JP6428033B2

JP6428033B2 - 積層体

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Publication number: JP6428033B2
Application number: JP2014161177A
Authority: JP
Inventors: 勝間　勝彦; 勝彦勝間; 崇吉岡
Original assignee: Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Current assignee: Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Priority date: 2014-08-07
Filing date: 2014-08-07
Publication date: 2018-11-28
Anticipated expiration: 2034-08-07
Also published as: JP2016036965A

Description

本発明は、積層体、更に詳しくは、透磁性の高い積層体、具体的には電磁波の透過を抑制することのできる磁性シート等に用いられる積層体に関するものである。

近年、各種電子機器等において、機器内部にて発生する電磁波の透過を抑制するために、電磁波を吸収することにより電磁波の透過を抑制することのできる電磁波抑制シート、いわゆる磁性シートが使用されている。

このような磁性シートとしては、より高品質なものを高生産にて製造することが求められており、例えば、少なくとも扁平な軟磁性粉末と溶媒に溶解した高分子結合剤とを混合して作製された磁性塗料を所定の基材上に塗布した後に乾燥させ、磁性シートを形成した後、乾燥して形成した上記磁性シートの上にさらに上記磁性塗料を塗布して乾燥させることにより磁性シートを製造する方法が提案されている（特許文献１参照）。

特開２００８−６０３９５号公報

通常、その使用用途から磁性シート自体にはタックがないことが要求されるが、特許文献１に開示の磁性シートでは、磁性粉末を含有する磁性シート単独でフィルム状に形成することから、タックの生起を回避するために、タック要因となる非晶性ポリエステル樹脂に対して架橋剤を用いることによりタックのないシートとしている。このように、特許文献１では、上記架橋剤が必須であり、結果、養生時間を必要とするため生産性が低下するという問題があった。このようなことから、いわゆる磁性シートとして、透磁性が高いことはもちろん、タックのないものが要望されており、しかも電気絶縁性に関しても優れたものが求められている。

そこで、本発明はこのような背景下において、電磁波の透過を効果的に抑制することが可能となるうえに、それを用いた部位に対して電気絶縁性を発揮することのできる積層体を提供することを目的とするものである。

しかるに、本発明者らはこのような事情に鑑み鋭意研究を重ねた結果、電磁波の透過抑制作用を奏する磁性体層として、磁性粉末とともに、結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）および非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）を含有する特殊なバインダー樹脂を用いて磁性体層を形成するとともに、この磁性体層単独ではなく高分子化合物製フィルムを積層してなる積層体構造をとると、上記磁性体層としては透磁率の高いものが得られ、また上記高分子化合物製フィルムの積層により、高い絶縁性が付与されるとともに磁性体層の脱落等が抑制され、結果、高品質の磁性シートとなりうる積層体が得られることを見出し、本発明に到達したのである。

すなわち、本発明は、磁性粉末およびバインダー樹脂を含有する形成材料からなる磁性体層、および、高分子化合物製フィルム層の積層構造を有する積層体であって、上記バインダー樹脂が、結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）および非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）を含有する積層体を要旨とするものである。

本発明の積層体は、上記構成を有するため、透磁率の高いものとなり、また高分子化合物製フィルムが積層されていることにより、高い電気絶縁性を備えるようになる。さらに、高分子化合物製フィルムに磁性体層が積層されていることから、磁性体層の脱落が抑制されるため、高品質の磁性シートを形成するための積層体となる。

結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）および非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）の含有割合が、重量比で、（Ａ）／（Ｂ）＝９５／５〜４０／６０であると、高分子化合物製フィルムに対する接着性および磁性体層の耐ブロッキング性がより一層向上する。

磁性体層の厚み（ｘ）と高分子化合物製フィルムの厚み（ｙ）の比（ｘ：ｙ）が、ｘ：ｙ＝０．１〜１００：１であると、透磁率とフィルム強度を両立することができるという効果を奏する。

磁性粉末とバインダー樹脂の含有割合が、重量比で、磁性粉末：バインダー樹脂＝１：１〜１０：１であると、より一層高い透磁率を奏するようになる。

本発明の積層体の構成を模式的に示す断面図である。

つぎに、本発明の実施の形態について詳しく説明する。ただし、本発明は、この実施の形態に限られるものではない。

本発明の積層体は、磁性粉末およびバインダー樹脂を含有する形成材料からなる磁性体層、および、高分子化合物製フィルム層が積層されてなる積層構造を備えるものである。そして、本発明においては、磁性体層形成材料として、結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）および非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）を含有する特殊なバインダー樹脂を用いることを特徴とする。本発明の積層体は、例えば、図１に示すように、高分子化合物製フィルム層１面上に、磁性粉末３およびバインダー樹脂４を用いた形成材料からなる磁性体層２が積層形成された積層構造をとる。上記磁性粉末３は、磁性体層２の厚み方向に対して略垂直となるように磁性体層２に分散分布している。このような磁性粉末３の分布により、積層体の厚み方向に対して電磁波の透過を効果的に抑制することが可能となるのである。

本発明の積層体における磁性体層２の形成材料は、磁性粉末３、バインダー樹脂４を用いて得られる。

〈磁性粉末３〉
上記磁性粉末３としては、鉄系粉末や、各種の軟磁性合金等の軟磁性粉末を用いることができ、例えば、磁性ステンレス（Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ−Ｓｉ合金）、センダスト（Ｆｅ−Ｓｉ−Ａ１合金）、パーマロイ（Ｆｅ−Ｎｉ合金）、ケイ素銅（Ｆｅ−Ｃｕ−Ｓｉ合金）、Ｆｅ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ｓｉ―Ｂ（−Ｃｕ−Ｎｂ）合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｎｉ−Ｃｒ合金、フェライト等があげられる。これらは単独でもしくは二種以上併せて用いられる。これらの中でも、磁気特性の点からＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金を好ましく使用できる。

