JP6422074B2 - 真空処理装置 - Google Patents
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Claims (3)
- 真空チャンバ内で処理対象物が載置されるステージを備え、減圧下で前記ステージ上の前記処理対象物に対し所定の処理を施す真空処理装置において、
駆動手段と、前記駆動手段により前記ステージの上方に位置する遮蔽位置と前記ステージから離間した退避位置との間で移動自在な遮蔽手段とを有し、前記駆動手段が、前記遮蔽手段の前記遮蔽位置にて前記遮蔽手段と前記ステージとの間の空間に向けて所定のガスを噴射するガス噴射部を備え、
前記駆動手段は、前記真空チャンバ内に突設した回転軸と、前記回転軸に連結されるアームとを備え、前記アームに前記遮蔽手段が連結されると共に、前記遮蔽手段の下方に位置する前記アームの部分に前記ガス噴射部の噴出口が設けられていることを特徴とする真空処理装置。 - 前記遮蔽手段は、前記遮蔽位置にて前記ステージの上面を完全に覆うことができる面積を持つ板状部材で構成されることを特徴とする請求項1記載の真空処理装置。
- 前記ガスを噴射する間、前記回転軸が正転と逆転とを繰り返すようにしたことを特徴とする請求項1または請求項2記載の真空処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014176970A JP6422074B2 (ja) | 2014-09-01 | 2014-09-01 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2016050349A JP2016050349A (ja) | 2016-04-11 |
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JP2014176970A Active JP6422074B2 (ja) | 2014-09-01 | 2014-09-01 | 真空処理装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP6422074B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6775450B2 (ja) | 2017-03-21 | 2020-10-28 | 東京エレクトロン株式会社 | ステージクリーニング方法およびステージクリーニング部材、ならびに検査システム |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61113150A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-05-31 | Toshiba Ii M I Kk | 静電ブロ−装置 |
JP2746179B2 (ja) * | 1995-03-17 | 1998-04-28 | 日本電気株式会社 | 真空処理装置および真空処理方法 |
JP2003092335A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-03-28 | Toshiba Corp | 基板搬送装置、これを用いた基板処理装置および基板処理方法 |
JP4940184B2 (ja) * | 2008-05-22 | 2012-05-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 真空処理装置および真空処理方法 |
JP5998654B2 (ja) * | 2012-05-31 | 2016-09-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置、真空処理方法及び記憶媒体 |
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JP2016050349A (ja) | 2016-04-11 |
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