収性組成物の製造方法を提供する。
(i)積層体は、波長450nm〜600nmにおいて80%以上の平均分光透過率を有する。
(ii)積層体は、波長750nm〜900nmにおいて1%以下の分光透過率を有する。(iii)積層体は、波長350nm〜370nmの範囲において4%以下の平均分光透過
率を有する。
(iv)積層体は、波長600nm〜800nmにおいて波長の増加に伴い減少する分光透過率を有し、波長600nm〜800nmにおいて積層体の分光透過率が50%になる波長を赤外側カットオフ波長(IRカットオフ波長)と定義したときに、積層体に0°の入射角で入射する光に対する赤外側カットオフ波長が620nm〜680nmである。
(v)積層体は、波長350nm〜450nmにおいて波長の増加に伴い増加する分光透過率を有し、波長350nm〜450nmにおいて積層体の分光透過率が50%になる波長を紫外側カットオフ波長(UVカットオフ波長)と定義したときに、積層体に0°の入射角で入射する光に対する紫外側カットオフ波長が380nm〜420nmである。
(I)光学フィルタ1a〜1dは、波長450nm〜600nmにおいて80%以上の平均分光透過率を有する。
(II)光学フィルタ1a〜1dは、波長750nm〜900nmにおいて1%以下の分光透過率を有する。
(III)光学フィルタ1a〜1dは、波長350nm〜370nmの範囲において4%以
下の平均分光透過率を有する。
(IV)光学フィルタ1a〜1dは、波長600nm〜800nmにおいて波長の増加に伴い減少する分光透過率を有する。波長600nm〜800nmにおいて光学フィルタ1a〜1dの分光透過率が50%になる波長を赤外側カットオフ波長と定義したときに、光学フィルタ1a〜1dに0°の入射角で入射する光に対する赤外側カットオフ波長が620nm〜680nmである。
(V)光学フィルタ1a〜1dは、波長350nm〜450nmにおいて波長の増加に伴い増加する分光透過率を有する。波長350nm〜450nmにおいて光学フィルタ1a〜1dの分光透過率が50%になる波長を紫外側カットオフ波長と定義したときに、光学フィルタ1a〜1dに0°の入射角で入射する光に対する紫外側カットオフ波長が380nm〜420nmである。
すことにより、光学フィルタ1a〜1dは、370nm以下の紫外線を有利に遮蔽できる。その結果、光学フィルタ1a〜1dが撮像素子の前面に配置されている場合に、撮像素子の分光感度を人間の視感度に有利に近づけることができる。さらに、光学フィルタ1a〜1dが上記の(IV)及び(V)の条件を満たすことにより、赤外線領域及び紫外線領域の光が有利に遮蔽される。その結果、光学フィルタ1a〜1dが撮像素子の前面に配置されている場合に、撮像素子の分光感度を人間の視感度に有利に近づけることができる。
)及び(III)の条件に関し、積層体は、望ましくは、波長350nm〜370nmの範
囲において1%以下の平均分光透過率を有し、光学フィルタ1a〜1dは、望ましくは、波長350nm〜370nmの範囲において1%以下の平均分光透過率を有する。これにより、光学フィルタ1a〜1dが撮像素子の前面に配置されている場合に、撮像素子の分光感度を人間の視感度にさらに近づけることができる。
(vi)積層体に0°の入射角で入射する光に対する赤外側カットオフ波長と積層体に40°の入射角で入射する光に対する赤外側カットオフ波長との差が20nm以下であり、望ましくは10nm以下である。
(vii)積層体に0°の入射角で入射する光に対する紫外側カットオフ波長と積層体に4
0°の入射角で入射する光に対する紫外側カットオフ波長との差が20nm以下であり、望ましくは10nm以下である。
らに(VI)及び(VII)を満たす。
(VI)光学フィルタ1a〜1dに0°の入射角で入射する光に対する赤外側カットオフ波長と光学フィルタ1a〜1dに40°の入射角で入射する光に対する赤外側カットオフ波長との差が20nm以下であり、望ましくは10nm以下である。
(VII)光学フィルタ1a〜1dに0°の入射角で入射する光に対する紫外側カットオフ
波長と光学フィルタ1a〜1dに40°の入射角で入射する光に対する紫外側カットオフ波長との差が20nm以下であり、望ましくは10nm以下である。
フィルタ1a〜1dが撮像素子の前面に配置されている場合に、撮像素子の分光感度が撮像素子に入射する光の入射角によって変化しにくい。
に求められる赤外線吸収能を軽減できる。その結果、光吸収層10の厚みを薄くでき、又は、光吸収層10に含まれる光吸収剤の濃度を低減できる。赤外線カットガラスの透過率スペクトルにおける赤外側カットオフ波長は比較的長波長側に存在する傾向がある。このため、上記の光吸収性組成物を硬化させて赤外線カットガラスである透明誘電体基板20に光吸収層10を形成することにより、光学フィルタ1a〜1dの赤外側カットオフ波長が短波長側に存在しやすく、撮像素子の分光感度を人間の視感度に一致させやすい。
の官能基である。
の酢酸銅一水和物によって1モルの銅イオンが供給される。
ンと接する層がSiO2層である誘電体膜に対して高い付着力を発揮できることが期待さ
れる。