上記磁性粉末３としては、その用途から扁平な形状を示す磁性粉末３が用いられるが、好ましくは平均粒子径が３．５〜２００μｍ、平均厚さが０．３〜１０μｍ、より好ましくは平均粒子径が１０〜１００μｍ、平均厚さが０．５〜５μｍである。上記平均粒子径および平均厚さは、例えば、母集団から任意の測定試料を取り出し、市販のレーザー回折散乱式粒度分布測定装置を用いて測定することができる。

そして、上記磁性粉末３としては、その扁平率は３〜２４であることが好ましく、より好ましくは１０〜２２である。なお、扁平状の磁性粉末３の大きさを揃えるためには、必要に応じて、ふるい等を使用して分級すればよい。また、磁性粉末３の透磁率を大きくするためには、扁平状の磁性粉末３の粒子サイズを大きくして粒子同士の間隔をより小さくし、かつ扁平状の磁性粉末３のアスペクト比を高めて磁性体層２における反磁場の影響を小さくすることが有効である。

〈バインダー樹脂４〉
上記バインダー樹脂４は、結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）および非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）を用いて得られる。なお、上記結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）における結晶性とは、示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用いて、窒素雰囲気下で昇温速度１０℃／分で測定したときに、融点と結晶化融解熱が測定できる特性を備えることをいい、結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）とはその特性を備えたポリエステル樹脂である。また、上記非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）における非晶性とは、上記と同様の測定において、融点と結晶化融解熱が測定されない特性を備えることをいい、非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）とはその特性を備えたポリエステル樹脂である。

上記結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）は、結晶性を有するポリエステル樹脂であればよいが、中でも、ジカルボン酸成分としてテレフタル酸、イソフタル酸および脂肪族ジカルボン酸を含有し、ジオール成分として１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオールおよびシクロヘキサンジメタノールを含有し、これらを重合して得られるポリエステル樹脂であることが、例えば、高分子化合物製フィルムに対する接着性と有機溶剤に対する溶液安定性に優れる点で好ましい。

上記脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、ドデカンジカルボン酸等の炭素数２〜１２の脂肪族ジカルボン酸があげられ、中でもアジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等の炭素数６〜１２の脂肪族ジカルボン酸が好適に用いられる。

上記ジカルボン酸成分中のテレフタル酸、イソフタル酸および脂肪族ジカルボン酸の含有割合としては、テレフタル酸が４０〜９０モル％、イソフタル酸が５〜５５モル％、脂肪族ジカルボン酸が５〜５５モル％であることが好ましく、特にはテレフタル酸が４５〜８５モル％、イソフタル酸が５〜４０モル％、脂肪族ジカルボン酸が１０〜５０モル％であることが好ましく、更にはテレフタル酸が５０〜８０モル％、イソフタル酸が５〜３０モル％、脂肪族ジカルボン酸が１０〜４５モル％であることが好ましい。

上記テレフタル酸の含有量が少なすぎると耐熱性が低下する傾向があり、多すぎると塗工液としたときの溶液安定性が低下する傾向がある。また、上記イソフタル酸の含有量が少なすぎると溶液安定性が低下する傾向があり、多すぎると耐熱性が低下する傾向がある。そして、上記脂肪族ジカルボン酸が少なすぎると溶液安定性が低下する傾向があり、多すぎると耐熱性が低下する傾向がある。

上記ジオール成分中の１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノールの含有割合としては、１，４−ブタンジオールが１０〜８０モル％、１，６−ヘキサンジオールが１０〜８０モル％、シクロヘキサンジメタノールが１０〜８０モル％であることが好ましく、特には１，４−ブタンジオールが１０〜６０モル％、１，６−ヘキサンジオールが１０〜６０モル％、シクロヘキサンジメタノールが１０〜６０モル％であることが好ましく、更には１，４−ブタンジオールが１５〜５０モル％、１，６−ヘキサンジオールが１５〜５０モル％、シクロヘキサンジメタノールが１５〜５０モル％であることが好ましい。

上記１，４−ブタンジオールの含有量が少なすぎると高分子化合物製フィルムとポリエステル系樹脂（バインダー樹脂）層との接着性が低下する傾向があり、多すぎると塗工液としたときの溶液安定性が低下する傾向がある。また、上記１，６−ヘキサンジオールの含有量が少なすぎると溶液安定性が低下する傾向があり、多すぎると接着性が低下する傾向がある。そして、上記シクロヘキサンジメタノールの含有量が少なすぎると溶液安定性が低下する傾向があり、多すぎると接着性が低下する傾向がある。

また、結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）には、上記した主成分以外のカルボン酸成分、例えば、（無水）フタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ジフェン酸等の芳香族ジカルボン酸およびこれらのアルキルエステル誘導体、（無水）トリメリット酸、（無水）ピロメリット酸等の芳香族多価カルボン酸およびこれらのアルキルエステル誘導体、シクロブタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸およびこれらのアルキルエステル誘導体等のカルボン酸成分や、上記以外のアルコール成分、例えば、ネオペンチルグリコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５− ペンタンジオール、ポリテトラメチレングリコール等の脂肪族グリコール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＳのエチレンオキサイド付加物等の芳香族グリコール、１，４−シクロヘキサンジエタノール、スピログリコール等の脂環族グリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールや、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ｐ−ヒドロキシ安息香酸等のアルコール成分を、本発明の特性を損なわない範囲で共重合してもよい。

