JP6442295B2 - マルチ荷電粒子ビーム像の回転角測定方法、マルチ荷電粒子ビーム像の回転角調整方法、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 - Google Patents
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Description
露光に用いることが可能なマルチ荷電粒子ビームのうち、マルチ荷電粒子ビームを構成するビーム数よりも少ない複数の代表ビームを用いて、マルチ荷電粒子ビーム描画装置のステージ上に配置されたマーク上を2次元走査する工程と、
2次元走査によって得られた信号に基づいて複数の代表ビームの2次元画像を作成する工程と、
2次元画像を用いて、マルチ荷電粒子ビーム像の回転角を取得する工程と、
を備えたことを特徴とする。
マルチ荷電粒子ビーム像の回転角を取得する工程は、内部工程として、
2次元画像を可変に回転させながら各回転角についての2次元領域のx方向の信号強度を加算したx方向加算プロファイルとy方向の信号強度を加算したy方向加算プロファイルとを作成する工程と、
回転角毎のx方向加算プロファイルの特徴値のうちの最大値を示す第1の回転角度とy方向加算プロファイルの特徴値のうちの最大値を示す第2の回転角度とを求める工程と、
を有すると好適である。
露光に用いることが可能なマルチ荷電粒子ビームのうち、マルチ荷電粒子ビームを構成するビーム数よりも少ない複数の代表ビームを用いて、マルチ荷電粒子ビーム描画装置のステージ上に配置されたマーク上を2次元走査する工程と、
2次元走査によって得られた信号に基づいて複数の代表ビームの2次元画像を作成する工程と、
2次元画像を用いて、マルチ荷電粒子ビーム像の回転角を取得する工程と、
測定された回転角を補正するように、マルチ荷電粒子ビームの各ビームを成形する成形アパーチャアレイ部材の配置角度を回転させる、若しくは、レンズを用いてマルチ荷電粒子ビーム像を回転させることにより、マルチ荷電粒子ビーム像の回転角を調整する工程と、
を備えたことを特徴とする。
試料を載置する、連続移動可能なステージと、
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
複数の開口部が形成され、複数の開口部全体が含まれる領域に荷電粒子ビームの照射を受け、複数の開口部を荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成する成形アパーチャアレイ部材と、
アパーチャ部材の複数の開口部を通過したマルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う複数のブランカーが配置されたブランキングアパーチャアレイ部と、
複数のブランカーによってビームOFFの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽する制限アパーチャ部材と、
試料面上でのマルチビーム像の回転角を演算する回転角演算部と、
マルチビーム像の回転角を許容値内になるように成形アパーチャアレイ部材を回転させる回転機構と、
を備えたことを特徴とする。
また、本発明の他の態様のマルチ荷電粒子ビーム描画装置は、
マークを配置するステージと、
露光に用いることが可能なマルチ荷電粒子ビームのうち、前記マルチ荷電粒子ビームを構成するビーム数よりも少ない複数の代表ビームを用いて、前記ステージ上に配置された前記マーク上を2次元走査するように前記複数の代表ビームを偏向移動させる偏向器と、
2次元走査によって得られた信号に基づいて前記複数の代表ビームの2次元画像を作成する画像作成部と、
前記2次元画像を可変に回転させながら各回転角についての2次元領域のx方向の信号強度を加算したx方向加算プロファイルとy方向の信号強度を加算したy方向加算プロファイルとを作成する加算プロファイル作成部と、
回転角毎のx方向加算プロファイルの特徴値のうちの最大値を示す第1の回転角度とy方向加算プロファイルの特徴値のうちの最大値を示す第2の回転角度とを求める回転角演算部と、
を備え、
前記複数の代表ビームは、m行n列(m,nは2以上の整数)のビームで構成されることを特徴とする。
図1は、実施の形態1における描画装置の構成を示す概念図である。図1において、描画装置100は、描画部150と制御部160を備えている。描画装置100は、マルチ荷電粒子ビーム描画装置の一例である。描画部150は、電子鏡筒102と描画室103を備えている。電子鏡筒102内には、電子銃201、照明レンズ202、成形アパーチャアレイ部材203、ブランキングアパーチャアレイ部204、制限アパーチャ部材206、対物レンズ207、偏向器208、検出器212、回転機構214、及び静電レンズ216が配置されている。描画室103内には、XYステージ105が配置される。XYステージ105上には、描画時には描画対象基板となる、レジストが塗布されたマスクブランクス等の試料101が配置される。試料101には、半導体装置を製造する際の露光用マスク、或いは、半導体装置が製造される半導体基板(シリコンウェハ)等が含まれる。XYステージ105上には、さらに、XYステージ105の位置測定用のミラー210が配置される。XYステージ105上には、さらに、マーク106が配置される。マーク106は、上面が試料面(レジスト表面)と同一高さに配置される。そのため、マーク106は、上面が試料面と同一高さに調整可能に配置されると好適である。照明レンズ202と対物レンズ207とによって縮小光学系が構成される。
