JP6436476B2 - 5層磁気トンネル接合素子及び磁気メモリ装置 - Google Patents
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Description
P=(D↑(EF)−D↓(EF))/(D↑(EF)+D↓(EF))
で与えられる。これに対し、ハーフメタル強磁性体(HMF)層たとえばCo2MnSi等よりなるフルホイスラー合金層においては、図1の(B)に示すように、アップスピンは金属的バンド構造を有するが、ダウンスピンはフェルミレベルEF近傍でエネルギーギャップが存在する半導体的バンド構造を有する。この結果、スピン分極率Pは、
P=D↑(EF)/D↑(EF)
=1
で与えられ、理論的に100%となる。
また、本発明は5層MTJ素子を含むMRAM装置における誤書込みを防止することも目的とする。
VB=VSL−VWL2
但し、VSLはセンス線SLの電位
VWL2はワード線WL2の電位
が絶縁層4に印加される。このバイアス電圧VBを用いてハーフメタル強磁性体層3のスピン分極率を変調する。
AP−状態(図3):磁化方向M1が下向き状態(MTJのM1、M3が反平行状態)かつ絶縁層4が0を含む負バイアス状態(VB≦0)である。
P−状態(図4):磁化方向M1が上向き状態(MTJのM1、M3が平行状態)かつ絶縁層4が0を含む負バイアス状態(VB≦0)である。
AP+状態(図5):磁化方向M1が下向き状態(MTJのM1、M3が反平行状態)かつ絶縁層4が正バイアス状態(VB>0)である。
P+状態(図6):磁化方向M1が上向き状態(MTJのM1、M3が平行状態)かつ絶縁層4が正バイアス状態(VB>0)である。
2:トンネル障壁層
3:ハーフメタル強磁性体層
4:絶縁層
5:導電層
S1:3層MTJ構造
S2:3層構造
S3:5層MTJ素子
BL:ビット線
SL:センス線
WL1、WL2:ワード線
SW:スイッチング素子
Claims (3)
- 金属強磁性体層と、
前記金属強磁性体層の下に設けられたトンネル障壁層と、
前記トンネル障壁層の下に設けられたハーフメタル強磁性体層と、
前記ハーフメタル強磁性体層の下に設けられた絶縁層と、
前記絶縁層の下に設けられた導電層と
を具備し、
前記絶縁層中の電界によって前記ハーフメタル強磁性体層のスピン分極率を変調する5層磁気トンネル接合素子。 - 請求項1に記載の5層磁気トンネル接合素子と、
前記金属強磁性体層の前記トンネル障壁層との反対側に接続されたビット線と、
センス線と、
第1のワード線と、
前記導電層の前記絶縁層との反対側に接続された第2のワード線と、
前記センス線と前記ハーフメタル強磁性体層との間に接続され、前記第1のワード線の電位によって制御されるスイッチング素子と
を具備する磁気メモリ装置。 - 書込み時に、前記第1のワード線の電位によって前記スイッチング素子をオンにし、前記第2のワード線と前記センス線との差電圧を第1の値とし、
読出し時に、前記第1のワード線の電位によって前記スイッチング素子をオンにし、前記第2のワード線と前記センス線との差電圧を前記第1の値より大きい正の第2の値とする請求項2に記載の磁気メモリ装置。
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