JP6412782B2

JP6412782B2 - 処理装置およびその据え付け方法

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Publication number: JP6412782B2
Application number: JP2014238824A
Authority: JP
Inventors: 優也溝部; 恵太郎小川; 満知明小林
Original assignee: Hitachi High Technologies Corp
Current assignee: Hitachi High Tech Corp
Priority date: 2014-11-26
Filing date: 2014-11-26
Publication date: 2018-10-24
Anticipated expiration: 2034-11-26
Also published as: JP2016100570A

Description

本発明は、複数の処理室を有する処理装置およびその据え付け方法に関する。

従来、マルチチャンバタイプの真空処理装置として、特許文献１に示すような、複数のカセット台が前面側に配置され、複数のカセット台の内の１つに設置されたカセット内に収納されたウエハが搬送される大気搬送室と、該大気搬送室の後方に配置され、内部に当該大気搬送室から搬送されるウエハを収納するロック室と、該ロック室の後方に連結され、当該ロック室からウエハが搬送される第一の真空搬送室と、第一の真空搬送室の後方に連結された搬送中間室と、該搬送中間室の後方に連結され、当該搬送中間室からウエハが搬送される第二の真空搬送室と、第一の真空搬送室の後方に連結され、第一の真空搬送室から搬送されたウエハを処理する少なくとも１つの真空処理室と、第二の真空搬送室の後方に連結され、第二の真空搬送室から搬送されたウエハを処理する２つ以上の真空処理室とを備えた真空処理装置が知られている。

このような真空処理装置において、真空搬送室への真空処理室の取り付けを容易にする方法として、例えば、特許文献２に示すように、ウェハ搬送チャンバ（真空搬送室）に少なくとも複数のプロセスチャンバ（真空処理室）が接続され、該複数のプロセスチャンバ内に順にウェハを挿入してプロセス処理を一貫して行う半導体製造工程に用いられるマルチチャンバ装置において、プロセスチャンバを移動可能とするガイド機構を備え、該ガイド機構によりプロセスチャンバを移動させてウェハ搬送チャンバ（真空搬送室）に接続するチャンバ接続用ガイド機構付きマルチチャンバ装置とし、プロセスチャンバをＸ軸方向、Ｙ軸方向およびＺ軸方向に移動可能とすることによってプロセスチャンバの着脱を容易にし、かつメンテナンス性を向上させた装置が知られている。

また、このような装置のクリーンルームへの搬入から立ち上げないし運転開始までの時期を早める搬入設置方法として、特許文献３に記載のような、半導体製造装置の用力接続部に接続される接続部を有する装置代用体を準備する工程と、該装置代用体をクリーンルームに搬入して、所定の装置設置位置に配置する工程と、半導体製造装置を製作する一方で、装置設置位置に配置された装置代用体の接続部まで用力ラインを施設する工程と、装置代用体の接続部を用力ラインに接続する工程と、半導体製造装置を設置位置に設置して、装置代用体を半導体製造装置に取り付ける工程と、装置代用体の接続部と半導体製造装置の用力接続部とを接続する工程とを有する半導体製造装置の搬入設置方法が知られている。

また、処理装置本体側の用力ラインと用力設備の用力ラインとの接続を容易にする方法として、特許文献４に記載のように、クリーン度の高い第１の部屋に装置本体を設け、当該部屋の下部に設けられた第２の部屋に用力設備（ユーティリティボックス及びポンプボックス）を設け、第１の部屋と第２の部屋とを区画する床部に中継ユニットを第２の部屋の空気が第１の部屋に流れ込まないように設け、第１の部屋側（装置本体側）の用力ラインと第２の部屋側（用力設備側）の用力ラインとを中継ユニット６に対して着脱自在に接続する方法が知られている。

特開２０１３−１４３５１３号公報特開平６−２６７８０８号公報特開２００６−１５７０３６号公報特開２００７−８５７２８号公報

発明者等は上述の従来技術の課題について検討した。検討結果を以下に示す。
（１）上述の従来技術では処理装置の据え付け作業の点において十分に配慮されていない。すなわち、特許文献１および２に記載の技術はユーティリティ関係の接続について配慮されていない。
また、（２）特許文献３に記載の技術は、装置本体と装置台用体との入れ替えが必要となり、余分な作業が発生する。
また、（３）特許文献４に記載の技術は、装置本体との接続を効率よく行う点が十分に配慮されていない。

