JP6439795B2 - ろう付け用Ni基アモルファス合金薄帯、それを用いたステンレス鋼製接合物 - Google Patents
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Description
また、7.00≦x+y≦10であることが好ましい。
また、Niの一部を、10.00質量%以下のMoと置換することができる。
また、Niの一部を、5.00質量%以下のCuと置換することができる。
また、Niの一部を、1.00質量%以下のV、NbおよびTaから選ばれた少なくとも1種の元素と置換することができる。
また、Niの一部を、25.00質量%以下のFeと置換することができる。なお、前記2.00質量%以下のMo、前記1.50質量%以下のCu、前記1.00質量%以下のV、NbおよびTaから選ばれた少なくとも1種の元素、および前記25.00質量%以下のFeのうち、2種または2種以上の元素を選んで、Niの一部と置換することができる。
また、液相線温度(TL)が900℃から1050℃の範囲にあることが好ましい。
まず、本発明の薄帯に含まれるNiを除く元素(添加元素)の主な有効性並びに有害性を表2に示す。なお、本発明において、「各添加元素の含有バランスが適正化された薄帯」とは、例えば、表2に示す「目的とする作用効果等」を得る観点で各添加元素の含有量を選択的に調整した結果、その目的とする作用効果等を得ることができた組成を有して成る薄帯を意図する。
本発明の薄帯(Ni基アモルファス合金薄帯)において特に適正に含むべき元素は、薄帯製造の容易性を高めて健全な薄帯を得るために重要なアモルファス形成能を有するBおよびPであり、これを元素の作用を助勢することができるSiである。ここで、Bはアモルファス形成能を有する著名な添加元素であるが、ステンレス鋼を用いて成る基材のろう付けにおいては基材の内部に拡散し、Cr硼化物を生成することによって基材が腐食しやすくなることが報告されている。つまり、Bは、アモルファス化の観点では有効であるがろう付けの観点では基材の耐食性を劣化させるという点で有害になるという相反的な作用をもたらす。本発明者らは、こうした相反的な作用を鑑みて、他の添加元素との含有バランスが重要であることを見出したのであり、以下、各添加元素について詳細に説明する。
具体的には、本発明においてB(ボロン、硼素)は、その含有量を質量%で表すzを0.005≦z≦0.20の範囲に設定する必要がある。zが0(零)すなわちBを全く含有しない場合は、アモルファス化が不十分になるため薄帯の脆化抑制が困難になる。一方、zが0.20を超えると、ろう付け後のステンレス鋼を用いて成る基材が腐食しやすくなるため好ましくない。また、Bを0.20質量%以下で含有させることにより、アモルファス形成能の確保とともに、ろう付け後の基材の耐食性にほとんど影響を与えないで、ろう材の濡れ拡がり性の向上によるろう付け接合の機械的強度の向上や、薄帯製造時の鋳造ノズルの閉塞抑制の作用効果を得ることができる。本発明においてより好ましくは、z≧0.01の範囲に設定してアモルファス形成能を確保し、z≦0.15の範囲に設定して基材の腐食を抑制することである。このようにBの含有量を適正にすることにより、薄帯の製造が容易化でき、他元素の含有バランスによっては例えば400MPa以上の引張強さが得られるなど、ろう付けの接合強度をより向上させることができる。
本発明においてP(リン)は、上述したBと同様にアモルファス形成能を有する添加元素であり、その含有量を質量%で表すxは4.00≦x≦8.00の範囲に設定する必要がある。また、Pは、本発明の薄帯の融点を低減する作用効果も得ることができる。xが4.00未満であると、アモルファス化の作用効果が低減するため好ましくない。また、xが4.00未満であると、液相線温度TLが上昇するため好ましくない。一方、xが8.00を超えると、薄帯の脆化が著しくなるため好ましくない。なお、液相線温度TLが高いろう材は、ろう付け温度を高く設定する必要があるため、ろう付け接合部やその近傍の基材(ステンレス鋼)の結晶粒が成長して機械的強度が低下するといった問題を引き起こす可能性がある。
本発明においてSi(珪素)は、BおよびPによるアモルファス化を助勢する作用効果を得るための添加元素であり、その含有量を質量%で表すyは1.00≦y≦7.00の範囲に設定する必要がある。また、Siは、本発明の薄帯がろう材として使用された際の濡れ拡がり性を向上する作用効果も得ることができる。yが1.00未満であると、アモルファス化を助勢する作用効果が低減するため好ましくない。また、yが1.00未満であると、溶融したろう材の濡れ拡がり性が不十分になってボイドが発生しやすくなり、そのボイドに起因してろう付け接合部の接合強度が低下するため好ましくない。一方、yが7.00を超えると、薄帯が脆化しやすくなるため好ましくない。