また、上記結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）については、先に述べたように、示差走査熱量計（ＤＳＣ）にて融点と結晶化融解熱が測定され、融点は８０〜１６０℃であることが好ましく、特には９０〜１５５℃、更には１００〜１５０℃であることが好ましい。融点が低すぎると耐熱性が低下する傾向があり、高すぎると塗工液としたときの溶液安定性が低下する傾向がある。

また、結晶化融解熱は５〜３０Ｊ／ｇであることが好ましく、特には５〜２５Ｊ／ｇ、更には５〜２０Ｊ／ｇであることが好ましい。結晶化融解熱が低すぎると、例えば積層体を形成しロール状にて保管する場合にブロッキングする傾向があり、高すぎると高分子化合物製フィルムに対する接着性と、磁性体層２形成材料として塗工液とした際の溶液安定性が低下する傾向がある。

また、結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）の数平均分子量は１００００〜３００００（末端基法による測定）が好ましく、特には１３０００〜２８０００、更には１５０００〜２５０００であることが好ましい。数平均分子量が小さすぎると凝集力が低下し接着性が低下する傾向があり、大きすぎると塗工液としたときの溶液安定性が低下したり、塗工時の作業性が低下したりする傾向がある。

上記数平均分子量は、具体的には、標準ポリスチレン分子量換算による数平均分子量であり、高速液体クロマトグラフィー（日本Ｗａｔｅｒｓ社製、「Ｗａｔｅｒｓ２６９５（本体）」と「Ｗａｔｅｒｓ２４１４（検出器）」）に、カラム：ＳｈｏｄｅｘＧＰＣＫＦ−８０６Ｌ（排除限界分子量：２×１０⁷、分離範囲：１００〜２×１０⁷、理論段数：１０，０００段／本、充填剤材質：スチレン−ジビニルベンゼン重合体、充填剤粒径：１０μｍ）の３本直列を用いることにより測定される。

上記結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）のガラス転移温度については−２０〜４０℃（Ｆｏｘ式により算出）が好ましく、特には−１５〜３５℃、更には−１０〜３０℃であることが好ましい。ガラス転移温度が低すぎると、例えば積層体を形成しロール状にて保管する場合にブロッキングする傾向があり、高すぎると高分子化合物製フィルムに対する接着性が低下する傾向がある。

上記結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）とともに用いられる非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）は、先に述べたように、示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用いた前述の測定において、融点と結晶化融解熱が測定されない樹脂であればよいが、中でも、ジカルボン酸成分としてテレフタル酸および／またはイソフタル酸を含有し、ジオール成分として側鎖にアルキル基を持つジオールを含有し、これらを重合して得られるポリエステル樹脂であることが、例えば、積層体をロール状にて保管する場合の耐ブロッキング性に優れ、更に磁性体層２形成材料としての塗工液とする際の有機溶剤への溶液安定性に優れる点で好ましい。

上記側鎖にアルキル基を持つジオールとしては、例えば、ネオペンチルグリコール、１，２−プロピレングリコール、ビスフェノールＡエチレンオキサイド付加物、２−メチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、２，４−ジエチル−１，５−ペンタンジオール、１，３，５−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−メチル−１，６−ヘキサンジオール等があげられ、これらを単独でまたは二種以上併せて用いることができる。これらの中でも、有機溶剤への溶液安定性に優れる点から、ネオペンチルグリコール、ビスフェノールＡエチレンオキサイド付加物等が好ましい。

上記ジカルボン酸成分中のテレフタル酸および／またはイソフタル酸の含有割合としては、８０〜１００モル％が好ましく、特には８５〜１００モル％が好ましい。上記含有割合が少なすぎると耐ブロッキング性が低下する傾向がある。また、テレフタル酸とイソフタル酸の使用については各々単独使用でもよいが、塗工液としたときの溶液安定性の点から併用することが好ましい。上記テレフタル酸とイソフタル酸を併用する場合には、モル比で、テレフタル酸：イソフタル酸＝２０：８０〜７０：３０、特には３０：７０〜６０：４０、更には４０：６０〜６０：４０とすることが好ましい。

上記ジオール成分中の側鎖にアルキル基を持つジオールの含有割合としては、３０〜９０モル％、特には４０〜８０モル％が好ましい。かかる含有割合が少なすぎると塗工液としたときの溶液安定性が低下する傾向があり、多すぎると高分子化合物製フィルムに対する接着性が低下する傾向がある。

また、非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）には、主成分のテレフタル酸および／またはイソフタル酸以外のカルボン酸成分、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、ドデカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸、（無水）フタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ジフェン酸等の芳香族ジカルボン酸およびこれらのアルキルエステル誘導体、（無水）トリメリット酸、（無水）ピロメリット酸等の芳香族多価カルボン酸およびこれらのアルキルエステル誘導体、シクロブタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸およびこれらのアルキルエステル誘導体等のカルボン酸成分や、上記以外のアルコール成分、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ポリテトラメチレングリコール等の脂肪族グリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジエタノール、スピログリコール等の脂環族グリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールや、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ｐ−ヒドロキシ安息香酸等のアルコール成分を本発明の特性を損なわない範囲で共重合してもよい。

上記非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）については、数平均分子量は３０００〜１５０００（末端基法による測定）が好ましく、特には４０００〜１２０００、更には５０００〜１００００であることが好ましい。数平均分子量が小さすぎると凝集力が低下し高分子化合物製フィルムに対する接着性が低下する傾向があり、大きすぎると、やはり高分子化合物製フィルムに対する接着が不充分となる傾向がある。上記数平均分子量は、前述の方法にて測定される。