O2、及びMgF2などの無機材料又はフッ素樹脂などの有機材料である。赤外線反射膜30を透明誘電体基板に形成した積層体は、例えば、波長350nm〜800nmの光を透過させるとともに、波長850nm〜1200nmの光を反射する。赤外線反射膜30を備えたその積層体は、波長350nm〜800nmにおいて、例えば85%以上、望ましくは90%以上の分光透過率を有し、かつ、波長850nm〜1200nmにおいて、例えば1%以下、望ましくは0.5%以下の分光透過率を有する。これにより、光学フィルタ1bは、波長850nm〜1200nmの範囲の光又は波長900nm〜1200nmの範囲の光をさらに効果的に遮蔽できる。また、赤外線反射膜30を備えた積層体の分光透過率が上記の特性を有することにより、光の入射角の変化による赤外線反射膜30を備えた積層体の透過率スペクトルのシフトが光学フィルタ1bの透過率スペクトルに与える影響を抑制できる。なぜなら、光の入射角の変動に伴って赤外線反射膜の透過スペクトルに波長シフトが現れる領域に、式(a)で表されるホスホン酸と銅イオンとによって形成された光吸収剤が光吸収能を有するためである。
ゲル法のいずれかを用いることができる。
子2の分光感度が人間の視感度に近く、色再現性の高い良好な画像を得ることができる。撮像光学系100は、光学フィルタ1aに代えて、光学フィルタ1b、光学フィルタ1c、及び光学フィルタ1dのいずれかを備えていてもよい。
波長300nm〜1200nmの範囲の光を一部の実施例及び一部の比較例に係る光学フィルタに入射させたときの透過率スペクトルを、紫外線可視分光光度計(日本分光社製、製品名:V−670)を用いて測定した。この測定において、一部の実施例及び一部の比較例に係る光学フィルタに対する入射光の入射角を0°(度)に設定した。光学フィルタの光吸収層の厚みの違いによる透過率スペクトルの影響を排除するために、波長750nm〜900nmの範囲における透過率が、それぞれある所定の値になるように正規化した。具体的には、一部の実施例及び一部の比較例に係る光学フィルタについて実測された透過率スペクトルに100/92を乗じて界面における反射をキャンセルし、各波長における透過率を吸光度に換算したうえで正規化係数を乗じて調整した値に92/100をさらに乗算して、正規化した透過率スペクトルを算出した。ここで、正規化係数は、以下の2つの条件(1)及び(2)のそれぞれに従って定めた。
条件(1):実測された透過率スペクトルにおける波長750〜900nmの範囲における最大の透過率が1.0%になるように調整
条件(2)実測された透過率スペクトルにおける波長750〜900nmの範囲における最大の透過率が0.5%になるように調整。
波長300nm〜1200nmの範囲の光を一部の実施例及び一部の比較例に係る光学フィルタに0°及び40°の入射角で入射させたときの透過率スペクトルを、紫外線可視分光光度計(日本分光社製、製品名:V−670)を用いて測定し、上記の通り、正規化した。一部の実施例及び一部の比較例のそれぞれについて、0°の入射角における正規化された透過率スペクトルと40°の入射角における正規化された透過率スペクトルとを対比して透過率スペクトルの入射角依存性を評価した。
酢酸銅一水和物1.125gとテトラヒドロフラン(THF)60gとを混合して、3時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフA208F(第一工業製薬社製)を1.55g加えて30分間撹拌し、A液を得た。フェニルホスホン酸(日産化学工業社製)0.4277gにTHF10gを加えて30分間撹拌し、B−1液を得た。4‐ブロモフェニルホスホン酸(東京化成工業社
製)0.2747gにTHF10gを加えて30分間撹拌し、B−2液を得た。次に、A液を撹拌しながらA液にB−1液及びB−2液を加え、室温で1分間撹拌した。次に、この溶液にトルエン28gを加えた後、室温で1分間撹拌してC液を得た。このC液をフラスコに入れてオイルバス(東京理化器械社製、型式:OSB−2100)で加温しながら、ロータリーエバポレータ(東京理化器械社製、型式:N−1110SF)によって、18分間脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、105℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の溶液を取り出した。取り出した溶液に、シリコーン樹脂(信越化学工業社製、製品名:KR−300)を4.400g添加し、室温で30分間撹拌し、実施例1に係る光吸収性組成物を得た。各材料の添加量を表1に示す。実施例1に係る光吸収性組成物は高い透明性を有し、実施例1に係る光吸収性組成物において光吸収剤の微粒子が良好に分散していた。
学フィルタは撮像装置において撮像素子とともに用いるのに望ましい特性を有することが示唆された。
