JP6408994B2 - 複数のコーティングされたピストンリングを形成する方法 - Google Patents

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Description

関連出願の相互参照
この米国一般特許出願は、2012年10月11日に出願された米国仮特許出願番号第61/712,439号および2013年3月15日に出願された米国仮特許出願番号第61/787,231号の利益を主張し、米国仮特許出願番号第61/712,439号および米国仮特許出願番号第61/787,231号は全文が引用によって本明細書に援用される。
発明の背景
1.発明の分野
本発明は、一般に内燃機関のためのピストンリングに関し、より特定的にはコーティングされたピストンリングおよび当該コーティングされたピストンリングを形成する方法に関する。
2.関連技術
内燃機関などの往復動機関のピストンは、一般に、ピストンの外径に沿った溝に配置されたリングを含んでいる。ピストンリングは、シリンダボア内で往復運動中にピストンを誘導することを容易にする。また、ピストンリングは、燃焼ガスを封じ込めて、オイルの上方への通行を抑制する。ピストンリングは、ガス負荷およびピストンリング自体の固有の負荷により、シリンダボアに沿って移動する際に摩耗にさらされる。したがって、耐摩耗性を向上させるために、ピストンリングは一般にコーティングまたは処理される。例えば、ピストンリングは、窒化されたり、クロムでコーティングされたり、またはセラミックでコーティングされたりする場合があり、これらは物理蒸着(physical vapor deposition:PVD)によって施されてもよい。
発明の概要
本発明は、複数のコーティングピストンリングを形成する方法を提供する。1つの方法は、第1の金属材料からなり、複数の面を含むコイルを設けるステップと、化学蒸着(chemical vapor deposition:CVD)プロセスによって、単一の期間中に、上記コイルの全ての面にコーティングを施すステップと、上記コーティングされたコイルを複数のコーティングされたピストンリングに分割するステップとを備える。
また、本発明は、複数のコーティングされたキーストーンピストンリングを形成する方法を提供する。この方法は、各々が第1の金属材料からなるキーストーンピストンリング本体の積層体を設けるステップと、CVDプロセスによって、単一の期間中に、上記キーストーンピストンリング本体の全ての面にコーティングを施すステップとを含む。
CVDプロセスは、非常に優れた耐摩耗性を有するコーティングされたピストンリングを提供する。また、コーティングされたピストンリングは、ピストンリングの全ての面をコーティングするために複数回のコーティングの実行を必要とする先行技術の方法を使用して形成されたピストンリングと比較して、製造時間およびコストが減少した状態で形成可能である。
本発明の他の利点は、添付の図面に関連付けて検討したときに以下の詳細な説明を参照することによってよりよく理解されるので、容易に認識されるであろう。
1つの例示的な方法に従って形成されたコーティングされたピストンリングの斜視図である。 線A−Aに沿った図1のコーティングされたピストンリングの断面図である。 別の例示的なに従って形成されたコーティングされたキーストーンピストンリングの斜視図である。 線A−Aに沿った図2のコーティングされたキーストーンピストンリングの断面図である。 コーティングされたピストンリングを形成するために使用される例示的な方法を示す。 図1のコーティングされたピストンリングを形成するために使用されるコイルを示す。 CVDコーティングを施した後の線B−Bに沿った図4のコイルの巻きの断面図である。 CVDプロセス中のキーストーンピストンリングの積層体の一部の断面図である。
詳細な説明
本発明は、内燃機関などの往復動機関の用途のための複数のコーティングされたピストンリング10,110を形成するための改良された方法を提供する。コーティングされたピストンリング10,110を形成する方法は、化学蒸着(CVD)プロセスを含み、必要なコーティングの実行が1回だけであり、複数回のコーティングの実行を必要とする方法と比較して製造時間およびコストが減少する。また、CVDプロセスは、非常に優れた耐摩耗性を有するコーティングされたピストンリング10,110を提供する。
図1および図2は、本発明の方法に従って形成されたコーティングされたピストンリング10,110の例である。コーティングされたピストンリング10,110は、一般に、燃焼ガスを封じ込めてオイルの上方への通行を抑制しながら、シリンダボア内で往復運動中にピストンを誘導することを容易にするために、ピストン(図示せず)の外径に沿った溝に配置されている。各々のコーティングされたピストンリング10,110は、他のコーティングされたピストンリング10,110に隣接して、または他のコーティングされたピストンリング10,110の間に配置されてもよい。