本発明の第１の目的は、現地据え付け時間の短縮を図ることのできる処理装置およびその据え付け方法を提供することにある。

本発明の第２の目的は、メンテナンス性を向上させることのできる処理装置を提供することにある。

本発明第１の目的は、据え付け時の基準となる位置を有する大気搬送ユニットと、前記大気搬送ユニットに接続され所定圧力雰囲気が形成される搬送ユニットと、前記搬送ユニットに着脱可能に接続される複数の処理ユニットと、前記複数の処理ユニットの下部に配置され、建屋側から供給されるユーティリティが接続される機器および/又は建屋側へ排出する排気ポートを有するユーティリティユニットと、前記搬送ユニットへの前記処理ユニット取り付け面に対し直行する方向に前記処理ユニットを移動可能に支持し、前記ユーティリティユニットの上部の所定位置で前記処理ユニットを支持・固定する支持架台と、を有することを特徴とする処理装置とすることにより、達成される。

また、上記処理装置において、前記搬送ユニットの所定圧力雰囲気が加圧、常圧または減圧のいずれかに形成される。

また、上記処理装置において、前記支持架台が前記ユーティリティユニットに取り付けられ、前記処理ユニットと前記ユーティリティユニットとの間で前記処理ユニットの位置調整機能を有する。

また、上記処理装置において、前記支持架台が前記ユーティリティユニットと非接触に取り付けられる。

また、上記処理装置において、前記搬送ユニットへの前記処理ユニットの取り付け又は取り外しの際に、前記支持架台との間で前記処理ユニットを受け渡しする移動架台を補助具として有する。

また、上記処理装置において、前記処理ユニットにコロを設け、前記支持架台に前記コロを移動可能に支持するガイドを設けた。

また、上記処理装置において、前記支持架台に複数のコロを一定高さで並べ、前記処理ユニットに前記コロに係合するガイドを設けた。

また、上記処理装置において、前記処理ユニットに排気装置を有し、該排気装置からの排気ラインを前記ユーティリティユニットの排気ポートに接続する。

また、据え付け時の基準となる位置を有する大気搬送ユニットと、前記大気搬送ユニットに接続された真空搬送ユニットと、前記真空搬送ユニットに着脱可能に接続される処理ユニットと、前記処理ユニットの下部に配置される機器収納ユニットと、前記機器収納ユニットを跨ぎ、前記処理ユニット着脱時に前記処理ユニットを移動可能に支持する支持架台と、を有することを特徴とする真空処理装置とする。

また本発明の第１の目的は、上記処理装置の据え付け方法において、前記処理装置の据え付け時に、据え付けの際に規準とする前記建屋側の基準点から所定位置に前記ユーティリティユニットを配置・固定し、前記ユーティリティユニットに前記建屋側からのユーティリティを接続した後、前記大気搬送ユニットの所定位置を前記基準点に合わせ配置・固定し、前記大気搬送ユニットに対し前記搬送ユニットを接続・固定し、前記ユーティリティユニット上方に前記支持架台を配置し、前記移動架台に前記処理ユニットを配置して前記移動架台を前記支持架台に近づけ、前記処理ユニットを移動させ前記支持架台に移し、前記支持架台上の前記処理ユニットを前記搬送ユニットに接続・固定することを特徴とする処理装置の据え付け方法とすることにより、達成される。

また、上記処理装置の取り付け方法において、前記処理ユニットに前記移動用の機構とは異なる自重サポート部材を設け、前記処理ユニットの位置決め後に前記自重サポート部材で前記処理ユニットを支持する。