酢酸銅一水和物1.125gとTHF60gとを混合して3時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフA208F(第一工業製薬社製)を2.3382g加えて30分間撹拌し、A液を得た。また、フェニルホスホン酸(日産化学工業社製)0.5848gにTHF10gを加えて30分間撹拌し、B液を得た。次に、A液を撹拌しながらA液にB液加え、室温で1分間撹拌した。次に、この溶液にトルエン45gを加えた後、室温で1分間撹拌し、C液を得た。このC液をフラスコに入れてオイルバス(東京理化器械社製、型式:OSB−2100)で加温しながら、ロータリーエバポレータ(東京理化器械社製、型式:N−1110SF)によって、25分間脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、120℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の溶液を取り出した。取り出した溶液に、シリコーン樹脂(信越化学工業社製、製品名:KR−300)を4.400g添加し、室温で30分間撹拌し、実施例2に係る光吸収性組成物を得た。各材料の添加量を表1に示す。実施例2に係る光吸収性組成物において光吸収剤の微粒子が良好に分散していた。なお、プライサーフA208Fは、上記の式(c1)及び(c2)において、R21、R22、及びR3
が、それぞれ、同一種類の(CH2CH2O)nR4であり、R4は炭素数が8の1価の基で
ある、リン酸エステル化合物であった。
ける主要な値を表2に示す。表2に示す通り、光吸収層を備えた実施例2に係る光学フィルタにおいて、上記の条件(I)〜(V)が満たされていることが確認された。さらに、実施例2に係る光学フィルタに関する0°の入射角における正規化された透過率スペクトルと40°の入射角における正規化された透過率スペクトルとの対比の結果、実施例2に係る光学フィルタは、上記の条件(VI)及び(VII)を満たしていた。実施例2に係る光
学フィルタは撮像装置において撮像素子とともに用いるのに望ましい特性を有することが示唆された。
フェニルホスホン酸及びリン酸エステル化合物(プライサーフA208F)の添加量を表1の通り変更した以外は、実施例2と同様にして、実施例3〜15に係る光吸収性組成物を得た。リン酸エステル化合物としてプライサーフA208Fの代わりにNIKKOL
DDP−2(日光ケミカルズ社製)を用い、フェニルホスホン酸及びリン酸エステル化合物の添加量を表1の通りに調整した以外は、実施例2と同様にして、実施例16に係る光吸収性組成物を得た。NIKKOL DDP−2は、上記の式(c1)及び(c2)において、R21、R22、及びR3が、それぞれ、同一種類の(CH2CH2O)mR5であり、
m=2であり、R5は炭素数が12〜15の1価の基であるリン酸エステル化合物である
。リン酸エステル化合物としてプライサーフA208Fの代わりにNIKKOL DDP−6(日光ケミカルズ社製)を用い、フェニルホスホン酸及びリン酸エステル化合物の添加量を表1の通りに調整した以外は、実施例2と同様にして、実施例17に係る光吸収性組成物を得た。NIKKOL DDP−6は、上記の式(c1)及び(c2)において、R21、R22、及びR3が、それぞれ、同一種類の(CH2CH2O)mR5であり、m=6で
あり、R5は炭素数が12〜15の1価の基であるリン酸エステル化合物である。フェニ
ルホスホン酸及びリン酸エステル化合物の添加量を表1の通りに調整した以外は、実施例2と同様にして、実施例18に係る光吸収性組成物を得た。実施例3〜18に係る光吸収性組成物において光吸収剤の微粒子が良好に分散していた。
は撮像装置において撮像素子とともに用いるのに望ましい特性を有することが示唆された。
76mm×76mm×0.21mmの寸法を有するホウケイ酸ガラスでできた透明ガラス基板(SCHOTT社製、製品名:D263)の一方の主面に実施例1に係る光吸収性組成物を塗布した。未乾燥の塗膜を有する透明ガラス基板をオーブンに入れて、85℃で3時間、次に125℃で3時間、次に150℃で1時間、次に170℃で8時間の条件で塗膜に対して加熱処理を行い、塗膜を硬化させ、光吸収層を備えた実施例19に係る光学フィルタを得た。なお、実施例19に係る光学フィルタの光吸収層の厚みは、波長750nm〜900nmにおける光の透過率の最大値が0.4〜0.5%になるように調整された。このように、上記の条件(2)で正規化された、実施例1に係る光学フィルタの透過率スペクトルの結果を踏まえて、実施例19に係る光学フィルタの光吸収層の厚みを定めた。実施例2、6、13、15、及び17に係る光吸収性組成物を用いた以外は、実施例
19と同様にして、それぞれ実施例20、21、22、23、及び24に係る光学フィルタを得た。実施例19〜24に係る光学フィルタの透過率スペクトルを図7〜図12にそれぞれ示す。また、実施例19〜24に係る光学フィルタの透過率に関する主要な値及び光吸収層の厚みを表3に示す。なお、光吸収層の厚みは、デジタルマイクロメータにより測定した。実施例19〜24に係る光学フィルタは、条件(I)〜(V)を満足することが確認された。加えて、実施例19〜24によれば、条件(2)によって正規化された光学フィルタを再現できることが示唆された。実施例19〜24に係る光学フィルタは、撮像装置において撮像素子とともに用いるのに望ましい特性を有することが示唆された。