図1および図2に示されるように、コーティングされたピストンリング10,110は、中心軸Aの周りに周方向に延びるリング本体12,112を含んでいる。コーティングされたピストンリング10,110の本体12,112は、一般に、鋳鉄、鋼または鋳鋼などの鉄ベースの材料からなっているが、往復動機関の状況に対処することができる別の材料からなっていてもよい。リング本体12,112は、外径面14,114と、外径面14,114とは反対方向を向いた内径面16,116と、外径面14,114および内径面16,116を互いに間隔をあけて配置する側面18,118とを示す。リング本体12,112は、一般に、面14,114,16,116,18,118の各々に沿って開口20,120を示すように分割されている。リング本体12,112は、フルフェースであってもよく、セミインレイドであってもよく、または完全にインレイドであってもよい。例えば、リング本体12,112は、外径面14,114に沿って溝(図示せず)を示してもよく、または外径面14,114に埋込まれた別個の第2の金属材料(図示せず)を含んでいてもよい。
図1のコーティングされたピストンリング10は、標準的な設計を備えている。標準的なピストンリング10の断面図が図1Aに示されている。図2のコーティングされたピストンリング110は、「キーストーン」ピストンリングと呼ばれる。図2Aは、コーティングされたキーストーンピストンリング110の断面図であり、コーティングされたキーストーンピストンリング110がキーストーンピストンリング本体112を含み、側面118の各々が、外径面114に対してある角度で配置され、外径面114から内径面116まで互いの方に内向きに延びていることを示している。また、キーストーンピストンリング本体112の外径面114はわずかに凸状であってもよく、内径面116はわずかに凹状であってもよい。
コーティングされたピストンリング10,110は、外径面14,114と、内径面16,116と、側面18,118とを含む、リング本体12,112の複数の面14,114,16,116,18,118、好ましくはリング本体12,112の全ての面14,114,16,116,18,118の上に堆積されたCVDコーティング22も含んでいるが、当該CVDコーティング22は、開口20,120に面した切断面の上には堆積されていない。
リング本体12の外径面14,114に沿って配置されたCVDコーティング22の部分は、往復動機関の動作中にシリンダボア(図示せず)と係合するための運転面を提供する。CVDコーティング22は、1回のコーティングの実行で複数のピストンリング本体12,112の面14,114,16,116,18,118に施されることができる。したがって、面をコーティングするために複数回の実行を必要とする方法を使用して形成される先行技術のコーティングされたピストンリングと比較して、より短い時間で、より低い製造コストで、複数のコーティングされたピストンリング10,110を製造することができる。
CVDコーティング22は、少なくとも1つの層24を含んでいるが、図1Aに示されるように複数の層24を含んでいてもよい。例えば、CVDコーティング22は、ベース層と、中間層と、最上層とを含んでいてもよい。窒素および炭素のうちの少なくとも1つと、チタン、クロムおよびハフニウムのうちの少なくとも1つとを含む組成物などのさまざまな異なる組成物が、CVDコーティング22を形成するために使用可能である。組成物の例としては、TiN、CrN、HfN、TiCN、TiCおよびCrCが挙げられる。CVDコーティング22の組成物は、好ましくは高い耐摩耗性を提供する。一実施例によれば、CVDコーティング22は複数の層24を備え、ベース層がTiCを含み、中間層がAlを含み、最上層がTiNを含んでいる。CVDコーティング22が複数の層24を備える別の実施例によれば、ベース層がTiCを含み、中間層がTiCNを含み、最上層がTiNを含んでいる。CVDコーティング22の各層24の厚みはさまざまであり得るが、コーティング22は一般に約10μm〜約50μmの総厚みを有している。CVDコーティング22がリング本体12,112上に堆積された後、一般に熱処理および仕上げステップがコーティングされたピストンリング10,110に適用される。
図1のコーティングされたピストンリング10を形成するために使用される例示的な方法が図3に示されている。当該方法は、一般に鉄ベースの材料である、リング本体12を形成するために使用される第1の金属材料を提供するステップを含む。このステップは、第1の金属材料からなるワイヤを設けるステップを含む。ワイヤは、外径面14と、内径面16と、側面18とを含んでいる。一実施例によれば、当該方法は、ワイヤの外径面14に沿って溝(図示せず)を形成するステップ、第1の金属材料とは異なる第2の金属材料(図示せず)をワイヤの外径面14に埋込むステップ、またはワイヤの外径面14を象眼するステップを含む。