さらに、本発明の第２の目的は、上記処理装置の取り付け方法において、前記支持架台上の前記処理ユニットの前記搬送ユニットへの接続・固定を解除し、前記処理ユニットを前記支持架台から前記移動架台に移動し、前記処理ユニットのメンテナンスを行い、前記処理ユニットを前記移動架台から前記支持架台に移動し、前記支持架台上の前記処理ユニットを前記搬送ユニットに接続・固定することを特徴とする処理装置の据え付け方法とすることにより達成される。

本発明によれば、現地据え付け時間の短縮を図ることのできる処理装置およびその据え付け方法を提供することができる。
また、メンテナンス性を向上させることのできる処理装置を提供することができる。

本発明の第１の実施例における真空処理装置の上面図である。図１に示す真空処理装置における真空処理室の構成の概略を示す側面図である。図１に示す真空処理装置における真空処理室の構成の概略を示す図であり、上図は図２Ａに示す真空処理室のＡ−Ａ断面における上面面図、下図は上図のＢ−Ｂライン側から見た側面図（車輪の一部が除去されている）である。図２に示す真空処理室のユーティリティ架台を示す図であり、上中図は上面図、上左図は左側面図（一部透視図）、上右図は右側面図（一部透視図）、下左図は正面図（一部透視図）、下右図は正面図のＣ−Ｃ断面における上面図（一部可動であることを示す）である。図１に示す真空処理装置の真空処理ユニットを支える架台設置図を示し、上右図は上面図、上左図は左側面図、下左図は正面図、下右図は上面図のＤ−Ｄ断面における拡大図である。図１に示す真空処理装置の真空処理ユニットを搬送チャンバへドッキングさせるときの図であり、上右図は真空処理ユニットを台車から真空処理ユニット架台へ移動する直前の状態を示す正面図、上左図は左側面図、下図は真空処理ユニットを搬送チャンバへドッキングする直前の状態を示す拡大図（一部透視図）である。本発明の第２の実施例に係る真空処理装置のメンテナンスに際しての真空処理ユニットの外側に取り付けられた部品を交換する時の一例を示した図であり、上図は真空処理ユニットを搬送チャンバから切り離した直後の状態を示す拡大図（一部透視図）、下図は真空処理ユニットを架台から台車へ移動した状態を示す正面図である。

本発明は、搬送ユニットに複数の処理室を接続してなる処理装置において、処理室の下部に処理室へ供給されるユーティリティのユニットを配置・固定し、該ユーティリティユニットの上部で処理室を移動可能に支持する架台を設け、ユーティリティユニット接続後、処理装置の搬送ユニットおよび処理室を設置することにより、装置への取り込み、すなわち、ユーティリティユニットへの接続が完了した建屋側ユーティリティと処理室との接続を容易化・作業短時間化を図ることができるものである。

以下、本発明について実施例により図面を用いて説明する。なお、同一符号は同一構成要素を示す。

（実施例１）
本発明の実施例について、以下、図面を用いて説明する。

図１は、本発明の第１の実施例に係る真空処理装置の構成の概略を示す平面図である。本真空処理装置は、大気圧の環境化で半導体ウエハ等の試料が運搬されるロードポート１０１と、大気搬送室１０２と、真空圧の環境下で試料が運搬される中間室１０４と、真空搬送室１０５と、真空処理室１０６と、大気圧と真空圧の切り替えを行うロードロック室１０３とを含む。大気搬送室を含む大気搬送ユニットは、建屋側基準点に合わせて配置・固定され、据え付け時の基準となる位置を有する。試料は、ＦＯＵＰ(図示せず)に備えられた状態でロードポート１０１に設置される。ロードポート１０１設置後にＦＯＵＰのドアを開け、大気搬送室１０２に設置された大気ロボット（図示せず）によって試料が取り出される。試料を取り出した後、大気ロボットはロードロック室１０３へと試料を移動させ、ロードロック室１０３の室内は、試料が搬入された後に大気圧から真空圧へと切り替えられる。ロードロック室１０３内が真空圧へ切り替わった後、真空搬送室１０５に備えられている真空ロボットが試料を取り出し、真空処理室１０６へと移動させる。真空処理室１０６に試料が設置されたら、エッチング処理等を試料に施し、前述した逆の順序をたどってＦＯＵＰへと戻される。真空搬送室の圧力は、状況に応じて減圧だけでなく、加圧又は常圧に調整することができる。