上記非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）のガラス転移温度については４０℃以上（Ｆｏｘ式により算出）であることが好ましく、特には４５〜１００℃、更には５０〜９０℃であることが好ましい。ガラス転移温度が低すぎると、例えば積層体を形成しロール状にて保管する場合にブロッキングする傾向がある。

本発明におけるバインダー樹脂として用いられる上記結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）および非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）は、基本的には同様の方法により製造することができ、上記カルボン酸成分とアルコール成分を触媒存在下、公知の方法により重縮合反応させることにより得られる。

上記重縮合反応に際しては、まずエステル化反応が行われた後、縮合反応が行われる。上記エステル化反応においては、触媒が用いられ、具体的には、酸化リチウム、リチウムメチラート、リチウムエチラート、リチウムグリコレート、酢酸リチウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、ナトリウムグリコレート、ギ酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のアルカリ金属化合物、酸化亜鉛、ギ酸亜鉛、酢酸亜鉛、プロピオン酸亜鉛、ホウ酸亜鉛、亜鉛グリコレート、安息香酸亜鉛、カプロン酸亜鉛、酪酸亜鉛、吉草酸亜鉛、亜アンチモン酸亜鉛、亜ゲルマン酸亜鉛、ゲルマン酸亜鉛等の亜鉛化合物、酢酸マンガン、クエン酸マンガン、ホウ酸マンガン、マンガングリコレート、亜アンチモン酸マンガン等のマンガン化合物、ギ酸コバルト、塩化コバルト、酢酸コバルト、プロピオン酸コバルト、ヒドロキシ安息香酸コバルト等のコバルト化合物、安息香酸カルシウム、酢酸カルシウム、マロン酸カルシウム、アジピン酸カルシウム、酢酸ストリンチウム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム等のアルカリ土類金属化合物、テトラブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート、シュウ酸チタニルアンモニウム、シュウ酸チタニルカリウム、シュウ酸チタニルストロンチウム、酒石酸チタニルカリウム、酒石酸チタニルアンモニウム、チタングリコレート、チタンアセチルアセテート等のチタン化合物、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、アンチモングリコレート、アンチモンアルコラート、酢酸アンチモン、アンチモンフェノレート等のアンチモン化合物、ゲルマニウムアルコレート、ゲルマニウムフェノレート、ゲルマン酸カリウム、ゲルマン酸ナトリウム、ゲルマン酸カルシウム、ゲルマン酸カリウム、ゲルマン酸タリウム、二酸化ゲルマニウム等のゲルマニウム化合物、ジメチルスズマレエート、ジブチルスズオキサイド、ヒドロキシブチルスズオキサイド、モノブチルスズトリス（２−エチルヘキサノエート）等のスズ化合物等があげられる。これらは単独でもしくは二種以上併せて用いられる。これらの中でも、触媒の活性が高い点から、アンチモン化合物、チタン化合物、さらに三酸化アンチモン、チタン化合物、特にはテトラブチルチタネートが好ましい。

上記触媒の配合量は、全共重合成分に対して１〜１００００ｐｐｍであることが好ましく、１０〜５０００ｐｐｍであることがより好ましく、１００〜３０００ｐｐｍであることがさらに好ましい。配合量が少なすぎると重合反応が充分に進行しない傾向があり、逆に多すぎると反応時間短縮等の利点はなくなり副反応が起こりやすくなる傾向がある。

上記エステル化反応時の温度については、１６０〜２６０℃が好ましく、１８０〜２５０℃がより好ましく、２００〜２５０℃がさらに好ましい。温度が低すぎると反応が充分に進まない傾向があり、逆に高すぎると分解等の副反応が起こる傾向がある。また、上記反応は、通常、常圧下で実施される。

そして、エステル化反応が行われた後、縮合反応が行われるが、このときの条件としては、上記のエステル化反応のときと同様の触媒を同程度の量さらに添加して、反応温度としては好ましくは２２０〜２６０℃、より好ましくは２３０〜２５０℃にして、反応系を徐々に減圧して最終的には５ｈＰａ以下で反応させることが好ましい。反応温度が低すぎると反応が充分に進行しない傾向があり、逆に高すぎると分解等の副反応が起こる傾向がある。

また、結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）及び非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）の分子量を調節する方法としては、重合時におけるポリエステル溶融物の粘度が所望のところに到達した時点で重合を止める方法や、一旦分子量の高いポリエステルを製造した後、解重合剤（酸またはアルコール）を添加する方法、更には１官能のアルコールやカルボン酸を予め添加する方法等があげられる。

上記解重合剤としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、セバシン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、イタコン酸、アゼライン酸、アイコ酸ジカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸、ジフェン酸、ドデカンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、フマル酸、マレイン酸、トリメリット酸、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸、ネオペンチルグリコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール等があげられ、これらは単独で用いても複数種混合して使用してもよい。

なお、結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）および非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）を製造する際には、トリフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、リン酸等の安定剤や、二酸化チタン等の艶消し剤等を、本発明の特性を損なわない範囲で配合してもよい。

上記結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）および非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）との含有割合〔（Ａ）／（Ｂ）〕は、重量比で、（Ａ）／（Ｂ）＝９５／５〜４０／６０であることが好ましく、特には９０／１０〜５０／５０、更には８０／２０〜５５／４５、殊には７５／２５〜６０／４０であることが好ましい。上記含有割合において、非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）が少なすぎると、磁性体層２における可撓性が低下する傾向があり、多すぎると耐熱性が低下する傾向がある。