次に、当該方法は、ワイヤを巻付けるステップを含む。このステップは、図4に示されるようにコイル32を提供するために中心軸Aの周りに周方向にワイヤを巻付けるステップを含む。コイル32は、中心軸Aに沿って連続的に延び、中心軸Aの周りに周方向に延びる複数の巻き34を含んでいる。各々の巻きは、外径面14と、内径面16と、側面18とを含んでいる。コーティングステップ後のコイル32の3つの巻き34の断面図が図5に示されている。巻き34は、互いにわずかに間隔があいているか、または互いに係合しているかのいずれかである。
ワイヤを巻付けた後、当該方法は、単一の連続的な期間中にコイル32の各々の巻き34の全ての面14,16,18にCVDコーティング22を施すステップを含み、単一の連続的な期間は、1回のコーティングの実行または1回の塗布ステップとも呼ばれる。コーティングは、単一の期間中に、外径面14、内径面16および側面18に施される。
当該方法が、コイル32を設けるステップの代わりに、コーティングされたキーストーンピストンリング110を形成するステップを含む別の実施例では、当該方法は、各々が第1の金属材料からなるキーストーンピストンリング本体112の積層体を設けるステップと、次いで1回の塗布ステップにおいて各々のキーストーンピストンリング本体112の全ての面114,116,118にCVDコーティング22を施すステップとを含む。図6は、CVDコーティングプロセス中のキーストーンピストンリング本体112の積層体の一部を示す。この実施例では、1回のコーティングの実行中に、開口120に沿った切断面をコーティングすることができる。
1回だけのコーティングの実行によりリング本体12,112の面14,114,16,116,18,118をコーティングするために化学蒸着(CVD)プロセスが使用される。当該技術分野において公知のいかなるタイプのCVDプロセスも使用可能である。使用可能なCVDプロセスのタイプの例としては、大気圧CVD、低圧CVDおよびプラズマCVDが挙げられる。CVDプロセスは、900〜1050℃などの高温、700〜900℃などの中温、または500℃以下の低温で行われることができる。一実施例によれば、当該プロセスは、コイル32またはキーストーンピストンリング本体112を反応チャンバに配置するステップと、コイル32またはキーストーンピストンリング本体112を加熱するステップと、CVDコーティング22を形成するために使用されるガスの形態の組成物を提供するステップと、反応チャンバ内の加熱されたコイル32またはキーストーンピストンリング本体112に当該ガスを供給するステップと、加熱されたコイル32またはキーストーンピストンリング本体112の上にコーティング22を堆積させるステップとを含む。一実施例では、図6に示されるように、複数のオリフィス28を有する管26が反応チャンバに配置され、当該管およびオリフィスを通してガスが供給されて、より均一な分布がもたらされる。
コーティングを施している間、当該方法は、一般に、コイル32の巻き34またはキーストーンピストンリング本体112を、隣接する巻き34またはキーストーンピストンリング本体112に対して固定された位置に維持するステップを含む。例えば、コイル32は、コーティング22を施している間、各々の巻き34が1μm以下だけ隣接する巻き34から間隔があいた状態で、固定された位置に吊るされてもよい。コイル32の全ての面14,16,18は、CVDプロセス中にコイル32を回転または移動させる必要なくコーティングされる。また、CVDプロセス中にリング本体112を所定の位置に保持するために、シリンダ30、例えばグラファイトシリンダがキーストーンピストンリング本体112の積層体の周りに配置されてもよい。キーストーンピストンリング本体112の全ての面114,116,118は、CVDプロセス中にキーストーンピストンリング本体112を回転または移動させる必要なくコーティングされる。
ガスの組成物は、加熱されたコイル32またはキーストーンピストンリング本体112と接触すると化学反応を起こし、および/または、分解し、コイル32またはキーストーンピストンリング本体112の上に高密度の堆積物を提供する。化学反応中に生成されたいかなる揮発性の副生成物も、反応チャンバを通るガス流によって除去されることができる。CVDプロセスは、単一の層24または複数の層24を施すステップを含み得る。層24は、同一の組成を含んでいてもよく、または異なる組成を含んでいてもよい。