なお、この真空処理装置は、真空処理室が複数設置されたマルチチャンバ型であり、任意に真空処理室１０６及び真空搬送室１０５を連結させることが可能なレイアウトとなっている。連結させる際には、真空搬送室１０５、中間室１０４、真空搬送室１０５の順に接続させ、残りの真空搬送室１０５に備えられた接続用開口部に真空処理室１０６を設置させる。使用しない真空搬送室１０５の接続用開口部については、真空保持可能なプレート形状のもので封止をすればよい。

図２Ａは、真空搬送室に接続される真空処理室の構成の概略を示す側面図である。また、図２Ｂの上図は図２Ａに示す真空処理室のＡ−Ａ断面における上面面図、下図は上図のＢ−Ｂライン側から見た側面図（車輪の一部が除去されている）である。

真空処理室１０６は図２Ａに示すように、μ波を形成させ、放電部２０２へと流すためのμ波導入部２０１、プラズマを形成するための放電部２０２、エッチングガス等を排気するための排気部２０３、及びそれらを動作させるための制御機器３０２（図３）、エッチングガスを流すＭＦＣボックス３０５（図３）で大きく構成される。（以降、μ波導入部２０１、放電部２０２、排気部２０３(排気配管を除く)をまとめて指す場合は、真空処理ユニット２１３で記載する）
μ波導入部２０１は図２Ａに示すように、μ波を形成するための発振器２０４、μ波の通路と導波管２０５及びμ波の調整を行う整合器２０６で構成されており、放電部２０２は、電子を加速させる磁場コイル２０７、真空保持させるための真空チャンバ２０８、試料を載せる電極２０９で構成される。真空チャンバ２０８は、ウエット洗浄等メンテナンス時に交換可能とするインナーチャンバ２１０とインナーチャンバ２１０の外壁となるアウターチャンバ２１１で構成されている。搬送チャンバ４０３（図５）にドッキングされるのは、このアウターチャンバ２１１のみとなる。排気部２０３は、高真空排気を可能とするターボ分子ポンプ２１２、ドライポンプまでの排気通路となる排気配管（図示なし）で構成される。

真空チャンバ２０８の裏面には、図２Ｂに示すように、真空処理ユニット２１３を直進移動させるための車輪（コロ）２１４が備えられており、車輪（コロ）２１４のシャフト受け２１５とベースフレーム２１６の間には、左右（図２Ｂ上図の双方向矢印方向）の移動を可能とさせるリニアガイド２１７が設置されている。また、真空処理ユニット架台４０２左右位置決め用のブロック４０８（図４）が入りこむ穴２１８が加工されている。

図３は、制御機器３０２、ＭＦＣボックス３０５、建屋接続用の排気、Ａｉｒ、Ｎ_２等のガス、水、配線の接続ポートを設けたユーティリティ架台を示す図であり、上中図は上面図、上左図は左側面図（一部透視図）、上右図は右側面図（一部透視図）、下左図は正面図（一部透視図）、下右図は正面図のＣ−Ｃ断面における上面図（一部可動であることを示す）である。架台正面には、図３下右図に示すように、出し入れ可能（双方向矢印方向）とするスライド機構を備えた引き出しフレーム３０１が備えられており、そのフレーム内に制御機器３０２が配置されている。架台左側面には、建屋に接続するためのＡｉｒ、Ｎ_２等のガス、水、配線の建屋接続用ポート３０３が設置されている。架台背面には、建屋に接続するための排気ポート３０４、放電部２０２にエッチングガスを流すためのＭＦＣボックス３０５が備えられている。

架台上面には、真空処理ユニット２１３と接続するためのＡｉｒ、Ｎ_２等のガス、水、配線の真空処理ユニット接続用ポート３０６が設置されている。また、排気配管を通すための開口３０７及び真空処理ユニット２１３の架台を締結するためのネジ穴（図示なし）を備えている。
架台の下部には、高さを調整するためのアジャスターフット３０８及び移動させるためのキャスター（図示なし）が備えられている。