図4は、実施の形態1におけるブランキングアパーチャアレイ部のメンブレン領域内の構成の一部を示す上面概念図である。なお、図3と図4において、制御電極24と対向電極26と制御回路41の位置関係は一致させて記載していない。ブランキングアパーチャアレイ部204は、図3に示すように、支持台33上にシリコン等からなる半導体基板31が配置される。基板31の中央部は、例えば裏面側から薄く削られ、薄い膜厚hのメンブレン領域30(第1の領域)に加工されている。メンブレン領域30を取り囲む周囲は、厚い膜厚Hの外周領域32(第2の領域)となる。メンブレン領域30の上面と外周領域32の上面とは、同じ高さ位置、或いは、実質的に高さ位置になるように形成される。基板31は、外周領域32の裏面で支持台33上に保持される。支持台33の中央部は開口しており、メンブレン領域30の位置は、支持台33の開口した領域に位置している。
21 代表ビーム
22 穴
23 代表ビーム群
24 制御電極
25 通過孔
26 対向電極
34 照射領域
41 制御回路
47 個別ブランキング機構
50 設定部
52 測定部
54 画像作成部
56 画像回転処理部
58 加算プロファイル作成部
60 判定部
62 回転処理部
64 フィッティング処理部
66 回転角演算部
68 判定部
70 調整部
72 描画制御部
74 データ処理部
100 描画装置
101 試料
102 電子鏡筒
103 描画室
105 XYステージ
106 マーク
110 制御計算機
112 メモリ
130 偏向制御回路
132 検出アンプ
139 ステージ位置検出器
140,142,144 記憶装置
150 描画部
160 制御部
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203 成形アパーチャアレイ部材
204 ブランキングアパーチャアレイ部
206 制限アパーチャ部材
207 対物レンズ
208 偏向器
210 ミラー
212 検出器
214 回転機構
216 静電レンズ
Claims (3)
- 露光に用いることが可能なマルチ荷電粒子ビームのうち、前記マルチ荷電粒子ビームを構成するビーム数よりも少ない複数の代表ビームを用いて、マルチ荷電粒子ビーム描画装置のステージ上に配置されたマーク上を2次元走査する工程と、
2次元走査によって得られた信号に基づいて前記複数の代表ビームの2次元画像を作成する工程と、
前記2次元画像を用いて、マルチ荷電粒子ビーム像の回転角を取得する工程と、
を備え、
前記複数の代表ビームは、m行n列(m,nは2以上の整数)のビームで構成され、
前記マルチ荷電粒子ビーム像の回転角を取得する工程は、内部工程として、
前記2次元画像を可変に回転させながら各回転角についての2次元領域のx方向の信号強度を加算したx方向加算プロファイルとy方向の信号強度を加算したy方向加算プロファイルとを作成する工程と、
回転角毎のx方向加算プロファイルの特徴値のうちの最大値を示す第1の回転角度とy方向加算プロファイルの特徴値のうちの最大値を示す第2の回転角度とを求める工程と、
を有することを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム像の回転角測定方法。 - 露光に用いることが可能なマルチ荷電粒子ビームのうち、前記マルチ荷電粒子ビームを構成するビーム数よりも少ない複数の代表ビームを用いて、マルチ荷電粒子ビーム描画装置のステージ上に配置されたマーク上を2次元走査する工程と、
2次元走査によって得られた信号に基づいて前記複数の代表ビームの2次元画像を作成する工程と、
前記2次元画像を用いて、マルチ荷電粒子ビーム像の回転角を取得する工程と、
測定された回転角を補正するように、前記マルチ荷電粒子ビームの各ビームを成形する成形アパーチャアレイ部材の配置角度を回転させる、若しくは、レンズを用いてマルチ荷電粒子ビーム像を回転させることにより、マルチ荷電粒子ビーム像の回転角を調整する工程と、
を備え、
x方向の回転角とy方向の回転角との間にずれが生じる場合には、x方向の回転角とy方向の回転角との間の角度に調整することを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム像の回転角調整方法。 - マークを配置するステージと、
露光に用いることが可能なマルチ荷電粒子ビームのうち、前記マルチ荷電粒子ビームを構成するビーム数よりも少ない複数の代表ビームを用いて、前記ステージ上に配置された前記マーク上を2次元走査するように前記複数の代表ビームを偏向移動させる偏向器と、
2次元走査によって得られた信号に基づいて前記複数の代表ビームの2次元画像を作成する画像作成部と、
前記2次元画像を可変に回転させながら各回転角についての2次元領域のx方向の信号強度を加算したx方向加算プロファイルとy方向の信号強度を加算したy方向加算プロファイルとを作成する加算プロファイル作成部と、
回転角毎のx方向加算プロファイルの特徴値のうちの最大値を示す第1の回転角度とy方向加算プロファイルの特徴値のうちの最大値を示す第2の回転角度とを求める回転角演算部と、
を備え、
前記複数の代表ビームは、m行n列(m,nは2以上の整数)のビームで構成されることを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
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