そして、磁性体層２形成材料における磁性粉末３とバインダー樹脂４の含有割合は、重量比で、磁性粉末３：バインダー樹脂４＝１：１〜１０：１であることが好ましく、特には２：１〜９：１、更には２．５：１〜８：１、殊には３：１〜６：１であることが好ましい。上記含有割合において、磁性粉末３が少なすぎると、所望の高い透磁性が得られ難くなる傾向があり、多すぎるとコストが高くなるばかりでなく、磁性体層２に気泡が入りやすくなり、透磁率が下がる傾向がある。

本発明の積層体における磁性体層２形成材料には、上記磁性粉末３、バインダー樹脂４以外に、分散剤、シランカップリング剤、難燃剤、防錆剤、抗菌剤、架橋剤等の他の添加剤を適宜配合することができる。

上記他の添加剤の配合割合は、例えば、上記バインダー樹脂４に対して０．０１〜１０重量％であることが好ましく、特に好ましくは０．１〜５重量％である。

さらに、磁性体層２形成材料には、この形成材料を高分子化合物製フィルムに塗工するために有機溶剤が適宜使用される。上記有機溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の塩素系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、イソホロン、γ−ブチロラクトン等のエステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキノン等のケトン系溶剤、ジエチルエーテル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶剤、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール等のアルコール系溶剤、ｎ−ブタン、イソブタン、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ノナン等の脂肪族炭化水素系溶剤、シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環族炭化水素系溶剤等があげられ、これらは単独もしくは二種以上併せて用いることができる。中でも、溶液安定性の点で芳香族系溶剤とケトン系溶剤を併用することが好ましく、具体的には、芳香族系溶剤５０〜９０重量％とケトン系溶剤１０〜５０重量％の混合溶剤が好ましい。また必要に応じてエチルセルソルブ、セルソルブアセテート等を併用することもできる。

〈高分子化合物製フィルム層１〉
本発明の積層体における高分子化合物製フィルム層１は、加圧成形時に磁性体層２がプレスロールから剥離できなくなるのを防止すると共に、製品への実装時に表面の絶縁性を確保するためのものであり、かかる高分子化合物製フィルム層１の材料となる高分子化合物製フィルムとしては、例えば、ポリエステル系フィルム、ポリウレタン系フィルム、ポリイミド系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリオレフィン系フィルム、ポリ塩化ビニル系フィルム、ポリ塩化ビニリデン系フィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、エチレン酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン−ビニルアルコール共重合体フィルム、ポリアミド系フィルム、セロファン、アイオノマーフィルム等があげられる。中でも、コスト等の点から、ポリエステル系フィルムを用いることが好ましく、特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用いることが好ましい。

上記高分子化合物製フィルム層１に対しては、その用途等に応じて、磁性体層２積層面とは反対の面に対して離型処理を施してもよい。また、磁性体層２積層面に対して、易接着処理、コロナ処理、表面に凹凸加工、さらには着色処理（フィルム全体あるいはフィルム表面のみ）等を施すこともできる。

上記高分子化合物製フィルム層１の厚みとしては、通常４〜１００μｍであり、好ましくは６〜５０μｍ、さらに好ましくは８〜３８μｍである。かかる厚みが薄すぎると加圧成形時に強度不足によりフィルムが破れやすくなる傾向があり、厚すぎると加圧成形時の圧力が緩和されてしまい、透磁率が低下する傾向がある。

また、上記高分子化合物製フィルムを用いる場合、その物性として、ＪＩＳ基準において、機械の流れ方向（ＭＤ方向）および幅方向（ＴＤ方向）のいずれにおいても破断強度が１００〜３００ＭＰａ、破断伸度が５０〜３００％であることが好ましい。

〈積層体〉
本発明の積層体の製造方法について説明する。

まず、必須成分である上記磁性粉末３およびバインダー樹脂４、さらには任意成分を必要に応じて適宜配合することにより磁性体層２形成材料である磁性粉末分散液を調製する。

つぎに、高分子化合物製フィルム面上に上記磁性粉末分散液を所望の厚みとなるよう塗工した後、これを乾燥することにより磁性粉末含有層を形成する。

上記塗工方法としては、例えば、アプリケーター、ドクターブレード、コンマコーター、ダイコーター、ディップコーター等を用いた塗工方法や、スクリーン印刷等があげられる。

上記乾燥条件としては、例えば、常温（２５℃）から１５０℃の温度条件にて、１分〜１時間程度に設定される。

上記乾燥により磁性粉末含有層を形成した後、これを、片面または両面から、好ましくは両面から加圧成形することにより、高分子化合物製フィルム層１面上に磁性体層２が積層されてなる本発明の積層体を作製することができる。具体的には、例えば、上下一対のプレスロールを用い、上記プレスロール間を通過させることにより加圧成形が行なわれ積層体が作製される。

上記加圧条件としては、線圧が１０ｋｇ／ｃｍ〜５０ｔ／ｃｍとすることが好ましく、プレスロールを用いた際のロール温度は常温（２５℃）〜２００℃程度であり、搬送速度は０．１〜１００ｍ／ｍｉｎであることが好ましい。より好ましくは線圧２０ｋｇ／ｃｍ〜３０ｔ／ｃｍ、ロール温度は４０〜１８０℃、搬送速度は０．２〜５０ｍ／ｍｉｎであり、特に好ましくは線圧３０ｋｇ／ｃｍ〜２０ｔ／ｃｍ、ロール温度は５０〜１６０℃、搬送速度は０．３〜３０ｍ／ｍｉｎである。線圧が低すぎると気泡が抜けにくくなり、透磁率が低くなる傾向があり、高すぎると高分子化合物製フィルムが破断する傾向がある。ロール温度が低すぎると気泡が抜けにくくなり、透磁率が低くなる傾向があり、高すぎると磁性粉末含有層が溶融してしまい、加圧時に高分子化合物製フィルム端部から溶出してしまう傾向がある。搬送速度が低すぎると生産性が低下する傾向があり、高すぎると気泡が抜けにくくなり、透磁率が低くなる傾向がある。