なお、ユーティリティ架台を含むユーティリティユニットは、建屋側の基準点から所定の位置に配置・固定される。また、大気搬送ユニットは、ユーティリティユニットに建屋からのユーティリティを接続した後、建屋側の基準点に合わせて所定の位置に配置・固定される。

図４は、真空処理ユニット２１３を支える架台設置図を示し、上右図は上面図、上左図は左側面図、下左図は正面図、下右図は上面図のＤ−Ｄ断面における拡大図である。

真空処理ユニット架台４０２は、剛性のあるフレームで構成されており、四角形状となるようにフレームは組まれている。このフレームの搬送チャンバ側には、図４下右図に示したように、搬送チャンバドッキングフランジ４０４に備えられている高さ方向の位置合わせとして精度よく作られた面と合わせるための高さ調整用段差４０５を設けている。また、フレームの下部には、架台の高さ調整を行うためのアジャスターフット４０６を各柱に設置している。

架台中央部分は、真空処理ユニット２１３に取り付けられているターボ分子ポンプ２１２等の接触を避けるために空間を設けている。架台側面には、真空処理ユニット２１３の真空チャンバ２０８に取り付けられている車輪２１４が通るためのレール４０７が備えられている（図４上左図、下左図）。そして、架台側面の上部は、図４上右図に示すように、真空チャンバ２０８の左右方向に位置合わせを行うための精度よく作られたブロック４０８が取り付けられており、このブロック４０８は、左右に位置が調整できるようにプレート４０９に取りつけられ、このプレート４０９は、搬送チャンバ４０３側へ移動できるようにリニアガイド４１０に取り付けられている。

この真空処理ユニット架台の設置手順として、まず、真空処理ユニット架台をユーティリティ架台４０１の上に載せる。そして、真空処理ユニット架台の高さを合わせるために、上述した搬送チャンバドッキングフランジ４０４の段差に架台フレームが接触するまで、アジャスターフット４０６にて高さを調整する。高さ調整が完了したら、搬送チャンバドッキングフランジ４０４及びユーティリティ架台４０１へ固定する。図示はしていないが、ボルトによる締結を行う。次に左右方向の調整として、リニアガイド４１０に取り付けられているプレート４０９を搬送チャンバ４０３側へ移動させ、搬送チャンバ４０３ドッキングフランジに加工されているブロック４０８が入り込むための凹み４１１にブロック４０８が入るようにブロック４０８の位置を調整する。以上が架台設置方法となる。但し、真空処理ユニット架台とユーティリティ架台とを直接接触させずに（非接触）互いに固定することもできる。なお、搬送チャンバは、据え付け時の基準となる大気搬送ユニットに対して接続・固定される。

図５は、真空処理ユニットを搬送チャンバへドッキングさせるときの図を示し、上右図は真空処理ユニットを台車から真空処理ユニット架台へ移動する直前の状態を示す正面図、上左図は左側面図、下図は真空処理ユニットを搬送チャンバへドッキングする直前の状態を示す拡大図である。

まず、真空処理ユニット２１３を載せた台車５０１を真空処理ユニット架台４０２の位置まで移動させる。その後、台車５０１の高さを真空処理ユニット２１３の車輪２１４がレール４０７にのる高さまで調整する（図５上右図の双方向矢印方向）。そして、真空処理ユニット２１３を真空処理ユニット２１３用架台の方へと移動させ（図５上右図の右向矢印方向）、真空チャンバ２０８の底面にあるブロック用穴２１８にブロック４０８を挿入する（図５下図）。ブロック４０８の高さは、最初、真空チャンバ２０８の底面より低い位置にあり、上下できるような構造（図示せず）となっているため、はめこむ際にブロック４０８を上昇させる。ブロック４０８を挿入した後にボルトにてブロック４０８を真空チャンバ２０８へ固定する。ブロック４０８を取付けた後、真空処理ユニット２１３を搬送チャンバ４０３側へさらに移動させ（図５下図の右向矢印方向）、ドッキングを行う。これにより、複数の処理室あるいは処理容器とこれらに共通の搬送室とを備えた処理装置において、現地据え付け時間の短縮や運搬物の重量低減による作業性、安全性の向上を図ることができる。なお、本実施例では、車輪（コロ）を真空処理ユニットに設置し、車輪（コロ）を移動可能に支持するレール（ガイド）を真空処理ユニット架台に設置したが、真空処理ユニット架台に複数のコロを一定の高さで並べ、真空処理ユニットにコロに係合するガイドを設置することもできる。また、本実施例では台車を用いたが、処理ユニットに台車とは異なる自重サポート部材を設け、処理ユニットの位置決め後に自重サポート部材で処理ユニットを支持することもできる。また、本実施例では真空処理ユニット架台を用いたが、台車として、機器類も収納されているユーティリティ架台を跨いでユーティリティ架台上部へ移動可能な支持架台を用いることもできる。