本発明においてPおよびSiは、上述したようにPx:4.00≦x≦8.00およびSiy:1.00≦y≦7.00を満たし、かつ、PおよびSiの総含有量を質量%で表すx+yは7.00≦x+y≦13.00の範囲に設定する必要がある。x+yが7.00未満であると、上述したアモルファス化する作用効果あるいはアモルファス化を助勢する作用効果が低減するため好ましくない。一方、x+yが13.00を超えると、薄帯の脆化抑制が難しくなるため好ましくない。x+yは、より好ましくは8.00≦x+y≦10.00の範囲に設定することである。
Crd:22.00≦d≦29.00
本発明においてCr(クロム)は、ろう付け接合部の耐食性を向上する作用効果を得るための添加元素であり、その含有量を質量%で表すdは22.00≦d≦29.00の範囲に設定する必要がある。dが22.00未満であると、耐食性が低減するため好ましくない。一方、dが29.00を超えると、薄帯が脆化しやすくなるため好ましくない。また、dが29.00を超えると、鋳造ノズルが閉塞しやすくなるため好ましくない。
本発明においてC(炭素)は、ろう付けの際に溶融したろう材の濡れ拡がり性を高めてろう付けの接合強度を向上する作用効果を得るための添加元素であり、その含有量を質量%で表すfは0.005≦f≦0.100の範囲に設定する必要がある。fが0.005未満であると、ろう材の濡れ拡がり性が不十分になってろう付けの接合強度を向上する作用効果が低減するため好ましくない。一方、fが0.100を超えると、ろう付け後の基材にCが拡散し、Bによる耐食性の劣化という有害な作用を助長する可能性があるため好ましくない。
本発明においてN(窒素)は、Cと同様にろう付け接合部のCrによる耐食性の向上を助勢する作用効果を得るための添加元素であり、その含有量を質量%で表すgは0.001≦g≦0.050の範囲に設定する必要がある。gが0.001未満であると、耐食性の向上を助勢する作用効果が低減するため好ましくない。一方、gが0.050を超えると、Cr窒化物の生成量が増加するためCrの欠乏領域(Cr欠乏層)が増加し、ろう付け接合部の耐食性が低減するため好ましくない。
本発明においてMo(モリブデン)は、10.00質量%以下であればNiの一部との置換が可能である。Moは、アモルファス形成能を向上する作用効果に加え、耐酸化性や耐熱性の向上にも寄与する元素である。より好ましいMoの置換量は2.00質量%以下であり、特に好ましいMoの置換量は0.50〜1.50質量%の範囲である。
また、本発明の薄帯は、Ni基アモルファス合金薄帯であるが、脆化などによって薄帯としての形態が損なわれない限り、組織の一部に結晶相が形成されていてもよい。
本発明の薄帯は、従来知られている単ロール法などの液体急冷法によって製造することができる。具体的には、組成式:Ni100−d−x−y−z−f−gCrdPxSiyBzCfNg(質量%で、22.00≦d≦29.00、4.00≦x≦8.00、1.00≦y≦7.00、0.005≦z≦0.20、0.005≦f≦0.100、0.001≦g≦0.050、7.00≦x+y≦13.00である)で表される組成を有して成る合金溶湯を1100℃以上の温度に保持し、鋳造ノズルから高速回転している銅合金製のロールの表面に噴出させる。このとき、上述した組成を有する合金溶湯は、鋳造ノズルの先端部に形成されたスリット状の開口部から噴出され、ロールの表面に接触し、瞬間的に急冷され、鋳造組織がアモルファス化した状態で凝固し、長尺のアモルファス合金薄帯に形成される。
まず、ろう材である本発明の薄帯(以下、「薄帯片」という。)と、オーステナイト系やフェライト系などのステンレス鋼を用いて成る2つの基材(以下、「第1基材」「第2基材」という。)を、それぞれ所望の寸法に加工して準備する。そして、第1基材と第2基材の間のろう付け予定箇所に薄帯片を挟持して第1基材、薄帯片、第2基材の3層構造(以下、「被熱処理品」という。)とし、その被熱処理品を熱処理炉内に配置する。
本発明の薄帯、それを用いたステンレス鋼製接合物について、以下の実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はそれらに限定されるものではない。
本発明の実施形態であるNi基アモルファス合金薄帯を単ロール装置を使用して作製した。具体的には、まず、所定の組成を有するように配合した原料を高周波溶解して母合金(マスター材)を作製し、その母合金を鋳造ノズルを下部に設けた坩堝内で溶解して合金溶湯を作製した。次いで、その合金溶湯をCu−Be系銅合金製の水冷ロ−ルの表面に噴出させて急冷して剥離し、表3に示す組成を有する幅20mm、厚さ20μmのNi基合金薄帯(以下、「薄帯A」という。)を作製した。なお、鋳造ノズルの先端とロ−ルの表面の間のギャップは80μmに設定した。