上記プレスロールとしては、例えば、ＳＵＳ等の金属製ロール、繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）や炭素繊維強化プラスチック（ＣＦＲＰ）等の強化プラスチック製ロール等があげられる。

また、上記高分子化合物製フィルム層１面上に磁性粉末含有層が形成されてなる構造体を加圧する際には、この構造体（高分子化合物製フィルム層１＋磁性粉末含有層）の両面に、プラスチックフィルムを積層して加圧を行なうことが好ましい。

上記プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエステル系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニル系フィルム、ポリビニルアルコール系フィルム、ポリ塩化ビニリデン系フィルム、セルロースフィルム、アクリル樹脂製フィルム、ポリアミド樹脂製フィルム、トリアセテート製フィルム、ポリカーボネート製フィルム、ポリエーテルスルホン製フィルム、ポリフェニルサルファイド製フィルム、ポリイミド樹脂製フィルム、ポリウレタン樹脂製フィルム、シリコンゴム製フィルム、ポリエチレンナフタレート製フィルム、ポリエーテルエーテルケトン製フィルム、シクロオレフィン製フィルム、ポリ乳酸製フィルム、ノルボルネン製フィルム等のプラスチックフィルム等があげられ、これらフィルムは単層構造であっても多層構造であってもよい。

中でも、耐熱性、耐溶剤性、成形容易性、寸法安定性、価格の点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等のポリエステル系フィルムが好ましい。

上記プラスチックフィルムの厚みとしては、通常３〜３００μｍ程度、好ましくは５〜１５０μｍである。そして、プラスチックフィルム表面およびプレスロール表面の少なくとも一方に、各種離型処理や、易接着処理、コロナ処理、プラズマ処理等を適宜施してもよく、さらにはプラスチックフィルムに対して、難燃処理、着色処理、防錆処理、抗菌処理等を施すこともの可能である。

このようにして得られる本発明の積層体は、高分子化合物製フィルム層１の片面に磁性体層２が積層形成された２層構造である。

本発明の積層体では、上記高分子化合物製フィルム層１と磁性体層２の間に、接着層、絶縁層等の中間層が形成されていてもよい。上記中間層は、例えば、高分子化合物製フィルム層１面に予め積層形成することが好ましい。

本発明の積層体では、上記磁性体層２の高分子化合物製フィルム層１が積層されていない面に粘着剤層が形成されていてもよい。上記粘着剤層としては、剥離強度が１〜３０Ｎ／２５ｍｍ程度の粘着性を有するものが好ましい。

上記粘着剤層形成材料としては、例えば、アクリル系、ゴム系、シリコーン系、ウレタン系等の各種粘着剤があげられるが、耐久性や価格の点でアクリル系粘着剤が好ましい。

上記粘着剤層の形成方法としては、例えば、上記のようにして高分子化合物製フィルム層１の片面に磁性体層２が積層形成された２層構造の積層体を作製した後、上記磁性体層２の高分子化合物製フィルム層１が積層されていない面に粘着剤層形成材料を塗工する形成方法があげられる。

さらには、上記粘着剤層に離型フィルム層を設けることができる。上記離型フィルムとしては、例えば、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のプラスチックフィルム、上質紙、薄葉紙、グラシン紙、セミグラシン紙等の紙製基材が使用できる。上記粘着剤層に対する離型処理としては、離型剤をフィルム内部に添加してもよく、またはフィルム表面に離型剤をコーティング処理してもよい。上記離型剤としては、例えば、シリコーン系、フッ素系、ポリオレフィン系等の離型剤を用いることができる。そして、上記離型フィルムに対する離型処理は、フィルムの片面であっても両面であってもよい。その離型フィルムの剥離強度は０．０３〜１Ｎ／２５ｍｍ程度であることが好ましい。中でも、離型フィルムとしては、ＰＥＴフィルム、もしくは上質紙が強度、耐熱性の観点から好ましい。また、離型剤としては、シリコーン系離型剤が価格の点から好ましく、剥離強度は０．１〜０．６Ｎ／２５ｍｍであることが特に好ましい。

本発明の積層体としては、前述の高分子化合物製フィルム層１の片面に磁性体層２が形成されてなる、高分子化合物製フィルム層１／磁性体層２の２層構造を必須の構成とするものであり、さらには、上記２層構造の積層体の磁性体層２の高分子化合物製フィルム層１が積層されていない面に粘着剤層が形成されてなる、高分子化合物製フィルム層１／磁性体層２／粘着剤層の３層構造、上記３層構造の積層体の粘着剤層面に離型フィルム層が積層されてなる、高分子化合物製フィルム層１／磁性体層２／粘着剤層／離型フィルム層の４層構造があげられる。これら構造は、その用途等に応じて適宜選択される。