以上、本実施例によれば、現地据え付け時間の短縮を図ることのできる処理装置およびその据え付け方法を提供することができる。

（実施例２）
次に、本発明の第２の実施例について図６を用いて説明する。なお、実施例１に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情が無い限り本実施例にも適用することができる。本実施例では処理装置のメンテナンスについて説明する。

図６は、メンテナンスに際して真空処理ユニットの外側に取り付けられた部品を交換するときの一例を示した図であり、上図は真空処理ユニットを搬送チャンバから切り離した直後の状態を示す拡大図、下図は真空処理ユニットを架台から台車へ移動した状態を示す正面図である。

例えば、真空処理ユニット２１３下部に備えられているターボ分子ポンプ２１２を交換しようとした場合、まず真空チャンバ２０８を搬送チャンバ４０３からアンドックを行い（図６上図の左向矢印方向）、左右位置決め用ブロック４０８を真空チャンバ２０８から固定解除する（図６上図の下向矢印方向）。そして、真空処理ユニット２１３を手前側へと移動させる（図６下図左向矢印方向）。このとき、ターボ分子ポンプ２１２がユーティリティ架台４０１よりも手前側に移動できるように、台車５０１を設置しておく。手前側へと移動させたら、作業スペースが十分に確保できているため、任意の状態でターボ分子ポンプ２１２を交換する。交換後の真空処理ユニット２１３のドッキングは、上述した手順となるため割愛する。

本交換手順は、１例であり、例えば真空チャンバ２０８を交換するときや、磁場コイル２０７を交換したいときにおいても、同様の手順で行ってもよいし、装置のダウンタイム短縮のために別の真空処理ユニット２１３をまるごと交換することも可能である。以上説明したようにチャンバやチャンバ外壁に取り付けられた大物の部品の交換を行う際も、処理ユニットを切り離すことで容易に行うことが可能となる。

以上、本実施例によれば、メンテナンス性を向上させることのできる処理装置を提供することができる。

なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることも可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。

１０１…ロードポート、１０２…大気搬送室、１０３…ロードロック室、１０４…中間室、１０５…真空搬送室、１０６…真空処理室、２０１…μ波導入部、２０２…放電部、２０３…排気部、２０４…発振器、２０５…導波管、２０６…整合器、２０７…磁場コイル、２０８…真空チャンバ、２０９…電極、２１０…インナーチャンバ、２１１…アウターチャンバ、２１２…ターボ分子ポンプ、２１３…真空処理ユニット、２１４…車輪、２１５…シャフト受け、２１６…ベースフレーム、２１７…リニアガイド、２１８…ブロック用穴、３０１…引き出しフレーム、３０２…制御機器、３０３…建屋接続用ポート、３０４…排気ポート、３０５…ＭＦＣボックス、３０６…真空処理ユニット接続用ポート、３０７…開口、３０８…アジャスターフット、４０１…ユーティリティ架台、４０２…真空処理ユニット架台、４０３…搬送チャンバ、４０４…搬送チャンバドッキングフランジ、４０５…高さ調整用段差、４０６…アジャスターフット、４０７…レール、４０８…ブロック、４０９…プレート、４１０…リニアガイド、４１１…ブロック４０８用の凹み、５０１…台車。