フェニルホスホン酸及びリン酸エステル化合物の添加量を表4に示す通りに変更した以外は、実施例2と同様にして比較例1及び2に係る組成物を得た。フェニルホスホン酸の代わりに4‐ブロモフェニルホスホン酸を用い、4‐ブロモフェニルホスホン酸及びリン酸エステル化合物の添加量を表4に示す通りに調整した以外は、実施例2と同様にして比較例3に係る組成物を得た。比較例1〜3に係る組成物の透明性が低く、比較例1〜3に係る組成物において、ホスホン酸銅の微粒子は分散しておらず、ホスホン酸銅の微粒子が凝集していた。比較例1〜3に係る組成物は、光吸収性組成物として利用することは相当に困難であり、比較例1〜3に係る組成物を用いて光学フィルタを作製することはできなかった。実施例1〜18に係る光吸収性組成物と比較例1〜3に係る組成物との対比より、式(a)で表されるホスホン酸と銅イオンとによって形成された光吸収剤を含む光吸収性組成物において、リン酸エステルの含有量に対するホスホン酸の含有量の比が質量基準で0.10〜0.48であり、かつ、銅イオンの含有量に対するホスホン酸の含有量の比が物質量(モル)基準で0.45〜0.80であると、光吸収剤の微粒子が良好に分散しやすいことが示唆された。
タの光吸収層における光吸収剤の含有量を増加させることが考えられる。この場合、光学フィルタの透過率スペクトルにおいて、IRカットオフ波長が短波長側にシフトしつつUVカットオフ波長が長波長側にシフトする可能性があり、上記の条件(IV)及び(V)を同時に満たすには有利であるように思われる。しかし、比較例4〜7に係る光学フィルタの光吸収層における光吸収剤の含有量を増加させると、可視光域の透過率が必然的に低下してしまい、上記の条件(I)〜(V)を同時に満たすことがかなり難しい。
Claims (7)
- 前記リン酸エステルは、オキシアルキル基を含んでいる、請求項1に記載の光吸収性組成物。
- 前記リン酸エステルの含有量に対する前記ホスホン酸の含有量の比は、質量基準で0.10〜0.48であり、かつ、前記銅イオンの含有量に対する前記ホスホン酸の含有量の比は、物質量基準で0.45〜0.80である、請求項1又は2に記載の光吸収性組成物。
- 波長450〜600nmにおいて90%以上の平均分光透過率を有する透明誘電体基板の一方の主面に当該光吸収性組成物を塗布して硬化させて、当該光吸収性組成物の硬化物である光吸収層及び前記透明誘電体基板のみを備え、かつ、波長750〜900nmにおける最大の分光透過率が1.0%以下である積層体を形成したときに、前記積層体が下記の(i)及び(ii)を満たす、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光吸収性組成物。
(i)前記積層体は、波長450nm〜600nmにおいて80%以上の平均分光透過率を有する。
(ii)前記積層体は、波長350nm〜370nmの範囲において4%以下の平均分光透過率を有する。 - 前記積層体は、波長600〜800nmにおいて波長の増加に伴い減少し、かつ、波長350〜450nmにおいて波長の増加に伴い増加する分光透過率を有し、
波長600〜800nmにおいて前記積層体の分光透過率が50%になる波長を赤外側カットオフ波長と定義したときに、前記積層体に0°の入射角で入射する光に対する前記赤外側カットオフ波長が620〜680nmであり、
波長350〜450nmにおいて前記積層体の分光透過率が50%になる波長を紫外側カットオフ波長と定義したときに、前記積層体に0°の入射角で入射する光に対する前記紫外側カットオフ波長が380nm〜420nmである、
請求項4に記載の光吸収性組成物。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載の光吸収性組成物の硬化物からなる光吸収層を備えた、光学フィルタ。
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KR102656316B1 (ko) * | 2019-03-26 | 2024-04-09 | 코니카 미놀타 가부시키가이샤 | 근적외선 흡수성 조성물, 근적외선 흡수성 막 및 고체 촬상 소자용 이미지 센서 |
US20220214481A1 (en) * | 2019-05-23 | 2022-07-07 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Light-absorbing composition, light-absorbing film, and optical filter |
JP7263165B2 (ja) * | 2019-07-16 | 2023-04-24 | 日本板硝子株式会社 | 光吸収性組成物、光吸収膜、及び光学フィルタ |
TWI717187B (zh) * | 2020-01-09 | 2021-01-21 | 白金科技股份有限公司 | 有機金屬錯合物分散液、使用其所製備而成的近紅外線吸收膜以及近紅外線截止濾光片 |