上述した薄帯Aは厚さ20μmであったが、実施例1で設定した諸条件の一部を変更し、薄帯Aと同じ幅(20mm)の表4に示す厚さ22μmのNi基合金薄帯(以下、「薄帯B」という。)をCu−Cr系合金製の水冷ロ−ルを使用して単ロール法によって作製した。鋳造ノズルの先端とロ−ルの表面の間のギャップは100μmに設定した。
上述した実施例1において作製した本発明の薄帯(No.1〜15)、比較用の薄帯(No.16〜19)、参考用の粉末(No.20)を用いて、フェライト系ステンレス鋼(SUS430)を用いて成る基材のろう付け接合を、真空中で、ろう付け温度を1080℃に設定して行った。次いで、ろう付け接合して作製したステンレス鋼製接合物(以下、「接合物」という。)を機械加工し、引張り強さを評価するための引張り試験片を作製し、接合強度評価を行った。引張り試験片は、長手方向の中央に円形のろう付け接合面を有するJIS−Z3192(ろう付継手の引張及びせん断試験方法)で規定されている2号B試験片を参照して作製した。同様に、接合物から耐食性を評価するための耐食試験片を作製し、腐食試験を行った。耐食試験は、耐食試験片を60℃の50%硫酸中に6時間浸漬した後に、耐食試験片中の基材の粒界の腐食の有無を観察した。
本発明の薄帯を用いてろう付け接合した接合物(No.1〜15)は、293MPa(No.5)〜448MPa(No.1)の範囲であり、比較用の薄帯を用いた接合物(No.16〜19)は288MPa(No.19)〜411MPa(No.17)の範囲であった。また、参考用の粉末を用いた接合物(No.20)は245MPaであり、本発明の薄帯よりも50MPa程度低くなった。よって、本発明によれば、比較用の薄帯を用いた場合よりも高いろう付け接合強度が要求される用途であっても、組成を選定することによって本発明の薄帯が適用できることが確認できた。また、本発明の薄帯を用いることにより、参考用の粉末を用いた場合よりも高いろう付け接合強度が得られることが確認できた。
本発明の薄帯を用いてろう付け接合した接合物(No.1〜15)は、いずれも良好な耐食性を有していることが確認できた。一方、比較用の薄帯を用いてろう付け接合した接合物(No.16〜19)は、良好な耐食性を有するもの(No.16)も確認できたが、一部に腐食が見られ耐食性がやや低いもの(No.19)や、明らかに腐食しており耐食性が低いもの(No.17、18)が確認された。
以上より、本発明の薄帯を用いることにより、フェライト系などのステンレス鋼を用いて成る基材のろう付け接合において、良好なろう付け接合強度および耐食性を有するステンレス鋼製接合物が得られることが確認できた。
Claims (9)
- 組成式:Ni100−d−x−y−z−f−gCrdPxSiyBzCfNg(質量%で、22.00≦d≦29.00、4.00≦x≦8.00、1.00≦y≦7.00、0.005≦z≦0.20、0.005≦f≦0.100、0.001≦g≦0.050、7.00≦x+y≦13.00である)で表される組成を有して成ることを特徴とするろう付け用Ni基アモルファス合金薄帯。
- 0.01≦z≦0.15であることを特徴とする請求項1に記載のろう付け用Ni基アモルファス合金薄帯。
- 7.00≦x+y≦10.00であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のろう付け用Ni基アモルファス合金薄帯。
- Niの一部が、10.00質量%以下のMoと置換されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか1項に記載のろう付け用Ni基アモルファス合金薄帯。
- Niの一部が、5.00質量%以下のCuと置換されていることを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れか1項に記載のろう付け用Ni基アモルファス合金薄帯。
- Niの一部が、1.00質量%以下のV、NbおよびTaから選ばれた少なくとも1種の元素と置換されていることを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか1項に記載のろう付け用Ni基アモルファス合金薄帯。
- Niの一部が、25.00質量%以下のFeと置換されていることを特徴とする請求項1乃至請求項6の何れか1項に記載のろう付け用Ni基アモルファス合金薄帯。
- 液相線温度TLが900℃から1050℃の範囲にあることを特徴とする請求項1乃至請求項7の何れか1項に記載のろう付け用Ni基アモルファス合金薄帯。
- 請求項1乃至請求項8の何れか1項に記載のろう付け用Ni基アモルファス合金薄帯を用いてろう付け接合されて成ることを特徴とするステンレス鋼製接合物。
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