Claims

据え付け時の基準となる位置を有する大気搬送ユニットと、
前記大気搬送ユニットに接続され所定圧力雰囲気が形成される搬送ユニットと、
前記搬送ユニットに着脱可能に接続される複数の処理ユニットと、
前記複数の処理ユニットの下部に配置され、建屋側から供給されるユーティリティが接続される機器および/又は建屋側へ排出する排気ポートを有するユーティリティユニットと、
前記搬送ユニットへの前記処理ユニット取り付け面に対し直行する方向に前記処理ユニットを移動可能に支持し、前記ユーティリティユニットの上部の所定位置で前記処理ユニットを支持・固定する支持架台と、
を有することを特徴とする処理装置。
請求項１記載の処理装置において、前記搬送ユニットの所定圧力雰囲気が加圧、常圧または減圧のいずれかに調整されることを特徴とする処理装置。
請求項１記載の処理装置において、前記支持架台が前記ユーティリティユニットに取り付けられ、前記処理ユニットと前記ユーティリティユニットとの間で前記処理ユニットの位置調整機能を有することを特徴とする処理装置。
請求項１記載の処理装置において、前記支持架台が前記ユーティリティユニットと非接触に取り付けられたことを特徴とする処理装置。
請求項１記載の処理装置において、前記搬送ユニットへの前記処理ユニットの取り付け又は取り外しの際に、前記支持架台との間で前記処理ユニットを受け渡しする移動架台を補助具として有することを特徴とする処理装置。
請求項１記載の処理装置において、前記処理ユニットにコロを設け、前記支持架台に前記コロを移動可能に支持するガイドを設けたことを特徴とする処理装置。
請求項１記載の処理装置において、前記支持架台に複数のコロを一定高さで並べ、前記処理ユニットに前記コロに係合するガイドを設けたことを特徴とする処理装置。
請求項１記載の処理装置において、前記処理ユニットは排気装置を有し、前記排気装置からの排気ラインが前記ユーティリティユニットの排気ポートに接続されていることを特徴とする処理装置。
請求項５記載の処理装置の据え付け方法において、
前記処理装置の据え付け時に、据え付けの際に規準とする前記建屋側の基準点から所定位置に前記ユーティリティユニットを配置・固定し、
前記ユーティリティユニットに前記建屋側からのユーティリティを接続した後、前記大気搬送ユニットの所定位置を前記基準点に合わせ配置・固定し、
前記大気搬送ユニットに対し前記搬送ユニットを接続・固定し、
前記ユーティリティユニット上方に前記支持架台を配置し、
前記移動架台に前記処理ユニットを配置して前記移動架台を前記支持架台に近づけ、前記処理ユニットを移動させ前記支持架台に移し、
前記支持架台上の前記処理ユニットを前記搬送ユニットに接続・固定する
ことを特徴とする処理装置の据え付け方法。
請求項９記載の処理装置の取り付け方法において、前記処理ユニットに前記移動架台とは異なる自重サポート部材を設け、前記処理ユニットの位置決め後に前記自重サポート部材で前記処理ユニットを支持することを特徴とする処理装置の据え付け方法。
請求項５記載の処理装置の取り付け方法において、
前記支持架台上の前記処理ユニットの前記搬送ユニットへの接続・固定を解除し、
前記処理ユニットを前記支持架台から前記移動架台に移動し、
前記処理ユニットのメンテナンスを行い、
前記処理ユニットを前記移動架台から前記支持架台に移動し、
前記支持架台上の前記処理ユニットを前記搬送ユニットに接続・固定する
ことを特徴とする処理装置の据え付け方法。
据え付け時の基準となる位置を有する大気搬送ユニットと、
前記大気搬送ユニットに接続された真空搬送ユニットと、
前記真空搬送ユニットに着脱可能に接続される処理ユニットと、
前記処理ユニットの下部に配置される機器収納ユニットと、
前記機器収納ユニットを跨ぎ、前記処理ユニット着脱時に前記処理ユニットを移動可能に支持する支持架台と、
を有することを特徴とする真空処理装置。