CVDプロセスは見通し外プロセスであるため、コイル32の全ての面14,16,18およびキーストーンピストンリング本体112の全ての面114,116,118は、1μm以下だけ互いに間隔があいた面または互いに接触している面などの互いに近接する面でさえ、1回の実行でコーティングされる。図5は、1回の塗布ステップでコーティングされた、側面18が1μm未満だけ離れた状態の隣接するコーティングされたピストンリング10の一例を示す。コイル32の全ての面14,16,18またはキーストーンピストンリング110の全ての面114,116,118は、単一の連続的な期間に組成物をコイルに供給することによってコーティングされ得る。コイル32およびキーストーンピストンリング110は回転させる必要がなく、別々の面14,114,16,116,18,118をコーティングするために別々のコーティング堆積ステップは必要ない。したがって、当該方法は、先行技術のコーティングされたピストンリングを形成するために使用される方法と比較して、製造時間およびコストが減少する。
CVDコーティングがコイル32に施されると、当該方法は、コイル32を複数の別々の巻きに分割するステップを含み、各々の巻きは、コーティングされたピストンリング10のうちの1つを提供する。当該分割ステップは、一般に、当該技術分野において公知の方法に従ってコイル32を切断するステップを含む。開口20に沿った切断面は、コーティングされていない唯一の面である。
当該方法は、リング本体12,112の金属材料の硬度を上昇させるためにコーティングされたピストンリング10,110を熱処理するステップをさらに含み得る。当該熱処理ステップは、加熱および焼入れ、焼戻し、オーステンパ、マルテンパ、またはそれらの組合わせなどのさまざまな異なるタイプの硬化ステップを含み得る。オーステンパは、一般に、リング本体12,112が鋼およびダクタイル鉄などの鉄系材料からなっている場合に使用される。鋼により低いベイナイト微細構造を生じさせ、鋳鉄に針状フェライトおよび高炭素構造を生じさせるのは、恒温熱処理である。マルテンパは、ピストン本体12,112が鋼からなっている場合に一般に使用される熱処理である。マルテンパステップは、オーステナイト化に続いて、フェライト、パーライトまたはベイナイトの形成を回避するのに十分に速い速度でマルテンサイト開始点をわずかに上回る温度まで焼入れするステップを含む。一実施例によれば、熱処理ステップは、CVDコーティング22の起こり得る酸化を防ぐために真空または不活性ガス熱処理を含む。
また、当該方法は、コーティングされたピストンリング10,110の運転面を事後コーティングするなどの仕上げステップを含み得る。当該仕上げステップは、コーティングされたピストンリング10,110の側面18,118を研削、研磨および/またはラッピングするステップも含み得る。
明らかに、本発明の多くの変形および変更が、上記の教示に鑑みて可能であり、特許請求の範囲内で、具体的に記載されているものとは異なる態様で実施可能である。

Claims (20)

  1. 複数のコーティングされたピストンリングを形成する方法であって、
    第1の金属材料からなり、複数の面を含むコイルを設けるステップと、
    化学蒸着(CVD)プロセスによって、単一の期間中に、前記コイルの全ての面にコーティングを施すステップとを備え、前記コイルは、各々の巻きが隣接する巻きから間隔があいた状態で吊るされ、前記方法はさらに
    前記コーティングされたコイルを複数のコーティングされたピストンリングに分割するステップを備える、方法。
  2. 前記コイルは、中心軸に沿って連続的に延び、前記中心軸の周りに周方向に延びる複数の巻きを含み、前記方法は、前記コーティングを施している間、各々の巻きが1μm以下だけ隣接する巻きから間隔があいた状態で、固定された位置に前記コイルを維持するステップを含む、請求項1に記載の方法。
  3. 前記コイルは、中心軸に沿って連続的に延び、前記中心軸の周りに周方向に延びる複数の巻きを含み、前記方法は、前記中心軸に沿って複数のオリフィスを有する管を配置するステップと、前記CVDプロセス中に前記管の前記オリフィスを通して前記コーティングの組成物を含むガスを供給するステップとを含む、請求項1に記載の方法。
  4. 前記コーティングの組成物は、窒素および炭素のうちの少なくとも1つと、チタン、クロムおよびハフニウムのうちの少なくとも1つとを含む、請求項1に記載の方法。
  5. 前記コーティングは、複数の層を含み、各層は、TiN、CrN、HfN、TiCN、TiC、CrCおよびAlのうちの少なくとも1つを含む、請求項4に記載の方法。
  6. 前記複数の層は、TiCからなるベース層と、Alからなる中間層と、TiNからなる最上層とを含む、請求項5に記載の方法。
  7. 前記CVDプロセスは、反応チャンバにおいて前記コイルを加熱するステップと、前記コーティングの組成物を含むガスを前記反応チャンバに供給するステップと、前記加熱されたコイルの全ての面の上に前記組成物を堆積させるステップとを含む、請求項1に記載の方法。