EP3885801A1 (en) * | 2020-03-25 | 2021-09-29 | Ams Ag | An interference filter, optical device and method of manufacturing an interference filter |
CN117255960A (zh) | 2021-05-14 | 2023-12-19 | 日本板硝子株式会社 | 光吸收性组合物、光吸收膜、光吸收膜的制造方法以及滤光器 |
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TW593187B (en) * | 1999-10-25 | 2004-06-21 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Method for preparing article covered with light absorption pattern film and article covered with light absorption pattern film |
JP4684393B2 (ja) | 2000-06-27 | 2011-05-18 | 株式会社クレハ | 光学材料 |
US7192897B2 (en) * | 2002-07-05 | 2007-03-20 | Hoya Corporation | Near-infrared light-absorbing glass, near-infrared light-absorbing element, near-infrared light-absorbing filter, and method of manufacturing near-infrared light-absorbing formed glass article, and copper-containing glass |
JP4513420B2 (ja) | 2004-05-26 | 2010-07-28 | Jsr株式会社 | 近赤外線カットフィルターおよびその製造方法 |
US20070099787A1 (en) * | 2005-04-22 | 2007-05-03 | Joseph Hayden | Aluminophosphate glass containing copper (II) oxide and uses thereof for light filtering |
JP5078386B2 (ja) * | 2006-05-08 | 2012-11-21 | 株式会社Adeka | 新規化合物、該化合物を用いた光学フィルター及び光学記録材料 |
KR100791931B1 (ko) | 2006-09-06 | 2008-01-04 | 에스케이케미칼주식회사 | 디이모늄염 및 이를 포함하는 근적외선 흡수필름 |
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KR101602005B1 (ko) * | 2009-03-30 | 2016-03-17 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 착색 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정 표시 소자 |
JP5611631B2 (ja) | 2010-03-25 | 2014-10-22 | 株式会社クレハ | 近赤外線吸収フィルターおよびその製造方法 |
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KR101878013B1 (ko) * | 2011-06-06 | 2018-08-09 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 광학 필터, 고체 촬상 소자, 촬상 장치용 렌즈 및 촬상 장치 |
CN102923950B (zh) * | 2011-08-11 | 2016-08-17 | Hoya株式会社 | 氟磷酸玻璃及其制造方法以及近红外光吸收过滤器 |
KR102059198B1 (ko) | 2012-03-22 | 2019-12-24 | 가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이 | 광 선택 투과 필터, 수지 시트 및 고체 촬상 소자 |
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KR20150080451A (ko) * | 2012-11-01 | 2015-07-09 | 가부시키가이샤 아데카 | 도료 및 근적외선 흡수 필터 |
WO2014069250A1 (ja) * | 2012-11-05 | 2014-05-08 | 株式会社ニコン・エシロール | 光学部品、光学部品の製造方法、及びゴースト光の定量方法 |
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