本発明の積層体において、各層の厚みは、つぎのように設定される。高分子化合物製フィルム層１の厚みは、通常５〜２００μｍ、好ましくは７〜１００μｍ、特に好ましくは９〜５０μｍ、更に好ましくは１２〜２５μｍである。磁性体層２の厚みは、通常１〜１０００μｍ、好ましくは２〜５００μｍ、特に好ましくは５〜２００μｍ、更に好ましくは２５〜１００μｍである。また、粘着剤層の厚みは、通常３〜１００μｍ、好ましくは４〜５０μｍ、特に好ましくは５〜４０μｍ、更に好ましくは７〜３０μｍである。離型フィルム層の厚みは、通常５〜５００μｍ、好ましくは７〜３００μｍ、特に好ましくは８〜２００μｍ、更に好ましくは９〜１００μｍである。

そして、積層体の基本構造である高分子化合物製フィルム層１／磁性体層２の２層構造において、磁性体層２の厚み（ｘ）と高分子化合物製フィルム層１の厚み（ｙ）の比（ｘ：ｙ）は、好ましくはｘ：ｙ＝０．１〜１００：１であり、特に好ましくはｘ：ｙ＝０．３〜５０：１、更に好ましくはｘ：ｙ＝０．５〜２０：１である。磁性体層２の厚みが高分子化合物製フィルム層１の厚みに比べて薄すぎると、積層体中での磁性体の割合が減るため、電磁波吸収性能が低下し、逆に厚過ぎると、高分子化合物製フィルム層１が裂けやすくなる傾向がある。

上記のようにして作製されてなる本発明の積層体では、上記磁性体層２の比重が、１．５〜１０であることが好ましく、特に好ましくは２〜８である。なお、上記磁性体層２の比重は、例えば、市販のアルキメデス法による密度測定機を用いて測定することができる。

本発明の積層体では、電磁波吸収性という点から、１ＭＨｚにおける透磁率μ'が５０以上であることが重要であり、好ましくは６０以上である。なお、本発明のような積層体（シート状磁性フィルム）における透磁率（μ'）の上限は、通常３００である。本発明において、透磁率（μ'）は、例えば、つぎのようにして測定される。すなわち、ネットワークアナライザ（例えばアジレント社製Ｅ５０７１Ｃ）に、透磁率測定用の治具（例えばアジレント社製１６４５４Ａ）を接続し、外径７ｍｍ，内径３ｍｍに打ち抜いたドーナツ状サンプルを上記治具にセットし、所定のプログラムにて透磁率（μ'）を測定することができる。

以下、実施例をあげて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
なお、例中「部」、「％」とあるのは、重量基準を意味する。

〔実施例１〕
＜結晶性ポリエステル樹脂（Ａ１）の製造＞
撹拌機、精留塔、窒素導入管および真空装置が設けられた反応缶に、テレフタル酸２７６．２部、イソフタル酸５９．２部、アジピン酸５２．１部、１，４−ブタンジオール１００．７部、１，６−ヘキサンジオール１６８．４部、シクロヘキサンジメタノール１３７．０部、触媒としてテトラブチルチタネート０．２０部を仕込み、内温２４０℃まで徐々に温度を上げ、４時間かけてエステル化反応を行なった。その後、内温２６０℃まで上げ、触媒としてテトラブチルチタネート０．２０部仕込み、１ｈＰａまで減圧し、３時間かけて重縮合反応を行なうことにより、結晶性ポリエステル樹脂（Ａ１）を作製した。得られた結晶性ポリエステル樹脂（Ａ１）は、前述のとおり示差走査熱量計（ＤＳＣ）にて測定した結果、融点が１１５℃、結晶化融解熱が９Ｊ／ｇ、数平均分子量が１７，０００（末端基法による測定）、ガラス転移温度１９℃であった。

＜非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ１）の製造＞
撹拌機、温度計、精留塔、窒素導入管および真空装置が設けられた反応缶に、テレフタル酸１７６．６部、イソフタル酸１５６．６部、エチレングリコール９７．１部、ビスフェノールＡエチレンオキサイド付加物３６１．３部、触媒としてテトラブチルチタネート０．２０部を仕込み、内温２４０℃まで除々に温度を上げ、４時間かけてエステル化反応を行なった。その後、内温２６０℃まで上げ、触媒としてテトラブチルチタネート０．２０部仕込み、１ｈＰａまで減圧し、３時間かけて重縮合反応を行い、さらに内温２４０℃まで下げ、イソフタル酸８．３部添加し、解重合を１時間行なうことにより、非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ１）を作製した。得られた非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ１）は、前述のとおり示差走査熱量計（ＤＳＣ）にて測定した結果、融点および結晶化融解熱は測定されなかった。また、数平均分子量は７，０００（末端基法による測定）、ガラス転移温度７０℃であった。

＜バインダー樹脂＞
撹拌機、温度計、精留塔および窒素導入管が設けられた反応缶に、結晶性ポリエステル樹脂（Ａ１）を１３８部、非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ１）を９２部、トルエン６１６部、メチルエチルケトン１５４部を入れ、８０℃で５時間かけて樹脂を溶解し、３０℃まで冷却し、バインダー樹脂（固形分２３％、ガラス転移温度３５℃、融点１０５℃）を得た。

＜積層体の製造＞
上記バインダー樹脂３７．３部、磁性粉末であるセンダスト粉（山陽特殊製鋼社製；商品名「ＦＭＥ３ＤＨ」）３４．３部、分散剤（楠本化成社；商品名「ＰＷ−３６」）２．６部、トルエン２５．８部を、ポリエチレン製瓶に投入し、ディスパーにて１０分間、回転速度５００ｒｐｍで撹拌し、磁性粉末分散液を得た。

つぎに、２５μｍ厚のＡ４サイズＰＥＴフィルム（東レ社製「ルミラーＳ１０＃２５」）上に、上記磁性粉末分散液を、クリアランス３００μｍのアプリケーターにて塗工し、８０℃に設定した乾燥機にて５分間乾燥することにより、塗工厚１００μｍの磁性粉末含有層付きＰＥＴフィルムを作製した。