  8. 前記コーティングの前記組成物は、TiN、CrN、HfN、TiCN、TiC、CrCおよびAlのうちの少なくとも1つを含む、請求項7に記載の方法。
  9. 前記CVDプロセスは、大気圧で行われる、請求項1に記載の方法。
  10. 前記CVDプロセスは、500℃以下の温度で行われる、請求項1に記載の方法。
  11. 前記CVDプロセスは、700〜1050℃の温度で行われる、請求項1に記載の方法。
  12. 前記第1の金属材料のワイヤを設けるステップと、前記ワイヤを前記コイルに形成するステップと、以下のステップ、すなわち前記ワイヤの外径面に沿って溝を形成するステップおよび前記第1の金属材料とは異なる第2の金属材料を前記ワイヤの外径面に埋込むステップ、のうちの少なくとも1つとを含む、請求項1に記載の方法。
  13. 各々の巻きは、内径面と、外径面と、中心軸の周りに周方向に延びる側面とを含み、前記コーティングは、前記面の各々の上に配置される、請求項1に記載の方法。
  14. 複数のコーティングされたキーストーンピストンリングを形成する方法であって、
    各々が第1の金属材料からなるキーストーンピストンリング本体の積層体を設けるステップと、
    化学蒸着(CVD)プロセスによって、単一の期間中に、前記キーストーンピストンリング本体の全ての面にコーティングを施すステップとを備え、前記キーストーンピストンリング本体は、各々の巻きが隣接する巻きから間隔があいた状態で吊るされる、方法。
  15. 各々のキーストーンピストンリング本体は、内径面と、外径面と、中心軸の周りに周方向に延びる一対の側面とを含み、前記側面は、前記外径面から前記内径面まである角度で互いの方に内向きに延びており、前記外径面は凸状であり、前記内径面は凹状である、請求項14に記載の方法。
  16. 前記コーティングを施している間、隣接するキーストーンピストンリング本体に対して固定された位置に各々のキーストーンピストンリング本体を維持するステップを含む、請求項14に記載の方法。
  17. 前記固定された位置に前記キーストーンピストンリング本体を維持するために、前記キーストーンピストンリング本体の積層体の周りにシリンダを配置するステップを含む、請求項16に記載の方法。
  18. 各々のキーストーンピストンリング本体は、中心軸の周りに周方向に延びており、前記方法は、前記中心軸に沿って複数のオリフィスを有する管を配置するステップと、前記CVDプロセス中に前記管の前記オリフィスを通して前記コーティングの組成物を含むガスを供給するステップとを含む、請求項14に記載の方法。
  19. 前記コーティングを施している間、前記積層体における各々のキーストーンピストンリング本体は、1μm以下だけ隣接するキーストーンピストンリング本体から間隔があいている、請求項14に記載の方法。
  20. 複数のコーティングされたピストンリングを形成する方法であって、
    鉄ベースの材料からなるワイヤを設けるステップと、
    前記ワイヤを中心軸の周りに巻付けて、中心軸に沿って連続的に延び、前記中心軸の周りに周方向に延びる複数の巻きを有するコイルを形成するステップとを備え、前記コイルは、各々の巻きが隣接する巻きから間隔があいた状態で吊るされ、前記方法はさらに
    前記コイルを反応チャンバに配置するステップと、
    前記反応チャンバ内の前記コイルを加熱するステップと、
    前記反応チャンバにガスを供給するステップとを備え、前記ガスは、以下の組成物、すなわちTiN、CrN、HfN、TiCN、TiC、CrCおよびAl、のうちの少なくとも1つを含み、前記方法はさらに、
    単一の連続的な期間中に、前記コイルの全ての面の上に、前記少なくとも1つの組成物からなるコーティングを堆積させるステップと、
    前記面の上に前記コーティングを堆積させている間、各々の巻きが1μm以下だけ隣接する巻きから間隔があいた状態で、固定された位置に前記コイルを維持するステップと、
    前記反応チャンバを通るガス流を供給して、前記反応チャンバからいかなる揮発性の副生成物も除去するステップと、
    前記コーティングされたコイルを複数の別々のコーティングされたピストンリングに分割するステップとを備え、前記複数の別々のコーティングされたピストンリングの各々は、内径面と、外径面と、各々が中心軸の周りに周方向に延び、前記面の各々の上に堆積された前記コーティングを含む側面とを含み、前記方法はさらに、
    前記コーティングされたピストンリングの前記鉄ベースの材料を硬化させるステップを備え、
    前記硬化させるステップは、以下のステップ、すなわち加熱および焼入れ、焼戻し、オーステンパおよびマルテンパ、のうちの少なくとも1つを含む、方法。
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