得られた磁性粉末含有層付きＰＥＴフィルムの中央部５ｃｍ角を切り取り、切り取ったフィルムの上下を２５μｍ厚の離型ＰＥＴフィルム（東セロ社製「ＳＰ−ＰＥＴ−Ｏ１−ＢＵ」）２枚で挟み込み、ロールプレス機（サンクメタル社製、１トンメカ式精密ロールプレス、ロール間クリアランス７０μｍ、ロール温度上下共に１００℃、搬送速度０．５ｍ／ｍｉｎ、線圧２００ｋｇ／ｃｍ）を通すことにより、膜厚４０μｍの積層体（磁性体層＋ＰＥＴフィルム層：磁性シート）を得た。

得られた積層体の１ＭＨｚでの透磁率μ’は、１００であり、ＰＥＴフィルム面の表面抵抗は１０¹³Ω／□以上であった。また、得られた積層体の磁性体層の比重は５であった。

なお、上記透磁率は、先に述べた方法に準じ、アジレント社製の１６４５４Ａ磁性材料測定電極を用いた測定システムにて測定した。

上記ＰＥＴフィルム面の表面抵抗の測定では、三菱ケミカルアナリテック社製「ハイレスタ」にて、表面抵抗を測定した。本発明においては、表面抵抗１０¹³Ω／□以上の場合を合格とした。

上記磁性体層の比重は、磁性体層を５ｃｍ角に切り取り、ＡＬＦＡＭＩＲＡＧＥ社製電子比重計「ＭＤ−３００Ｓ」にて測定した。

〔比較例１〕
＜非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ１）のみを使用してなる積層体＞
分散液として、上記非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ１）を５．４部、磁性粉末であるセンダスト粉（山陽特殊製鋼社製；商品名「ＦＭＥ３ＤＨ」）２１．３部、トルエン７０．３部、架橋剤としてブロックイソシアネート（日本ポリウレタン社製、商品名「コロネート２５０７」）３部を用いた以外は、実施例１と同様に行ない、磁性粉末分散液を作製した。

得られた磁性粉末分散液を用い、実施例１と同様にして膜厚４０μｍの積層体（磁性体層＋ＰＥＴフィルム層：磁性シート）を得た。

得られた積層体の各物性を前述の測定方法に従って測定した。その結果、積層体の１ＭＨｚでの透磁率μ’は４０であり、ＰＥＴフィルム面の表面抵抗は１０¹³Ω／□以上であった。また、得られた積層体の磁性体層の比重は５であった。

〔比較例２〕
＜ＰＥＴフィルム層無しの磁性体層単層＞
磁性粉末分散液を塗工する基材フィルムを、東セロ社製「ＳＰ−ＰＥＴ−Ｏ１−ＢＵ」（厚み２５μｍ）に変え、離型処理面に塗工した以外は実施例１と同様に実施し、積層体を作製した。つぎに、得られた積層体から上記基材フィルムを剥離し、単層からなる磁性体層のみからなるシートを得た。得られた磁性体層単層シートの表面抵抗は１０⁴Ω／□と低く、また、磁性体層端部から磁性粉末が脱落する現象が確認され、実用に適さないことは明らかである。

〔粘着剤層付の積層体〕
上記実施例１にて作製した積層体の磁性体層のうち、ＰＥＴフィルムが積層されていない面に、粘着剤層形成材料として日本合成化学工業社製「コーポニールＮ−４５１０Ｅ」を用い、これを塗工（塗工方法：固形分４５％になるように酢酸エチルで希釈し、アプリケーターを用いたキャスト塗工）し、８０℃で１０分間乾燥することにより粘着剤層を形成してなる、高品質の粘着剤層付の積層体を作製した。

さらに、上記粘着剤層面に離型フィルム（紙セパレーター）を貼付して離型フィルムが仮接着された粘着剤層付の積層体を作製した。

本発明の積層体は、高分子化合物製フィルム層および特定のバインダー樹脂と磁性粉末を用いて得られる特殊な磁性体層を基本構造とするものであり、透磁性の高い電磁波抑制シートとなりうることから、いわゆる電磁波の透過を抑制することのできる磁性シート等に非常に有用である。

１高分子化合物製フィルム層
２磁性体層
３磁性粉末
４バインダー樹脂

Claims

磁性粉末およびバインダー樹脂を含有する形成材料からなる磁性体層、および、高分子化合物製フィルム層の積層構造を有する積層体であって、
上記バインダー樹脂が、結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）および非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）を含有し、
磁性粉末が、鉄系粉末および軟磁性粉末の少なくとも一方であることを特徴とする積層体。
結晶性ポリエステル樹脂（Ａ）および非晶性ポリエステル樹脂（Ｂ）の含有割合〔（Ａ）／（Ｂ）〕が、重量比で、（Ａ）／（Ｂ）＝９５／５〜４０／６０であることを特徴とする請求項１記載の積層体。
磁性体層の厚み（ｘ）と高分子化合物製フィルム層の厚み（ｙ）の比（ｘ：ｙ）が、ｘ：ｙ＝０．１〜１００：１であることを特徴とする請求項１または２記載の積層体。
高分子化合物製フィルムが、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の積層体。
磁性粉末とバインダー樹脂の含有割合が、重量比で、磁性粉末：バインダー樹脂＝１：１〜１０：１であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層体。
磁性体層の高分子化合物製フィルムが積層されていない面に粘着剤層が形成されてなることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の積層体。